最終更新日:2021/04/04

富士フイルム株式会社 (特許分析レポート・日本)

富士フイルム株式会社の過去10年間(2011-01-01〜2021-03-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・分析サービスを提供する「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくことを目的として無料で提供するレポートサービスです。 特許検索・分析サービス「パテント・インテグレーション」が保有する日米欧・国際公開からなる最新の特許データに基づく特許分析レポートを提供しています。

富士フイルム株式会社の特許出願件数推移および、同業・競合企業との特許出願件数比較、富士フイルム株式会社の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった富士フイルム株式会社の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を提供しています。 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。 是非、「パテント・インテグレーション」を御活用いただき、ワンランク上の知財活動を実現してください。

外国特許分析レポート

「富士フイルム株式会社」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を短時間で確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名
日本 富士フイルム株式会社
米国 FUJIFILM CORPORATION
欧州 FUJIFILM CORPORATION
PCT FUJIFILM CORPORATION

富士フイルム株式会社の特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「富士フイルム株式会社」の直近(2019-01-01〜2019-09-30)の特許出願件数は 752件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-09-30)の特許出願件数 1,097件 に比べて -345件(-31.4%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2011年 の2,857件、最も少ない年は 2019年 の762件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計6,736件)の平均値は1,347件、中央値は1,437件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.22であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 1,347
標準偏差 300
変動係数 0.22

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 762 -46.7 %
2018 年 1,430 -0.49 %
2017 年 1,437 -3.43 %

富士フイルム株式会社 日本特許件数 推移

富士フイルム株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、富士フイルム株式会社においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解することができます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認することができます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握することができます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認することができます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認することができます。 IPランドスケープの各社の知財戦略の仮説検討に最適です。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析することができます。 

特徴語 (重要度)

富士フイルム株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「15,399件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
富士フイルム株式会社
特許分析期間
2011-01-01〜2021-03-31
対象件数
15,399

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

富士フイルム株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、さらに詳細な技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較することができます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

特許検索機能の紹介

出願人、出願日、類似特許検索などさまざな検索機能を利用することで競合分析なども短時間で行えます。

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の4,913件、次に多いのは 株式会社リコー の1,844件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の64,904件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の31,125件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業36社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

富士フイルム株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。

上位共願人を確認することで、富士フイルム株式会社がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考情報とすることができます。

また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、富士フイルム株式会社のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認することができます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査することができます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、共願件数が最も多いのは 人工光合成化学プロセス技術研究組合 の2件、次に多いのは 富士ゼロックス株式会社 の1件です。

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
人工光合成化学プロセス技術研究組合 2
富士ゼロックス株式会社 1
国立大学法人東京大学 1

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、共願件数が最も多いのは 国立大学法人東京大学 の37件、次に多いのは 富士ゼロックス株式会社 の33件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
国立大学法人東京大学 37
富士ゼロックス株式会社 33
人工光合成化学プロセス技術研究組合 31

上位共願人 日本特許件数 推移

富士フイルム株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

富士ゼロックス株式会社 の特許共願傾向

富士ゼロックス株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 33件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計14件)の平均値は2.8件、中央値は3.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の共願件数は減少傾向です。 共願件数が最も多い年は 2012年 の15件、最も少ない年は 2013年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 2.8
標準偏差 1.6
変動係数 0.6
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2019 年 1 -75.0 %
2018 年 4 -20.00 %
2017 年 5 +66.7 %

国立大学法人東京大学 の特許共願傾向

国立大学法人東京大学 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 37件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計29件)の平均値は5.8件、中央値は7.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の共願件数は減少傾向です。 共願件数が最も多い年は 2017年 の8件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 5.8
標準偏差 2.6
変動係数 0.5
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2019 年 1 -80.0 %
2018 年 5 -37.5 %
2017 年 8 +14.29 %

人工光合成化学プロセス技術研究組合 の特許共願傾向

人工光合成化学プロセス技術研究組合 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 31件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計21件)の平均値は4.2件、中央値は4.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2015年 の7件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 4.2
標準偏差 1.6
変動係数 0.4
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2019 年 2 -50.0 %
2018 年 4 0
2017 年 4 0

国立大学法人東京医科歯科大学 の特許共願傾向

国立大学法人東京医科歯科大学 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 3件 です。

過去10年間の共願件数(2010〜2019年、計6件)の平均値は0.6件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.5であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2018年 の1件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去10年間(2010〜2019年)の共願情報
指標
平均値 0.6
標準偏差 0.9
変動係数 1.5
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 1 -
2017 年 0 -
2016 年 0 -

重要特許情報   (日本)

富士フイルム株式会社 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、富士フイルム株式会社が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードすることができます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出することができます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2018-04-01〜2021-03-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 2件 ありました。平均無効審判請求数は 1.5回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6244501号「撮像装置」(無効審判請求日 2020-02-11)、次は 特許4157412号「磁気テープおよびその製造方法、サーボライタ、ならびにサーボバンドの識別方法および装置」(無効審判請求日 2018-12-12)です。

直近の無効審判請求 (2018-04-01〜2021-03-31)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許6244501 撮像装置 2020-02-11
2 特許4157412 磁気テープおよびその製造方法、サーボライタ、ならびにサーボバンドの識別方法および装置 2018-12-12

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6244501号「撮像装置」(1回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6244501 撮像装置 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-04-01〜2021-03-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 30件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6745332号「電子材料製造用薬液の製造方法、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法、電子材料製造用薬液、及び容器」(異議申立日 2021-02-10)、次は 特許6721670号「組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法」(異議申立日 2021-01-14)です。

直近の異議申立 (2018-04-01〜2021-03-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6745332 電子材料製造用薬液の製造方法、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法、電子材料製造用薬液、及び容器 2021-02-10
2 特許6721670 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法 2021-01-14
3 特許6722780 固体電解質組成物、固体電解質含有シートおよび全固体二次電池、ならびに固体電解質含有シートおよび全固体二次電池の製造方法 2020-12-28
4 特許6703184 樹脂組成物、樹脂成形体及び樹脂成形体の製造方法 2020-12-03
5 特許6688811 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜の生産方法、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法 2020-10-27
6 特許6686207 電子カセッテ 2020-10-22
7 特許6667565 ゲル状水性化粧料 2020-09-18
8 特許6663079 金被覆銀平板状粒子、金被覆銀平板状粒子分散液及びその製造方法、塗布膜、並びに、反射防止光学部材 2020-09-10
9 特許6649234 ε−酸化鉄型強磁性粉末および磁気記録媒体 2020-08-18
10 特許6650040 近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置 2020-08-06

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-04-01〜2021-03-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 57件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 再公表2019/045020号「皮膚用化粧料及び化粧料のハリ感の評価方法」(情報提供日 2021-03-24)、次は 再公表2019/058882号「パターン形成用組成物、膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び、カメラモジュール」(情報提供日 2021-03-02)です。

直近の情報提供 (2018-04-01〜2021-03-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 再公表2019/045020 皮膚用化粧料及び化粧料のハリ感の評価方法 2021-03-24
2 再公表2019/058882 パターン形成用組成物、膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び、カメラモジュール 2021-03-02
3 特開2020-166289 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2021-02-24
4 再公表2019/039159 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ 2021-02-16
5 再公表2018/142804 樹脂組成物、樹脂膜、樹脂膜の製造方法、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ 2021-01-15
6 特開2019-001663 コアシェル粒子、コアシェル粒子の焼成物、コアシェル粒子の製造方法、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法 2020-12-25
7 特開2019-173016 シロキサン樹脂組成物、これを用いた透明硬化物、透明画素、マイクロレンズ、固体撮像素子 2020-12-16
8 再公表2018/155029 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ 2020-12-03
9 再公表2019/013227 組成物、膜、膜付き基材、膜付き基材の製造方法、及び、修飾基材 2020-12-02
10 特許6824195 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 2020-11-30
11 特許6853363 硬化性組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ 2020-11-19
12 再公表2018/190203 酸化防止剤分散物 2020-11-06
13 再公表2018/173570 感光性着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 2020-10-28
14 特許6845222 半導体製造用処理液、半導体製造用処理液が収容された収容容器、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 2020-10-22
15 特開2019-059655 コアシェル粒子、コアシェル粒子の焼成物、コアシェル粒子の製造方法、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子、イプシロン型酸化鉄系化合物粒子の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法 2020-10-07
16 再公表2017/169833 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 2020-09-14
17 再公表2017/099019 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2020-08-07
18 特許6831857 保護層形成用組成物、積層体およびキット 2020-07-07
19 特許6802759 磁性粉、磁性粉の製造方法、及び磁気記録媒体 2020-07-06
20 特許6840141 転写フィルム、加飾パターン、タッチパネル、及びパターンの製造方法 2020-07-06

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 195件 ありました。平均情報提供数は 2.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6302650号「硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ」(10回)、次に多い特許は 特許5951971号「ポリエステルフィルム及びその製造方法、太陽電池用バックシート、及び太陽電池モジュール」(10回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6302650 硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ 10
2 特許5951971 ポリエステルフィルム及びその製造方法、太陽電池用バックシート、及び太陽電池モジュール 10
3 特許6021686 アクリルフィルムおよびその製造方法 9
4 特許6129763 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法 8
5 特許6314228 一軸配向ポリエステルフィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用センサーフィルム、飛散防止フィルム、反射防止フィルム、タッチパネルおよび一軸配向ポリエステルフィルムの製造方法 8

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-04-01〜2021-03-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 81件 ありました。平均閲覧請求数は 1.7回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2019-013890号「金属繊維フィルタの洗浄方法、金属繊維フィルタおよび熱可塑性樹脂フィルムの製膜方法」(閲覧請求日 2021-03-26)、次は 特許6326003号「波長変換部材、バックライトユニット、および液晶表示装置、ならびに量子ドット含有重合性組成物」(閲覧請求日 2021-03-08)です。

直近の閲覧請求 (2018-04-01〜2021-03-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2019-013890 金属繊維フィルタの洗浄方法、金属繊維フィルタおよび熱可塑性樹脂フィルムの製膜方法 2021-03-26
2 特許6326003 波長変換部材、バックライトユニット、および液晶表示装置、ならびに量子ドット含有重合性組成物 2021-03-08
3 特開2020-166289 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2021-03-05
4 特許4401308 露光装置 2021-02-03
5 特許6853363 硬化性組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ 2021-01-28
6 特許6831857 保護層形成用組成物、積層体およびキット 2021-01-28
7 特開2019-173016 シロキサン樹脂組成物、これを用いた透明硬化物、透明画素、マイクロレンズ、固体撮像素子 2021-01-14
8 特許6851404 消音換気構造 2021-01-07
9 再公表2018/142804 樹脂組成物、樹脂膜、樹脂膜の製造方法、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ 2021-01-07
10 再公表2019/013227 組成物、膜、膜付き基材、膜付き基材の製造方法、及び、修飾基材 2020-12-24
11 特許6824195 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 2020-12-04
12 特許6837070 薬液、薬液収容体、薬液の充填方法、及び、薬液の保管方法 2020-11-27
13 再公表2018/190203 酸化防止剤分散物 2020-11-24
14 再公表2018/173570 感光性着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 2020-11-09
15 特許6845222 半導体製造用処理液、半導体製造用処理液が収容された収容容器、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 2020-10-30
16 特許5798978 着色感放射線性組成物、これを用いたカラーフィルタ 2020-10-26
17 再公表2017/169833 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 2020-09-24
18 再公表2017/099019 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2020-08-21
19 特開2018-065594 撹拌タンク及びその製造方法 2020-07-30
20 特許6840141 転写フィルム、加飾パターン、タッチパネル、及びパターンの製造方法 2020-07-16

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被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 228件 ありました。平均閲覧請求数は 2.8回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6021686号「アクリルフィルムおよびその製造方法」(19回)、次に多い特許は 特開2012-118537号「液晶表示装置」(18回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6021686 アクリルフィルムおよびその製造方法 19
2 特開2012-118537 液晶表示装置 18
3 特許6129763 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法 16
4 特許6222625 複合型分離膜、それを用いた分離膜モジュール 16
5 特許5965639 赤外線カットフィルタの製造方法、該製造方法に用いられる赤外線吸収性液状組成物、及びカメラモジュールの製造方法 10

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 4,296件 ありました。平均被引用数は 2.6回 です。 被引用数が多い特許は 特許5667938号「静電容量方式タッチパネル」(34回)、次に多い特許は 特開2014-206725号「偏光板および液晶表示装置」(27回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5667938 静電容量方式タッチパネル 34
2 特開2014-206725 偏光板および液晶表示装置 27
3 特許5771570 パターン形成方法、積層レジストパターン、及び、電子デバイスの製造方法 26
4 特許6169530 液晶表示装置 23
5 特許5990128 液晶表示装置 21

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