最終更新日:2021/10/04

キヤノン株式会社 (特許分析レポート・日本)

出願人・権利者「キヤノン株式会社」の直近(2020-01-01〜2020-01-31)の特許出願件数は 446件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-01-31)の特許出願件数 412件 に比べて +34件(8.3%) と堅調に推移しています。

出願件数が最も多い年は 2014年 の8,327件、最も少ない年は 2019年 の6,530件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計36,265件)の平均値は7,253件、中央値は7,146件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.07であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 7,253
標準偏差 503
変動係数 0.07

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 6,530 -8.48 %
2018 年 7,135 -0.15 %
2017 年 7,146 -2.92 %

キヤノン株式会社の過去10年間(2011-01-01〜2021-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、キヤノン株式会社の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、キヤノン株式会社の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったキヤノン株式会社の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedIn、またはIPTech特許業務法人からお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「キヤノン株式会社」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「キヤノン株式会社」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名
日本 キヤノン株式会社
米国 CANON KABUSHIKI KAISHA
欧州 CANON KABUSHIKI KAISHA
PCT CANON KABUSHIKI KAISHA

キヤノン株式会社 日本特許件数 推移

キヤノン株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、キヤノン株式会社においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析できます。 

特徴語 (重要度)

キヤノン株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「68,303件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
キヤノン株式会社
特許分析期間
2011-01-01〜2021-09-30
対象件数
68,303

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

キヤノン株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

特許検索機能の紹介

出願人、出願日、類似特許検索などさまざな検索機能を利用することで競合分析なども短時間で行えます。

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の8,095件、次に多いのは 株式会社リコー の3,113件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の68,303件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の32,228件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業22社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

キヤノン株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。

上位共願人を確認することで、キヤノン株式会社がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。

また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、キヤノン株式会社のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、共願件数が最も多いのは キヤノンマーケティングジャパン株式会社 の3件です。

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
キヤノンマーケティングジャパン株式会社 3

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、共願件数が最も多いのは キヤノンプレシジョン株式会社 の7件、次に多いのは キヤノンマーケティングジャパン株式会社 の6件です。

上位共願人 日本特許件数 推移

キヤノン株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

キヤノンプレシジョン株式会社 の特許共願傾向

キヤノンプレシジョン株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 7件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計4件)の平均値は0.8件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

共願件数が最も多い年は 2015年 の2件、最も少ない年は 2012年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 0.8
標準偏差 0.7
変動係数 0.9
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2017 年 1 0
2016 年 1 -50.0 %
2015 年 2 -

キヤノンマーケティングジャパン株式会社 の特許共願傾向

キヤノンマーケティングジャパン株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 6件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計5件)の平均値は1.0件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2019年 の3件、最も少ない年は 2012年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 1.0
標準偏差 1.1
変動係数 1.1
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2019 年 3 -
2018 年 0 -100 %
2017 年 1 -

株式会社ジャパンディスプレイ の特許共願傾向

株式会社ジャパンディスプレイ の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 4件 です。

過去10年間の共願件数(2010〜2019年、計65件)の平均値は6.5件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は2.8であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2011年 の4件、最も少ない年は 2012年 の0件です。

過去10年間(2010〜2019年)の共願情報
指標
平均値 6.5
標準偏差 18.2
変動係数 2.8
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2011 年 4 -93.4 %
2010 年 61 -

重要特許情報   (日本)

キヤノン株式会社 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、キヤノン株式会社が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 9件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6821304号「電子銃、X線発生管、X線発生装置およびX線撮影システム」(異議申立日 2021-07-26)、次は 特許6667366号「X線発生管、X線発生装置、およびX線撮影システム」(異議申立日 2020-09-04)です。

直近の異議申立 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6821304 電子銃、X線発生管、X線発生装置およびX線撮影システム 2021-07-26
2 特許6667366 X線発生管、X線発生装置、およびX線撮影システム 2020-09-04
3 特許6659167 電子銃を備えたX線発生管及びX線撮影装置 2020-08-21
4 特許6590534 プロセスカートリッジ及び画像形成装置 2020-04-14
5 特許6643802 硬化性組成物、その硬化物、硬化物の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法 2020-03-24
6 特許6539047 レンズ装置 2019-12-27
7 特許6529388 情報処理装置とその制御方法、及び情報処理システムとステータス表示アプリケーションと双方向通信アプリケーション 2019-12-11
8 特許6482013 構造体およびその製造方法 2019-09-10
9 特許6362067 ポリマーナノファイバシート及びその製造方法 2019-01-24

4件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 13件 ありました。平均情報提供数は 1.9回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2017-080841号「ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法」(情報提供日 2021-07-14)、次は 特開2019-085652号「熱発生方法および熱発生装置」(情報提供日 2021-02-19)です。

直近の情報提供 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2017-080841 ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法 2021-07-14
2 特開2019-085652 熱発生方法および熱発生装置 2021-02-19
3 特開2018-030322 樹脂成形品、電子機器、金型、金型の製造方法及び樹脂成形品の製造方法 2020-08-04
4 特開2018-144357 インクジェット記録装置及びその温度制御方法 2020-06-11
5 特許6750909 ロボット軌道生成方法、ロボット軌道生成装置、および製造方法 2020-03-11
6 特許6833776 複数の有機EL素子を有する発光装置 2020-03-10
7 特許6643002 医用画像表示装置、医用画像表示方法、およびプログラム 2019-09-25
8 特許6704701 密着層形成組成物、密着層の製造方法、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、インプリント用モールドの製造方法、およびデバイス部品 2019-09-19
9 特許6613029 異物検査装置、露光装置及びデバイス製造方法 2019-09-02
10 特開2019-026838 油性ボールペン用インキ組成物 2019-06-13
11 特許6704705 可動磁石型リニアモータ制御システム及びその制御方法 2019-06-13
12 特開2017-076081 反射防止膜、光学素子、光学系および光学機器 2019-03-28
13 特開2019-023685 電子機器 2019-02-24

8件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 30件 ありました。平均情報提供数は 1.9回 です。 情報提供数が多い特許は 特開2017-080841号「ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法」(10回)、次に多い特許は 特許6366218号「磁性キャリア及び二成分系現像剤」(6回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特開2017-080841 ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法 10
2 特許6366218 磁性キャリア及び二成分系現像剤 6
3 特許6643002 医用画像表示装置、医用画像表示方法、およびプログラム 3
4 特許6833776 複数の有機EL素子を有する発光装置 2
5 特許6234123 インクリボンカセットおよびプリンタ装置 2

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 45件 ありました。平均閲覧請求数は 3.2回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2017-080841号「ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法」(閲覧請求日 2021-07-27)、次は 特開2018-018445号「情報処理装置、その制御方法、及びプログラム」(閲覧請求日 2021-07-09)です。

直近の閲覧請求 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2017-080841 ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法 2021-07-27
2 特開2018-018445 情報処理装置、その制御方法、及びプログラム 2021-07-09
3 特開2019-085652 熱発生方法および熱発生装置 2021-03-31
4 特許5126729 画像表示装置 2021-03-24
5 特許5138163 電界効果型トランジスタ 2021-03-24
6 特許5118812 電界効果型トランジスタ 2021-03-24
7 特開2017-188830 外部ユニットを装着して動作する装置及び当該外部ユニット 2021-02-19
8 特開2020-074518 印刷装置とその制御方法、及びプログラム 2020-12-11
9 特開2018-030322 樹脂成形品、電子機器、金型、金型の製造方法及び樹脂成形品の製造方法 2020-09-02
10 特開2018-144357 インクジェット記録装置及びその温度制御方法 2020-07-20
11 特許6723939 波長変換素子、光源装置および画像投射装置 2020-06-17
12 特開2019-036651 半導体装置及びその製造方法 2020-06-09
13 特許6750909 ロボット軌道生成方法、ロボット軌道生成装置、および製造方法 2020-05-15
14 特許6833776 複数の有機EL素子を有する発光装置 2020-04-02
15 特許6752254 情報処理装置、情報処理方法 2020-02-21
16 特許6797858 医用画像表示装置、表示制御装置および表示制御方法、プログラム 2020-02-21
17 特開2017-065128 印刷装置、その制御方法、およびプログラム 2020-02-14
18 特許6861463 露光装置及び物品の製造方法 2020-01-24
19 特許6817924 印刷装置 2020-01-07
20 特開2017-073825 画像処理システム、画像処理システムの制御方法、及びプログラム 2019-12-06

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 199件 ありました。平均閲覧請求数は 2.0回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6366218号「磁性キャリア及び二成分系現像剤」(12回)、次に多い特許は 特開2017-080841号「ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法」(11回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6366218 磁性キャリア及び二成分系現像剤 12
2 特開2017-080841 ロボットアームの関節構造、ロボット装置の測定方法、およびロボット装置の制御方法 11
3 特許6289432 トナー及びトナーの製造方法 6
4 特許5474249 放射線画像処理装置、放射線撮影システム、放射線撮影システムの制御装置、放射線画像処理装置の制御方法、放射線撮影システムの制御方法及びプログラム 6
5 特開2015-049270 定着ベルト及びそれを備えた定着装置 6

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 16,077件 ありました。平均被引用数は 2.4回 です。 被引用数が多い特許は 特許6075854号「表示制御装置、その制御方法、およびプログラム、並びに撮像装置および記憶媒体」(78回)、次に多い特許は 特許6504808号「撮像装置、音声コマンド機能の設定方法、コンピュータプログラム、及び記憶媒体」(68回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6075854 表示制御装置、その制御方法、およびプログラム、並びに撮像装置および記憶媒体 78
2 特許6504808 撮像装置、音声コマンド機能の設定方法、コンピュータプログラム、及び記憶媒体 68
3 特許6071366 ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置 60
4 特許5939786 音響波取得装置 54
5 特開2015-128349 送電装置、無線給電システム、制御方法及びプログラム 45

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