【請求項1】
(1A) 酸化窒素を生成するためのシステムであって、
・記載：NOの濃度が高いほど希釈レベルを低くすることが可能だが、酸化によるNOの損失が増加する
・段落：0030,0031
・符号：NO生成システム
・図面：なし
(1B) プラズマチャンバであって、
・記載：プラズマパラメータ、反応ガス流量、圧力、温度、湿度などのプロセス変数を含むプラズマチャンバ
・段落：0031,0034
・符号：プラズマチャンバ
・図面：なし
(1C) 反応ガスの流れから生成ガス内に酸化窒素を生成するために前記プラズマチャンバに信号を送信するように構成される共振高電圧回路と通信状態にある2つ以上の電極を収納する、
・記載：高電圧生成器回路は第1および第2以外の高調波の組み合わせを利用して回路の異なる動作モードを励起する
・段落：0231,0233,0236
・符号：共振高電圧回路, 電極
・図面：図15
(1D) プラズマチャンバと、
・記載：反応ガス流が電極ギャップの長さを超えるプラズマアーク増加をもたらす
・段落：0034,0039
・符号：プラズマチャンバ
・図面：なし
(1E) 前記共振高電圧回路を励起するために複数の高調波周波数を有するパルス幅変調信号を生成するように構成される制御器であって、
・記載：矩形波をもたらすMOSFET励起回路は基本励起周波数の高調波を含む
・段落：0236,0237,0245
・符号：制御器
・図面：図6A,図6B
(1F) 前記制御器は、前記パルス幅変調信号のデューティサイクルを調節するように構成され、
・記載：パルス幅は2つ以上の別個のデューティサイクルが交互にとられる
・段落：0245,0246,0249
・符号：制御器
・図面：図19
(1G) 前記制御器は、前記プラズマチャンバ内のプラズマ形成前の目標電圧およびプラズマ形成後の目標電流に基づいて前記デューティサイクルを選択する、
・記載：一定の第2高調波振幅を維持するためにd1の関数として変調されるd2を示す
・段落：0251,0252
・符号：制御器
・図面：図20,図22
(1H) 制御器とを備える、
・記載：波形整形を使用することによってプラズマ電流はパルス変調プラズマの各パルス内で変調される
・段落：0255,0258
・符号：制御器
・図面：なし
(1I) システム。
・なし
【請求項2】
(2A) 前記プラズマ形成前の電圧および前記プラズマ形成後の電流は、
・記載：一貫したプラズマ形成時間を提供し、プラズマ形成後に可変電流を提供する
・段落：0251
・符号：なし
・図面：なし
(2B) 前記パルス幅変調信号内の高調波振幅を変化させることによって独立して制御される、
・記載：2つの別個のデューティサイクルからなる波形の高調波振幅により制御
・段落：0245,0246
・符号：なし
・図面：なし
(2C) 請求項1に記載のシステム。
・なし
【請求項3】
(3A) 前記高調波振幅は、
・記載：50kHzおよび100kHzの両方において制御された高調波を提供する
・段落：0245,0246
・符号：なし
・図面：図19
(3B) 前記パルス幅変調信号の2つ以上のデューティサイクルを交互にとることによって変化される、
・記載：波形内のパルス周波数は100kHzで2つのデューティサイクルを交互にとる
・段落：0245
・符号：なし
・図面：なし
(3C) 請求項2に記載のシステム。
・なし
【請求項4】
(4A) 前記プラズマ形成後の電流の制御は、
・記載：一定の第2高調波振幅を維持しながら第1高調波振幅を変動させる
・段落：0251,0252
・符号：なし
・図面：図20,図22
(4B) プラズマパルス内の電流変調を可能にする、
・記載：パルス変調プラズマの各パルス内でプラズマ電流を変調
・段落：0255
・符号：なし
・図面：なし
(4C) 請求項2に記載のシステム。
・なし

【請求項1】
(1A) 遠隔制御装置であって、
・種別：相違
・一致点：なし
・相違点：特許文書2は車両誘導装置、特許文書3は位置姿勢推定装置であり、遠隔制御装置とは異なる
・段落：0009[2],0011[3]
(1B) 測距装置を用いて測定された3次元点群データを取得する点群データ取得部と、
・種別：両方
・一致点：特許文書3の「3次元の点群データを検出する検出部」に相当
・相違点：特許文書2は超音波センサやカメラを用いるが、測距装置による3次元点群データの取得は記載なし
・段落：0015[2]-0020,0012[3]
(1C) 前記3次元点群データに対して、移動体を示すテンプレート点群をマッチングさせることによって、
・種別：両方
・一致点：特許文書3の「対象物体のモデルデータに基づいて...3次元特徴マッチング」に相当
・相違点：特許文書2は3次元点群データのマッチングについて記載なし
・段落：0017[2]-0018,0018[3]-0020
(1D) 前記3次元点群データにおける前記移動体の位置及び向きの少なくとも一方を推定する位置推定部と、
・種別：両方
・一致点：特許文書3の「対象物体の位置及び姿勢を推定する」に相当
・相違点：特許文書2は画像認識による位置検出のみで、3次元点群データからの推定ではない
・段落：0017[2],0023[3]
(1E) 前記位置推定部によって前記3次元点群データに対して前記テンプレート点群のマッチングが開始される開始位置を決定する開始位置決定部と、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：開始位置決定に関する記載なし
・段落：なし
(1F) 推定された前記移動体の位置及び向きの少なくとも一方を用いて、前記移動体を遠隔制御するための制御指令を生成して前記移動体に送信する遠隔制御部と、
・種別：両方
・一致点：特許文書2の「制御信号に基づいて自動走行する」に相当
・相違点：特許文書3は制御指令の生成・送信について記載なし
・段落：0027[2],0013[3]
(1G) を備える、
・なし
(1H) 遠隔制御装置。
・なし
【請求項2】
(2A) 前記開始位置決定部は、前記3次元点群データにおける前記移動体の位置に関する情報を用いて、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：開始位置決定に関する記載なし
・段落：なし
(2B) 前記開始位置を決定する、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：開始位置決定に関する記載なし
・段落：なし
(2C) 請求項1に記載の遠隔制御装置。
・なし
【請求項3】
(3A) 請求項2に記載の遠隔制御装置であって、
・なし
(3B) 前記開始位置決定部は、前回に前記3次元点群データと前記テンプレート点群とのマッチングが完了した前回マッチング位置を、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：前回マッチング位置に関する記載なし
・段落：なし
(3C) 前記移動体の位置に関する情報として取得し、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：前回マッチング位置に関する記載なし
・段落：なし
(3D) 取得された前記前回マッチング位置を用いて、前記開始位置を決定する、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：前回マッチング位置に関する記載なし
・段落：なし
(3E) 遠隔制御装置。
・なし
【請求項4】
(4A) 請求項3に記載の遠隔制御装置であって、
・なし
(4B) 前記開始位置決定部は、さらに、前回マッチングが完了した時点から今回マッチングを実行するまでの間に前記前回マッチング位置から移動した前記移動体の移動後の位置を推定し、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：移動後位置の推定に関する記載なし
・段落：なし
(4C) 推定された前記移動後の位置を用いて前記開始位置を決定する、
・種別：なし
・一致点：なし
・相違点：移動後位置の推定に関する記載なし
・段落：なし
(4D) 遠隔制御装置。
・なし

図1 ペンブロリズマブとPH20変異体断片2の製剤の温度依存性粘度プロファイルを示す
・説明：5°Cおよび25°Cにおけるペンブロリズマブ(100mg/ml)とPH20変異体断片2の異なる濃度の製剤の粘度を測定し、温度による変化を比較している
・符号：ペンブロリズマブ(100mg/ml),PH20変異体断片2
・段落：0010,0011
図2 製剤の高分子量種(HMWS)の割合を示す
・説明：初期、1ヶ月、3ヶ月、6ヶ月の各時点で、5°C、25°C、40°CにおけるペンブロリズマブとPH20変異体断片2の製剤のHMWSの割合をUP-SEC法で測定し、時間経過による変化を示している
・符号：HMWS
・段落：0020,0021
図3 製剤の酸性変異体の割合を示す
・説明：初期、1ヶ月、3ヶ月、6ヶ月の各時点で、5°C、25°C、40°CにおけるペンブロリズマブとPH20変異体断片2の酸性変異体の割合をHP-IEX法で測定し、時間経過による変化を示している
・符号：酸性変異体
・段落：0030,0031
図4 製剤の主要変異体の割合を示す
・説明：初期、1ヶ月、3ヶ月、6ヶ月の各時点で、5°C、25°C、40°CにおけるペンブロリズマブとPH20変異体断片2の主要変異体の割合をHP-IEX法で測定し、時間経過による変化を示している
・符号：主要変異体
・段落：0040,0041
図5 製剤の塩基性変異体の割合を示す
・説明：初期、1ヶ月、3ヶ月、6ヶ月の各時点で、5°C、25°C、40°CにおけるペンブロリズマブとPH20変異体断片2の塩基性変異体の割合をHP-IEX法で測定し、時間経過による変化を示している
・符号：塩基性変異体
・段落：0050,0051
図6 ペンブロリズマブにおけるMet[105]酸化種を示す
・説明：初期、1ヶ月、3ヶ月、6ヶ月の各時点で、5°C、25°C、40°CにおけるペンブロリズマブのMet[105]酸化種の割合を測定し、時間経過による変化を示している
・符号：Met[105]酸化種
・段落：0060,0061