出願人・権利者「HOYA株式会社」の直近(2020-01-01〜2020-08-31)の特許出願件数は 66件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-08-31)の特許出願件数 110件 に比べて -44件(-40.0%) と大幅に減少しています。
出願件数が最も多い年は 2012年 の631件、最も少ない年は 2020年 の82件です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計923件)の平均値は185件、中央値は202件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 185 件 |
標準偏差 | 57.0 |
変動係数 | 0.3 |
直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 82 件 | -51.8 % |
2019 年 | 170 件 | -15.84 % |
2018 年 | 202 件 | -17.55 % |
HOYA株式会社の過去10年間(2012-01-01〜2022-04-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、HOYA株式会社の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、HOYA株式会社の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったHOYA株式会社の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。
スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedIn、またはIPTech特許業務法人からお気軽に。
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。
パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
HOYA株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、HOYA株式会社においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
HOYA株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「2,529件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
HOYA株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の3,982件、次に多いのは 株式会社ディスコ の560件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 3,982 件 |
株式会社ディスコ | 560 件 |
富士フイルム株式会社 | 464 件 |
株式会社島津製作所 | 237 件 |
テルモ株式会社 | 191 件 |
株式会社トプコン | 135 件 |
株式会社東京精密 | 110 件 |
HOYA株式会社 | 86 件 |
ニプロ株式会社 | 77 件 |
株式会社ニコン | 55 件 |
朝日インテック株式会社 | 54 件 |
株式会社タムロン | 52 件 |
オリンパス株式会社 | 47 件 |
日機装株式会社 | 36 件 |
株式会社ブイ・テクノロジー | 33 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の64,018件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の13,916件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 64,018 件 |
富士フイルム株式会社 | 13,916 件 |
オリンパス株式会社 | 8,265 件 |
株式会社ニコン | 6,988 件 |
株式会社ディスコ | 6,030 件 |
株式会社島津製作所 | 4,482 件 |
テルモ株式会社 | 3,754 件 |
HOYA株式会社 | 2,529 件 |
株式会社トプコン | 1,722 件 |
株式会社東京精密 | 1,100 件 |
ニプロ株式会社 | 984 件 |
日機装株式会社 | 584 件 |
株式会社タムロン | 439 件 |
朝日インテック株式会社 | 401 件 |
株式会社ブイ・テクノロジー | 391 件 |
同業16社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
HOYA株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。
上位共願人を確認することで、HOYA株式会社がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。
また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、HOYA株式会社のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。
上位共願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、共願件数が最も多いのは ホーヤエレクトロニクスマレーシアセンドリアンベルハッド の18件、次に多いのは ホーヤランプーンリミテッド の12件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
ホーヤエレクトロニクスマレーシアセンドリアンベルハッド | 18 件 |
ホーヤランプーンリミテッド | 12 件 |
国立研究開発法人国立がん研究センター | 1 件 |
HOYA株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
ホーヤランプーンリミテッド の分析対象期間(2012〜2022年)の共願件数は 12件 です。
過去5年間の共願件数(2016〜2020年、計3件)の平均値は0.6件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は2.0であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。
共願件数が最も多い年は 2013年 の5件、最も少ない年は 2014年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.6 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 2.0 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2017 年 | 3 件 | - |
2016 年 | 0 件 | -100 % |
2015 年 | 2 件 | - |
ホーヤエレクトロニクスマレーシアセンドリアンベルハッド の分析対象期間(2012〜2022年)の共願件数は 18件 です。
過去5年間の共願件数(2016〜2020年、計11件)の平均値は2.2件、中央値は3.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。
共願件数が最も多い年は 2018年 の4件、最も少ない年は 2019年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 2.2 件 |
標準偏差 | 1.8 |
変動係数 | 0.8 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2018 年 | 4 件 | +33.3 % |
2017 年 | 3 件 | -25.00 % |
2016 年 | 4 件 | +100 % |
HOYA株式会社 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、HOYA株式会社が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
直近3年間(2019-05-01〜2022-04-30)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6291598号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子」(無効審判請求日 2020-12-01)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6291598 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2020-12-01 |
直近10年間(2012-05-01〜2022-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6291598号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6291598 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 1 回 |
直近3年間(2019-05-01〜2022-04-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 10件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6738243号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子」(異議申立日 2021-02-10)、次は 特許6695318号「円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板」(異議申立日 2020-11-19)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6738243 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 | 2021-02-10 |
2 | 特許6695318 | 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板 | 2020-11-19 |
3 | 特許6656310 | 光学ガラスおよびその利用 | 2020-09-03 |
4 | 特許6618692 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-06-10 |
5 | 特許6606568 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-05-13 |
6 | 特許6576657 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-03-17 |
7 | 特許6517411 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2019-11-22 |
8 | 特許6480722 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019-09-13 |
9 | 特許6472657 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019-08-09 |
10 | 特許6444021 | 光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 | 2019-06-13 |
直近3年間(2019-05-01〜2022-04-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 16件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2019-210157号「光学ガラスおよび光学素子」(情報提供日 2022-02-18)、次は 特開2020-015662号「光学ガラスおよび光学素子」(情報提供日 2022-02-01)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2019-210157 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2022-02-18 |
2 | 特開2020-015662 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2022-02-01 |
3 | 特開2019-116414 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2021-12-02 |
4 | 特開2019-020723 | 導光板、画像表示装置 | 2021-08-24 |
5 | 特開2020-002010 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2021-07-30 |
6 | 特開2019-210156 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2021-06-11 |
7 | 特開2019-182716 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2021-03-25 |
8 | 特開2019-189490 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2021-03-25 |
9 | 特許6960970 | 固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法 | 2021-01-25 |
10 | 特許6980737 | ガラス、光学ガラス、リン酸塩光学ガラス、研磨用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材および光学素子 | 2020-10-13 |
11 | 特許6812382 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2020-10-07 |
12 | 特許6825939 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-03-18 |
13 | 特許6840660 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-02-26 |
14 | 特許6626907 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019-10-04 |
15 | 特許6606568 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2019-08-23 |
16 | 特許6603449 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019-08-01 |
直近10年間(2012-05-01〜2022-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 23件 ありました。平均情報提供数は 1.6回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6812382号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子」(3回)、次に多い特許は 特開2020-002010号「光学ガラスおよび光学素子」(3回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6812382 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 3 回 |
2 | 特開2020-002010 | 光学ガラスおよび光学素子 | 3 回 |
3 | 特許6139826 | フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | 2 回 |
4 | 特許6603449 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2 回 |
5 | 特許6115934 | ガラス板接着用の仮止材、ガラスの加工方法、及び電子機器用カバーガラスの製造方法 | 2 回 |
直近3年間(2019-05-01〜2022-04-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 16件 ありました。平均閲覧請求数は 1.9回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2020-015662号「光学ガラスおよび光学素子」(閲覧請求日 2022-03-01)、次は 特開2020-002010号「光学ガラスおよび光学素子」(閲覧請求日 2021-09-06)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2020-015662 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2022-03-01 |
2 | 特開2020-002010 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2021-09-06 |
3 | 特開2019-020723 | 導光板、画像表示装置 | 2021-09-01 |
4 | 特開2019-210156 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2021-08-02 |
5 | 特許6960970 | 固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法 | 2021-05-24 |
6 | 特許4164562 | ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ | 2021-03-24 |
7 | 特許6812382 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2020-11-25 |
8 | 特許6980737 | ガラス、光学ガラス、リン酸塩光学ガラス、研磨用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材および光学素子 | 2020-11-11 |
9 | 特許6291598 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2020-10-09 |
10 | 特許6825939 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-05-07 |
11 | 特許6840660 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-03-24 |
12 | 特許6517411 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2020-02-21 |
13 | 特許6626907 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019-11-08 |
14 | 特許6606568 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2019-09-25 |
15 | 特許6603449 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2019-09-05 |
16 | 特許5041739 | 眼内レンズ | 2019-05-29 |
直近10年間(2012-05-01〜2022-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 36件 ありました。平均閲覧請求数は 1.8回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6960970号「固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法」(3回)、次に多い特許は 特開2019-020723号「導光板、画像表示装置」(3回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6960970 | 固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法 | 3 回 |
2 | 特開2019-020723 | 導光板、画像表示装置 | 3 回 |
3 | 特許6812382 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 3 回 |
4 | 特許6139826 | フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | 2 回 |
5 | 特許5927637 | プレス成形用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材の製造方法、及び光学素子の製造方法 | 2 回 |
直近10年間(2012-05-01〜2022-04-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 611件 ありました。平均被引用数は 2.7回 です。 被引用数が多い特許は 特許7047046号「マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法」(41回)、次に多い特許は 特許6005530号「マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法」(34回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7047046 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 | 41 回 |
2 | 特許6005530 | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 | 34 回 |
3 | 特許6027803 | 画像処理装置及び内視鏡装置 | 19 回 |
4 | 特開2016-090777 | 撮像光学系 | 16 回 |
5 | 特許6002528 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 | 15 回 |
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