最終更新日:2020/10/03

株式会社エンプラス (特許分析レポート・日本)

株式会社エンプラスの過去10年間(2010-01-01〜2020-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは特許データベース会社「Patent Integration」が提供する特許分析レポートサービスです。 特許調査・分析業務に活用いただくことを目的として、現在ベータサービスとして提供しております。

保有特許の全体像は、特許 テキストマイニング技術を用いて作成された「パテント・ランドスケープ」により俯瞰することができます。

外国特許分析レポート

「株式会社エンプラス」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を簡単に確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

株式会社エンプラスの特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「株式会社エンプラス」の直近(2019-01-01〜2019-03-31)の特許出願件数は 22件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-03-31)の特許出願件数 31件 に比べて -9件(-29.0%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2017年 の106件、最も少ない年は 2010年 の51件です。

過去5年間の出願件数(2014〜2018年、計452件)の平均値は90.4件、中央値は92.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.15であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2014〜2018年)の出願情報
指標
平均値 90.4
標準偏差 13.5
変動係数 0.15

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2018 年 104 -1.89 %
2017 年 106 +15.22 %
2016 年 92 +24.32 %

株式会社エンプラス 日本特許件数 推移

株式会社エンプラス の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)は以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

株式会社エンプラス が保有する過去 10年間、{{ld.d.dlcnt|number}}件の{{ld.d.db_name|country_map}}特許の全体像をパテント・ランドスケープ機能により俯瞰できます。 ヒートマップはキーワードに関連するそれぞれの特許出願状況(注力領域)を表現しており、赤い領域ほど多くの特許出願がなされていることを意味します。 出願年でフィルタすることにより、過去の出願傾向(注力してきた技術領域)の変遷を確認することができます。

特徴語 (重要度)

株式会社エンプラス の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」は以下の通りです。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「739件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップなどの特許情報は、特許調査業務など自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
株式会社エンプラス
特許分析期間
2010-01-01〜2020-09-30
対象件数
739

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

株式会社エンプラスと同業種の他の企業(競合他社)の特許情報は以下の通りです。業界内の各企業の特許件数推移は以下の通りです。競合他社と特許件数を比較することで、株式会社エンプラスの過去および現在の業界内における研究開発状況や、業界内における位置付けを確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2018〜2020年)において、出願件数が最も多いのは パナソニックIPマネジメント株式会社 の5,602件、次に多いのは シャープ株式会社 の2,091件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2010〜2020年)において、出願件数が最も多いのは パナソニックIPマネジメント株式会社 の37,782件、次に多いのは シャープ株式会社 の27,248件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業15社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

株式会社エンプラスの上位共願人との共有特許の件数推移は以下の通りです。共有特許の件数推移から、株式会社エンプラスの過去および現在の他社連携状況を確認することができます。

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2010〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 国立大学法人京都工芸繊維大学 の2件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
国立大学法人京都工芸繊維大学 2

上位共願人 日本特許件数 推移

株式会社エンプラス の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

重要特許情報   (日本)

株式会社エンプラス の保有日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許は以下の通りです。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被情報提供 特許

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2010-10-01〜2020-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均情報提供数は 6.0回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6112792号「電気接触子の使用方法及び電気接触子」(6回)です。

10年間(2010-10-01〜2020-09-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6112792 電気接触子の使用方法及び電気接触子 6

被閲覧請求 特許

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2010-10-01〜2020-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 3件 ありました。平均閲覧請求数は 3.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6112792号「電気接触子の使用方法及び電気接触子」(6回)、次に多い特許は 特許5437352号「光束制御部材」(2回)です。

10年間(2010-10-01〜2020-09-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6112792 電気接触子の使用方法及び電気接触子 6
2 特許5437352 光束制御部材 2
3 特許6014865 液体分割方法及び液体分割用キット 2

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2010-10-01〜2020-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 105件 ありました。平均被引用数は 1.8回 です。 被引用数が多い特許は 特開2013-164497号「レンズアレイおよびこれを備えた光モジュール」(8回)、次に多い特許は 特許5702596号「レンズアレイおよびこれを備えた光モジュール」(8回)です。

10年間(2010-10-01〜2020-09-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特開2013-164497 レンズアレイおよびこれを備えた光モジュール 8
2 特許5702596 レンズアレイおよびこれを備えた光モジュール 8
3 特許6134934 光レセプタクルおよびこれを備えた光モジュール 7
4 特許5620285 光束制御部材、この光束制御部材を備えた発光装置およびこの発光装置を備えた照明装置 6
5 特許5643670 光束制御部材および照明装置 5

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