最終更新日:2021/10/04

HOYA株式会社 (特許分析レポート・日本)

出願人・権利者「HOYA株式会社」の直近(2020-01-01〜2020-01-31)の特許出願件数は 7件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-01-31)の特許出願件数 17件 に比べて -10件(-58.8%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2012年 の631件、最も少ない年は 2019年 の165件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計1,014件)の平均値は203件、中央値は195件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.13であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 203
標準偏差 26.1
変動係数 0.13

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 165 -14.06 %
2018 年 192 -20.33 %
2017 年 241 +9.05 %

HOYA株式会社の過去10年間(2011-01-01〜2021-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、HOYA株式会社の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、HOYA株式会社の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったHOYA株式会社の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedIn、またはIPTech特許業務法人からお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「HOYA株式会社」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「HOYA株式会社」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

HOYA株式会社 日本特許件数 推移

HOYA株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、HOYA株式会社においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析できます。 

特徴語 (重要度)

HOYA株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「2,934件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
HOYA株式会社
特許分析期間
2011-01-01〜2021-09-30
対象件数
2,934

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

HOYA株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

特許検索機能の紹介

出願人、出願日、類似特許検索などさまざな検索機能を利用することで競合分析なども短時間で行えます。

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の8,095件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の1,500件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の68,303件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の16,189件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業16社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

HOYA株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。

上位共願人を確認することで、HOYA株式会社がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。

また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、HOYA株式会社のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、共願件数が最も多いのは ホーヤエレクトロニクスマレーシアセンドリアンベルハッド の18件、次に多いのは ホーヤランプーンリミテッド の16件です。

上位共願人 日本特許件数 推移

HOYA株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

ホーヤランプーンリミテッド の特許共願傾向

ホーヤランプーンリミテッド の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 16件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計5件)の平均値は1.0件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2013年 の5件、最も少ない年は 2014年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 1.0
標準偏差 1.3
変動係数 1.3
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2017 年 3 -
2016 年 0 -100 %
2015 年 2 -

ホーヤエレクトロニクスマレーシアセンドリアンベルハッド の特許共願傾向

ホーヤエレクトロニクスマレーシアセンドリアンベルハッド の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 18件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計13件)の平均値は2.6件、中央値は3.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2018年 の4件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 2.6
標準偏差 1.5
変動係数 0.6
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 4 +33.3 %
2017 年 3 -25.00 %
2016 年 4 +100 %

重要特許情報   (日本)

HOYA株式会社 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、HOYA株式会社が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6291598号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子」(無効審判請求日 2020-12-01)です。

直近の無効審判請求 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許6291598 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2020-12-01

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6291598号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子」(1回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6291598 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 16件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6738243号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子」(異議申立日 2021-02-10)、次は 特許6695318号「円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板」(異議申立日 2020-11-19)です。

直近の異議申立 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6738243 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 2021-02-10
2 特許6695318 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板 2020-11-19
3 特許6656310 光学ガラスおよびその利用 2020-09-03
4 特許6618692 光学ガラスおよび光学素子 2020-06-10
5 特許6606568 光学ガラスおよび光学素子 2020-05-13
6 特許6576657 光学ガラスおよび光学素子 2020-03-17
7 特許6517411 光学ガラスおよび光学素子 2019-11-22
8 特許6480722 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2019-09-13
9 特許6472657 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2019-08-09
10 特許6444021 光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 2019-06-13

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 13件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2019-020723号「導光板、画像表示装置」(情報提供日 2021-08-24)、次は 特開2020-002010号「光学ガラスおよび光学素子」(情報提供日 2021-07-30)です。

直近の情報提供 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2019-020723 導光板、画像表示装置 2021-08-24
2 特開2020-002010 光学ガラスおよび光学素子 2021-07-30
3 特開2019-210156 光学ガラスおよび光学素子 2021-06-11
4 特開2019-182716 光学ガラスおよび光学素子 2021-03-25
5 特開2019-189490 光学ガラスおよび光学素子 2021-03-25
6 特開2020-023047 固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法 2021-01-25
7 特開2020-019710 ガラス、光学ガラス、リン酸塩光学ガラス、研磨用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材および光学素子 2020-10-13
8 特許6812382 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2020-10-07
9 特許6825939 光学ガラスおよび光学素子 2020-03-18
10 特許6840660 光学ガラスおよび光学素子 2020-02-26
11 特許6626907 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2019-10-04
12 特許6606568 光学ガラスおよび光学素子 2019-08-23
13 特許6603449 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2019-08-01

8件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 22件 ありました。平均情報提供数は 1.7回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6812382号「ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子」(3回)、次に多い特許は 特開2020-002010号「光学ガラスおよび光学素子」(3回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6812382 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 3
2 特開2020-002010 光学ガラスおよび光学素子 3
3 特許6139826 フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 2
4 特許6603449 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2
5 特許6115934 ガラス板接着用の仮止材、ガラスの加工方法、及び電子機器用カバーガラスの製造方法 2

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 17件 ありました。平均閲覧請求数は 1.9回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2020-002010号「光学ガラスおよび光学素子」(閲覧請求日 2021-09-06)、次は 特開2019-020723号「導光板、画像表示装置」(閲覧請求日 2021-09-01)です。

直近の閲覧請求 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2020-002010 光学ガラスおよび光学素子 2021-09-06
2 特開2019-020723 導光板、画像表示装置 2021-09-01
3 特開2019-210156 光学ガラスおよび光学素子 2021-08-02
4 特開2020-023047 固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法 2021-05-24
5 特許4164562 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ 2021-03-24
6 特許6812382 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2020-11-25
7 特開2020-019710 ガラス、光学ガラス、リン酸塩光学ガラス、研磨用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材および光学素子 2020-11-11
8 特許6291598 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2020-10-09
9 特許6825939 光学ガラスおよび光学素子 2020-05-07
10 特許6840660 光学ガラスおよび光学素子 2020-03-24
11 特許6517411 光学ガラスおよび光学素子 2020-02-21
12 特許6626907 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2019-11-08
13 特許6606568 光学ガラスおよび光学素子 2019-09-25
14 特許6603449 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2019-09-05
15 特許5041739 眼内レンズ 2019-05-29
16 特許6602000 内視鏡ファイリング装置、内視鏡システム、及び画像処理方法 2019-01-29
17 特許4017832 光学ガラスおよび光学部品 2019-01-28

12件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 41件 ありました。平均閲覧請求数は 2.0回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6013748号「半導体パッケージ」(8回)、次に多い特許は 特開2019-020723号「導光板、画像表示装置」(3回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6013748 半導体パッケージ 8
2 特開2019-020723 導光板、画像表示装置 3
3 特開2020-023047 固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法 3
4 特許6812382 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 3
5 特許6139826 フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 2

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 699件 ありました。平均被引用数は 2.7回 です。 被引用数が多い特許は 特許5863428号「電子内視鏡スコープ、ホワイトバランス調整方法、電子内視鏡システム、ホワイトバランス調整治具」(37回)、次に多い特許は 特許6005530号「マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法」(31回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5863428 電子内視鏡スコープ、ホワイトバランス調整方法、電子内視鏡システム、ホワイトバランス調整治具 37
2 特許6005530 マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 31
3 特開2012-214356 カバーガラス及びその製造方法 22
4 特許6005383 電子内視鏡システム 16
5 特開2016-090777 撮像光学系 15

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