最終更新日:2020/11/14

株式会社ニコン (特許分析レポート・日本)

株式会社ニコンの過去10年間(2010-01-01〜2020-11-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは特許データベース会社「Patent Integration」が提供する特許分析レポートサービスです。 特許調査・分析業務に活用いただくことを目的として、現在ベータサービスとして提供しております。

保有特許の全体像は、特許 テキストマイニング技術を用いて作成された「パテント・ランドスケープ」により俯瞰することができます。

外国特許分析レポート

「株式会社ニコン」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を簡単に確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名
日本 株式会社ニコン
米国 NIKON CORPORATION
欧州 NIKON CORPORATION
PCT NIKON CORPORATION

株式会社ニコンの特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「株式会社ニコン」の直近(2019-01-01〜2019-05-31)の特許出願件数は 145件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-05-31)の特許出願件数 248件 に比べて -103件(-41.5%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2012年 の1,729件、最も少ない年は 2015年 の539件です。

過去5年間の出願件数(2014〜2018年、計3,071件)の平均値は614件、中央値は592件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.09であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2014〜2018年)の出願情報
指標
平均値 614
標準偏差 57.6
変動係数 0.09

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2018 年 592 -9.48 %
2017 年 654 +12.18 %
2016 年 583 +8.16 %

株式会社ニコン 日本特許件数 推移

株式会社ニコン の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)は以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

株式会社ニコン が保有する過去 10年間、{{ld.d.dlcnt|number}}件の{{ld.d.db_name|country_map}}特許の全体像をパテント・ランドスケープ機能により俯瞰できます。 ヒートマップはキーワードに関連するそれぞれの特許出願状況(注力領域)を表現しており、赤い領域ほど多くの特許出願がなされていることを意味します。 出願年でフィルタすることにより、過去の出願傾向(注力してきた技術領域)の変遷を確認することができます。

特徴語 (重要度)

株式会社ニコン の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」は以下の通りです。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「9,710件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップなどの特許情報は、特許調査業務など自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
株式会社ニコン
特許分析期間
2010-01-01〜2020-11-30
対象件数
9,710

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

株式会社ニコンと同業種の他の企業(競合他社)の特許情報は以下の通りです。業界内の各企業の特許件数推移は以下の通りです。競合他社と特許件数を比較することで、株式会社ニコンの過去および現在の業界内における研究開発状況や、業界内における位置付けを確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2018〜2020年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の10,050件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の1,654件です。

直近3年間(2018〜2020年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
キヤノン株式会社 10,050
富士フイルム株式会社 1,654
株式会社ニコン 844
オリンパス株式会社 551
株式会社トプコン 375
HOYA株式会社 276

対象期間(2010〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2010〜2020年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の69,202件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の18,266件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
キヤノン株式会社 69,202
富士フイルム株式会社 18,266
オリンパス株式会社 10,349
株式会社ニコン 9,710
HOYA株式会社 3,352
株式会社トプコン 1,590

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業7社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

株式会社ニコンの上位共願人との共有特許の件数推移は以下の通りです。共有特許の件数推移から、株式会社ニコンの過去および現在の他社連携状況を確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2018〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 株式会社ニコンエンジニアリング の2件、次に多いのは 株式会社ニコンビジョン の1件です。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
株式会社ニコンエンジニアリング 2
株式会社ニコンビジョン 1

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2010〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 株式会社ニコンエンジニアリング の20件、次に多いのは 株式会社仙台ニコン の4件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
株式会社ニコンエンジニアリング 20
株式会社仙台ニコン 4
株式会社ニコンビジョン 2

上位共願人 日本特許件数 推移

株式会社ニコン の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

株式会社仙台ニコン の特許共願傾向

株式会社仙台ニコン の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 4件 です。

過去10年間の共願件数(2009〜2018年、計4件)の平均値は0.4件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.7であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2011年 の2件、最も少ない年は 2013年 の0件です。

過去10年間(2009〜2018年)の共願情報
指標
平均値 0.4
標準偏差 0.7
変動係数 1.7
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2012 年 1 -50.0 %
2011 年 2 +100 %
2010 年 1 -

株式会社ニコンエンジニアリング の特許共願傾向

株式会社ニコンエンジニアリング の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 20件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計10件)の平均値は2.0件、中央値は2.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2013年 の4件、最も少ない年は 2017年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 2.0
標準偏差 1.1
変動係数 0.5
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 2 -
2017 年 0 -100 %
2016 年 2 -33.3 %

重要特許情報   (日本)

株式会社ニコン の保有日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許は以下の通りです。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2017-12-01〜2020-11-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 1件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6610697号「エンコーダ装置、駆動装置、ステージ装置、及びロボット装置」(異議申立日 2020-05-25)です。

直近の異議申立 (2017-12-01〜2020-11-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6610697 エンコーダ装置、駆動装置、ステージ装置、及びロボット装置 2020-05-25

被情報提供 特許

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2010-12-01〜2020-11-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 6件 ありました。平均情報提供数は 2.0回 です。 情報提供数が多い特許は 特許5979033号「エンコーダ」(2回)、次に多い特許は 特開2012-220888号「撮像装置」(2回)です。

10年間(2010-12-01〜2020-11-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5979033 エンコーダ 2
2 特開2012-220888 撮像装置 2
3 特開2012-222765 撮像装置 2
4 特許5891645 撮像装置およびプログラム 2
5 特開2014-014756 室内洗浄装置 2

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2017-12-01〜2020-11-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 89件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 再公表2017/057465号「移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに計測方法」(閲覧請求日 2020-11-09)、次は 再公表2017/057583号「露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法」(閲覧請求日 2020-11-09)です。

直近の閲覧請求 (2017-12-01〜2020-11-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 再公表2017/057465 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに計測方法 2020-11-09
2 再公表2017/057583 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 2020-11-09
3 再公表2017/057589 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに物体の移動方法 2020-11-09
4 特開2019-070815 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 2020-11-09
5 特開2019-185056 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 2020-11-09
6 再公表2017/057471 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光方法 2020-11-09
7 再公表2017/057539 露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイ製造方法 2020-11-09
8 再公表2017/057546 露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイ製造方法 2020-11-09
9 再公表2017/057569 露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイ製造方法 2020-11-09
10 再公表2017/057590 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 2020-11-09
11 特開2019-133192 物体搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 2020-11-09
12 特開2019-179250 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 2020-11-09
13 特開2019-204109 移動体装置及び物体の移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 2020-11-09
14 再公表2017/057577 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 2020-11-09
15 特開2019-211791 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 2020-11-09
16 特開2020-021085 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 2020-11-09
17 特開2020-074009 基板処理装置及び基板処理方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 2020-11-09
18 特開2020-173472 露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイ製造方法 2020-11-09
19 特開2020-043369 移動体装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び搬送方法 2020-11-09
20 特開2020-027234 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 2020-11-05

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2010-12-01〜2020-11-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 117件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許5723702号「投影光学系、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、および屈折光学素子」(8回)、次に多い特許は 特開2012-220888号「撮像装置」(4回)です。

10年間(2010-12-01〜2020-11-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5723702 投影光学系、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、および屈折光学素子 8
2 特開2012-220888 撮像装置 4
3 特許5708546 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 4
4 特許6225315 放電ランプ及び露光方法 2
5 特許6332404 露光装置及びデバイス製造方法 2

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2010-12-01〜2020-11-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 2,252件 ありました。平均被引用数は 1.9回 です。 被引用数が多い特許は 特許5724564号「マスクケース、マスクユニット、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法」(32回)、次に多い特許は 特開2012-193873号「収納装置」(31回)です。

10年間(2010-12-01〜2020-11-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5724564 マスクケース、マスクユニット、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法 32
2 特開2012-193873 収納装置 31
3 特許5742313 撮像装置 15
4 特許5556823 固体撮像装置および電子カメラ 15
5 特許6423797 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 15

コンテンツについて

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