出願人・権利者「株式会社日立製作所」の直近(2020-01-01〜2020-09-30)の特許出願件数は 1,060件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-09-30)の特許出願件数 1,077件 に比べて -17件(-1.6%) と僅かに減少しています。
出願件数が最も多い年は 2012年 の2,604件、最も少ない年は 2020年 の1,247件です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計7,633件)の平均値は1,527件、中央値は1,479件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.14であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,527 件 |
標準偏差 | 212 |
変動係数 | 0.14 |
直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 1,247 件 | -11.75 % |
2019 年 | 1,413 件 | -4.46 % |
2018 年 | 1,479 件 | -8.59 % |
株式会社日立製作所の過去10年間(2012-01-01〜2022-05-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、株式会社日立製作所の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、株式会社日立製作所の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった株式会社日立製作所の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。
パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「株式会社日立製作所」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「株式会社日立製作所」の各国における特許出願動向を確認できます。
国名 | 出願人・権利者名 |
---|---|
日本 | 株式会社日立製作所 |
米国 | HITACHI LTD |
欧州 | HITACHI LTD |
PCT | HITACHI LTD |
株式会社日立製作所 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、株式会社日立製作所においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
株式会社日立製作所 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「16,738件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
株式会社日立製作所と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の4,364件、次に多いのは パナソニックIPマネジメント株式会社 の2,587件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 4,364 件 |
パナソニックIPマネジメント株式会社 | 2,587 件 |
三菱電機株式会社 | 2,460 件 |
株式会社東芝 | 1,500 件 |
株式会社日立製作所 | 1,271 件 |
富士通株式会社 | 1,092 件 |
シャープ株式会社 | 973 件 |
ダイキン工業株式会社 | 769 件 |
三菱重工業株式会社 | 638 件 |
富士電機株式会社 | 615 件 |
日本電気株式会社 | 545 件 |
沖電気工業株式会社 | 499 件 |
キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | 465 件 |
三星電子株式会社 | 415 件 |
東芝インフラシステムズ株式会社 | 376 件 |
東芝エネルギーシステムズ株式会社 | 314 件 |
日立グローバルライフソリューションズ株式会社 | 259 件 |
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 171 件 |
株式会社富士通ゼネラル | 166 件 |
株式会社IHI | 164 件 |
コーニンクレッカフィリップスエヌヴェ | 115 件 |
アンリツ株式会社 | 115 件 |
三菱電機照明株式会社 | 103 件 |
株式会社タムラ製作所 | 83 件 |
日本航空電子工業株式会社 | 78 件 |
株式会社エンプラス | 76 件 |
三菱電機ホーム機器株式会社 | 57 件 |
オリンパス株式会社 | 54 件 |
東芝デジタルソリューションズ株式会社 | 50 件 |
アイホン株式会社 | 46 件 |
新電元工業株式会社 | 37 件 |
船井電機株式会社 | 35 件 |
三洋電機株式会社 | 24 件 |
古野電気株式会社 | 19 件 |
サンケン電気株式会社 | 16 件 |
象印マホービン株式会社 | 9 件 |
日本電信電話株式会社 | 5 件 |
東芝テック株式会社 | 2 件 |
東芝ライフスタイル株式会社 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の64,426件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の41,324件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 64,426 件 |
三菱電機株式会社 | 41,324 件 |
パナソニックIPマネジメント株式会社 | 40,513 件 |
株式会社東芝 | 27,760 件 |
富士通株式会社 | 21,374 件 |
シャープ株式会社 | 21,299 件 |
株式会社日立製作所 | 16,738 件 |
日本電気株式会社 | 16,709 件 |
オリンパス株式会社 | 8,273 件 |
三菱重工業株式会社 | 7,892 件 |
ダイキン工業株式会社 | 7,251 件 |
富士電機株式会社 | 7,171 件 |
コーニンクレッカフィリップスエヌヴェ | 6,450 件 |
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 5,128 件 |
キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | 4,890 件 |
沖電気工業株式会社 | 4,436 件 |
株式会社IHI | 4,105 件 |
東芝インフラシステムズ株式会社 | 4,059 件 |
三星電子株式会社 | 3,960 件 |
日立グローバルライフソリューションズ株式会社 | 3,423 件 |
東芝エネルギーシステムズ株式会社 | 2,716 件 |
株式会社富士通ゼネラル | 1,847 件 |
船井電機株式会社 | 1,738 件 |
三洋電機株式会社 | 1,725 件 |
三菱電機照明株式会社 | 1,600 件 |
三菱電機ホーム機器株式会社 | 1,558 件 |
新電元工業株式会社 | 1,031 件 |
東芝テック株式会社 | 1,024 件 |
株式会社タムラ製作所 | 931 件 |
日本航空電子工業株式会社 | 822 件 |
アンリツ株式会社 | 820 件 |
株式会社エンプラス | 752 件 |
サンケン電気株式会社 | 642 件 |
古野電気株式会社 | 623 件 |
東芝ライフスタイル株式会社 | 585 件 |
東芝デジタルソリューションズ株式会社 | 581 件 |
アイホン株式会社 | 560 件 |
象印マホービン株式会社 | 306 件 |
ソニー株式会社 | 114 件 |
日本電信電話株式会社 | 70 件 |
ソニーグループ株式会社 | 43 件 |
東芝コンシューマエレクトロニクス・ホールディングス株式会社 | 13 件 |
東芝デバイスソリューション株式会社 | 1 件 |
同業47社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社日立製作所の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。
上位共願人を確認することで、株式会社日立製作所がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。
また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、株式会社日立製作所のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。
上位共願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、共願件数が最も多いのは 日本電信電話株式会社 の6件、次に多いのは 株式会社日立ソリューションズ・テクノロジー の1件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
日本電信電話株式会社 | 6 件 |
株式会社日立ソリューションズ・テクノロジー | 1 件 |
株式会社日立製作所 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
日本電信電話株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の共願件数は 6件 です。
過去5年間の共願件数(2016〜2020年、計3件)の平均値は0.6件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は2.0であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。
共願件数が最も多い年は 2016年 の3件、最も少ない年は 2012年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.6 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 2.0 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2016 年 | 3 件 | +200 % |
2015 年 | 1 件 | - |
2014 年 | 0 件 | -100 % |
株式会社日立製作所 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、株式会社日立製作所が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 6件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6899897号「状態監視装置、並びに機器システム」(異議申立日 2021-12-27)、次は 特許6893247号「半二次電池および二次電池」(異議申立日 2021-12-20)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6899897 | 状態監視装置、並びに機器システム | 2021-12-27 |
2 | 特許6893247 | 半二次電池および二次電池 | 2021-12-20 |
3 | 特許6533548 | 乗客コンベア | 2019-11-26 |
4 | 特許6510436 | 物品搬送システム、搬送装置及び物品搬送方法 | 2019-11-07 |
5 | 特許6499952 | 水処理システム | 2019-10-10 |
6 | 特許6476094 | リチウムイオン二次電池 | 2019-08-26 |
直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 10件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2020-064755号「電池パック」(情報提供日 2022-05-06)、次は 特開2021-004807号「放射性核種の製造方法および放射性核種の製造システム」(情報提供日 2022-03-23)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2020-064755 | 電池パック | 2022-05-06 |
2 | 特開2021-004807 | 放射性核種の製造方法および放射性核種の製造システム | 2022-03-23 |
3 | 特開2019-181377 | 窒素処理方法 | 2021-03-23 |
4 | 特許6975005 | 電力変換装置、その制御装置および制御方法、並びに発電システム | 2020-12-11 |
5 | 特許6895270 | 塗膜形成方法 | 2020-07-29 |
6 | 特開2019-050773 | 細胞培養基材、細胞培養容器、及び細胞培養方法 | 2020-07-20 |
7 | 特許6993792 | Webアクセス制御装置 | 2020-02-13 |
8 | 特許6925123 | 自然エネルギー発電システム、無効電力コントローラまたは自然エネルギー発電システムの制御方法 | 2020-01-10 |
9 | 特許6606456 | 電磁ブレーキ装置 | 2019-09-30 |
10 | 特許6669600 | 鉄道車両の状態監視システム | 2019-06-24 |
直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 33件 ありました。平均情報提供数は 1.7回 です。 情報提供数が多い特許は 特許5986836号「リチウムイオン二次電池用負極材、リチウムイオン二次電池用負極、リチウムイオン二次電池およびそれらの製造方法」(4回)、次に多い特許は 特許6895270号「塗膜形成方法」(3回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5986836 | リチウムイオン二次電池用負極材、リチウムイオン二次電池用負極、リチウムイオン二次電池およびそれらの製造方法 | 4 回 |
2 | 特許6895270 | 塗膜形成方法 | 3 回 |
3 | 特許6499910 | 電力取引支援装置及び方法、または応用装置 | 2 回 |
4 | 特許5984137 | 水処理装置および水処理方法 | 2 回 |
5 | 特許6377210 | 連結列車への貫通路を備えた鉄道車両 | 2 回 |
直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 39件 ありました。平均閲覧請求数は 1.8回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特許6767949号「超音波プローブ」(閲覧請求日 2022-05-09)、次は 特開2021-004807号「放射性核種の製造方法および放射性核種の製造システム」(閲覧請求日 2022-04-21)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6767949 | 超音波プローブ | 2022-05-09 |
2 | 特開2021-004807 | 放射性核種の製造方法および放射性核種の製造システム | 2022-04-21 |
3 | 特開2019-091803 | 超伝導磁石装置 | 2022-01-28 |
4 | 特開2021-177517 | 半導体装置 | 2021-12-17 |
5 | 特開2020-071979 | MgB2超電導線およびこれを用いた超電導コイル、MRI | 2021-09-29 |
6 | 特開2019-181377 | 窒素処理方法 | 2021-07-15 |
7 | 特許7042056 | プラントの運転支援装置及び運転支援方法 | 2021-06-07 |
8 | 特許5263308 | 記録再生装置及び記録媒体 | 2021-02-22 |
9 | 特開2019-219170 | 放射線モニタ | 2021-02-05 |
10 | 特許7038011 | 電力系統運用支援装置および方法、並びに振動抑制システム | 2021-01-27 |
11 | 特許6909742 | メタン製造設備及びメタン製造方法 | 2021-01-25 |
12 | 特許7014690 | メタン製造システム | 2021-01-25 |
13 | 特許7028600 | メタン製造システム及びメタン製造方法 | 2021-01-25 |
14 | 特開2020-033283 | メタン製造システム及びメタン製造方法 | 2021-01-25 |
15 | 特許6975005 | 電力変換装置、その制御装置および制御方法、並びに発電システム | 2021-01-20 |
16 | 特開2020-106153 | 空調制御システム及び方法 | 2021-01-19 |
17 | 特開2020-110747 | 水処理システム | 2021-01-19 |
18 | 特開2020-091669 | 状態変化検出システム | 2021-01-19 |
19 | 特開2019-102006 | 設備計画装置、設備計画方法及び設備計画プログラム | 2021-01-19 |
20 | 特許6820876 | 磁気共鳴撮影装置、感度分布算出方法、及び、感度分布算出プログラム | 2020-12-23 |
直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 85件 ありました。平均閲覧請求数は 1.8回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許5701325号「バラスト水処理システム」(10回)、次に多い特許は 特許5945309号「バラスト水処理システム」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5701325 | バラスト水処理システム | 10 回 |
2 | 特許5945309 | バラスト水処理システム | 6 回 |
3 | 特開2016-053786 | ソフトウェア開発能力算出システム | 4 回 |
4 | 特許6895270 | 塗膜形成方法 | 4 回 |
5 | 特開2015-054300 | 本人確認システムおよび本人確認プログラム | 2 回 |
直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 4,011件 ありました。平均被引用数は 2.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許5931649号「動的暗号変更システム」(109回)、次に多い特許は 特許6257911号「水素製造手段を備えた太陽光発電システム」(107回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5931649 | 動的暗号変更システム | 109 回 |
2 | 特許6257911 | 水素製造手段を備えた太陽光発電システム | 107 回 |
3 | 特開2014-002834 | リチウムイオン二次電池用負極材、リチウムイオン二次電池用負極、リチウムイオン二次電池、およびそれらの製造方法 | 26 回 |
4 | 特許5965228 | アキシャルギャップ型回転電機 | 26 回 |
5 | 特開2015-097329 | 通信システム、通信方法、及び基地局 | 25 回 |
データ、文書、図表類に関する権利は全て「統合特許検索・分析サービス パテント・インテグレーション」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「パテント・インテグレーション レポート, URL: https://patent-i.com/」を明記の上、ご利用ください。
特許データは最新の特許庁発行の特許データに基づき集計・解析・分析を行っています。 掲載・分析結果については十分気をつけておりますが、データの正否については保証していません。 ご理解の上、ご利用をお願いいたします。
特許データは全て特許庁発行の公開データに基づいており、掲載内容は特許庁サイトで公開されている公開公報等と同等の内容です。 公報情報は、特許庁「公報に関して」に記載されている通り、権利者が独占排他的な権利を求める手続きを行うかわりに広く公示されるべきものです。 パテント・インテグレーション レポートにおける掲載基準は、特許庁サイト(JPlatPat)での閲覧可否に応じて判断しております。 特許庁サイトにて非公開とされている情報は、弊社も非公開とする場合がございます。 一方、特許庁サイトにて閲覧可能な情報は通常、掲載にあたり法的な問題(名誉毀損等)がなく表現の自由の範囲内と考えられることから削除依頼等には応じておりません。 記事を削除してしまうと、閲覧を希望されるユーザにとって不利益が生じてしまうためです。
なお、個人の氏名等の個人情報等の削除をご希望の場合は「削除申請フォーム」より必要事項を記載し、送信してください。 その他、本サービスについてお気づきの点がございましたら、「お問い合わせ」よりお気軽にお知らせください。
クレジット表記
・科学技術用語形態素解析辞書 © バイオサイエンスデータベースセンター licensed under CC表示-継承4.0 国際