最終更新日:2020/09/27

富士フイルム株式会社 (特許分析レポート・日本)

富士フイルム株式会社の過去10年間(2010-01-01〜2020-08-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは特許データベース会社「Patent Integration」が提供する特許分析レポートサービスです。 特許調査・分析業務に活用いただくことを目的として、現在ベータサービスとして提供しております。

保有特許の全体像は、特許 テキストマイニング技術を用いて作成された「パテント・ランドスケープ」により俯瞰することができます。

外国特許分析レポート

「富士フイルム株式会社」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を簡単に確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名
日本 富士フイルム株式会社
米国 FUJIFILM CORPORATION
欧州 FUJIFILM CORPORATION
PCT FUJIFILM CORPORATION

富士フイルム株式会社の特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「富士フイルム株式会社」の直近(2019-01-01〜2019-02-28)の特許出願件数は 55件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-02-28)の特許出願件数 205件 に比べて -150件(-73.2%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2010年 の3,489件、最も少ない年は 2018年 の1,043件です。

過去5年間の出願件数(2014〜2018年、計7,146件)の平均値は1,429件、中央値は1,444件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.15であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2014〜2018年)の出願情報
指標
平均値 1,429
標準偏差 218
変動係数 0.15

直近3年間(2016〜2018年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2018 年 1,043 -24.91 %
2017 年 1,389 -3.81 %
2016 年 1,444 -10.48 %

富士フイルム株式会社 日本特許件数 推移

富士フイルム株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)は以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

富士フイルム株式会社 が保有する過去 10年間、{{ld.d.dlcnt|number}}件の{{ld.d.db_name|country_map}}特許の全体像をパテント・ランドスケープ機能により俯瞰できます。 ヒートマップはキーワードに関連するそれぞれの特許出願状況(注力領域)を表現しており、赤い領域ほど多くの特許出願がなされていることを意味します。 出願年でフィルタすることにより、過去の出願傾向(注力してきた技術領域)の変遷を確認することができます。

特徴語 (重要度)

富士フイルム株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」は以下の通りです。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「17,753件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップなどの特許情報は、特許調査業務など自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
富士フイルム株式会社
特許分析期間
2010-01-01〜2020-08-31
対象件数
17,753

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

富士フイルム株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許情報は以下の通りです。業界内の各企業の特許件数推移は以下の通りです。競合他社と特許件数を比較することで、富士フイルム株式会社の過去および現在の業界内における研究開発状況や、業界内における位置付けを確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2018〜2020年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の8,405件、次に多いのは 株式会社リコー の2,909件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2010〜2020年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の67,406件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の35,316件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業36社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

富士フイルム株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移は以下の通りです。共有特許の件数推移から、富士フイルム株式会社の過去および現在の他社連携状況を確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2018〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 国立大学法人東京大学 の4件、次に多いのは 富士ゼロックス株式会社 の3件です。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
国立大学法人東京大学 4
富士ゼロックス株式会社 3
人工光合成化学プロセス技術研究組合 3

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2010〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 富士ゼロックス株式会社 の38件、次に多いのは 国立大学法人東京大学 の36件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
富士ゼロックス株式会社 38
国立大学法人東京大学 36
人工光合成化学プロセス技術研究組合 28

上位共願人 日本特許件数 推移

富士フイルム株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

フジノン株式会社 の特許共願傾向

フジノン株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 4件 です。

過去10年間の共願件数(2009〜2018年、計4件)の平均値は0.4件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は3.0であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2010年 の4件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去10年間(2009〜2018年)の共願情報
指標
平均値 0.4
標準偏差 1.2
変動係数 3.0
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2010 年 4 -
2009 年 0 -

富士ゼロックス株式会社 の特許共願傾向

富士ゼロックス株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 38件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計11件)の平均値は2.2件、中央値は3.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

共願件数が最も多い年は 2012年 の15件、最も少ない年は 2013年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 2.2
標準偏差 1.5
変動係数 0.7
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 3 -25.00 %
2017 年 4 +33.3 %
2016 年 3 +200 %

国立大学法人東京大学 の特許共願傾向

国立大学法人東京大学 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 36件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計29件)の平均値は5.8件、中央値は7.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2015年 の8件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 5.8
標準偏差 1.9
変動係数 0.3
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 3 -57.1 %
2017 年 7 0
2016 年 7 -12.50 %

人工光合成化学プロセス技術研究組合 の特許共願傾向

人工光合成化学プロセス技術研究組合 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 28件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計22件)の平均値は4.4件、中央値は4.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2015年 の7件、最も少ない年は 2010年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 4.4
標準偏差 1.4
変動係数 0.3
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 3 -25.00 %
2017 年 4 0
2016 年 4 -42.9 %

国立大学法人東京医科歯科大学 の特許共願傾向

国立大学法人東京医科歯科大学 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 6件 です。

過去10年間の共願件数(2009〜2018年、計10件)の平均値は1.0件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2010年 の3件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去10年間(2009〜2018年)の共願情報
指標
平均値 1.0
標準偏差 1.3
変動係数 1.3
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 1 -
2017 年 0 -
2016 年 0 -

重要特許情報   (日本)

富士フイルム株式会社 の保有日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許は以下の通りです。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 3件 ありました。平均無効審判請求数は 1.3回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6244501号「撮像装置」(無効審判請求日 2020-02-11)、次は 特許4157412号「磁気テープおよびその製造方法、サーボライタ、ならびにサーボバンドの識別方法および装置」(無効審判請求日 2018-12-12)です。

直近の無効審判請求 (2017-09-01〜2020-08-31)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許6244501 撮像装置 2020-02-11
2 特許4157412 磁気テープおよびその製造方法、サーボライタ、ならびにサーボバンドの識別方法および装置 2018-12-12
3 特許4459248 磁気記録媒体、磁気信号再生システムおよび磁気信号再生方法 2017-10-13

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6244501号「撮像装置」(1回)です。

10年間(2010-09-01〜2020-08-31) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6244501 撮像装置 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 22件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6616884号「光電変換素子用色素溶液及び色素溶液調製用キット、並びに、光電変換素子の製造方法」(異議申立日 2020-06-03)、次は 特許6612343号「前駆体組成物、感光性樹脂組成物、前駆体組成物の製造方法、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス」(異議申立日 2020-05-26)です。

直近の異議申立 (2017-09-01〜2020-08-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6616884 光電変換素子用色素溶液及び色素溶液調製用キット、並びに、光電変換素子の製造方法 2020-06-03
2 特許6612343 前駆体組成物、感光性樹脂組成物、前駆体組成物の製造方法、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス 2020-05-26
3 特許6604928 着色組成物、膜および膜の製造方法 2020-05-13
4 特許6598868 組成物、硬化膜、パターン、パターンの製造方法、光学センサー、及び撮像素子 2020-04-21
5 特許6594518 ポリエステルフィルム及びその製造方法、ハードコートフィルム及びその製造方法、画像表示装置並びにタッチパネル 2020-04-16
6 特許6581200 静電容量型入力装置の電極保護膜用の組成物、静電容量型入力装置の電極保護膜、転写フィルム、積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置。 2020-03-24
7 特許6579821 車両用の画像表示機能付きミラー 2020-03-24
8 特許6571275 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子及び画像表示装置 2020-02-25
9 再公表2017/099121 半導体デバイス用処理液の保管方法、処理液収容体 2019-11-22
10 特許6454793 健全度判定装置、健全度判定方法および健全度判定プログラム 2019-07-09

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 57件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 再公表2017/099019号「感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置」(情報提供日 2020-08-07)、次は 再公表2018/135493号「保護層形成用組成物、積層体およびキット」(情報提供日 2020-07-07)です。

直近の情報提供 (2017-09-01〜2020-08-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 再公表2017/099019 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2020-08-07
2 再公表2018/135493 保護層形成用組成物、積層体およびキット 2020-07-07
3 再公表2017/208849 感光性樹脂組成物、転写フィルム、加飾パターン、タッチパネル、及びパターンの製造方法 2020-07-06
4 特開2019-003713 磁性粉、磁性粉の製造方法、及び磁気記録媒体 2020-07-06
5 特開2019-132576 消音換気構造 2020-07-01
6 特開2018-065594 撹拌タンク及びその製造方法 2020-06-25
7 特開2019-073500 神経分化促進剤、及び神経分化促進用組成物 2020-06-03
8 再公表2017/135300 膜、膜の製造方法、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ 2020-05-27
9 特許6731475 感光性組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2020-05-27
10 再公表2017/104735 近赤外線吸収組成物、近赤外線カットフィルタ、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置 2020-03-25
11 再公表2017/119422 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 2020-03-10
12 再公表2018/021313 着色組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 2020-03-02
13 再公表2017/130825 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカラーフィルタ 2020-02-28
14 特開2017-125953 感放射線性組成物、膜、カラーフィルタ、遮光膜および固体撮像素子 2020-01-16
15 特開2019-013890 金属繊維フィルタの洗浄方法、金属繊維フィルタおよび熱可塑性樹脂フィルムの製膜方法 2020-01-15
16 再公表2017/169833 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 2019-12-26
17 再公表2017/169832 半導体製造用処理液、半導体製造用処理液が収容された収容容器、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 2019-12-25
18 再公表2018/047584 組成物、膜の製造方法、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法および赤外線センサの製造方法 2019-12-06
19 特開2018-092691 ε−酸化鉄型強磁性粉末およびその製造方法ならびにε−酸化鉄型強磁性粉末含有組成物 2019-11-13
20 特許6703098 半導体製造用処理液、及び、パターン形成方法 2019-10-17

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 200件 ありました。平均情報提供数は 2.5回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6302650号「硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ」(10回)、次に多い特許は 特許5951971号「ポリエステルフィルム及びその製造方法、太陽電池用バックシート、及び太陽電池モジュール」(10回)です。

10年間(2010-09-01〜2020-08-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6302650 硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ 10
2 特許5951971 ポリエステルフィルム及びその製造方法、太陽電池用バックシート、及び太陽電池モジュール 10
3 特許6021686 アクリルフィルムおよびその製造方法 9
4 特許6129763 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法 8
5 特許6314228 一軸配向ポリエステルフィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用センサーフィルム、飛散防止フィルム、反射防止フィルム、タッチパネルおよび一軸配向ポリエステルフィルムの製造方法 8

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 94件 ありました。平均閲覧請求数は 1.9回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 再公表2017/099019号「感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置」(閲覧請求日 2020-08-21)、次は 特開2018-065594号「撹拌タンク及びその製造方法」(閲覧請求日 2020-07-30)です。

直近の閲覧請求 (2017-09-01〜2020-08-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 再公表2017/099019 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2020-08-21
2 特開2018-065594 撹拌タンク及びその製造方法 2020-07-30
3 再公表2017/208849 感光性樹脂組成物、転写フィルム、加飾パターン、タッチパネル、及びパターンの製造方法 2020-07-16
4 特開2019-073500 神経分化促進剤、及び神経分化促進用組成物 2020-07-13
5 再公表2017/135300 膜、膜の製造方法、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ 2020-07-10
6 特許6731475 感光性組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 2020-06-04
7 特許5441362 研磨液及び研磨方法 2020-05-26
8 特許4987330 画像記録方法及び装置 2020-05-12
9 特許4948867 描画状態調整方法及び装置 2020-05-12
10 特許4328385 露光装置 2020-05-12
11 特許4786224 投影ヘッドピント位置測定方法および露光方法 2020-05-08
12 特許5064862 アライメントマーク測定方法および装置並びに描画方法および装置 2020-05-08
13 特許4606992 描画装置及び描画方法 2020-05-08
14 特許4895571 描画装置及び画像長さ補正方法 2020-05-08
15 特許4532381 描画方法および装置 2020-05-01
16 特許4322564 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 2020-04-23
17 特許4188712 露光装置及び露光装置の調整方法 2020-04-23
18 再公表2017/104735 近赤外線吸収組成物、近赤外線カットフィルタ、近赤外線カットフィルタの製造方法、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置 2020-04-13
19 再公表2017/119422 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 2020-03-19
20 再公表2018/021313 着色組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 2020-03-12

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 245件 ありました。平均閲覧請求数は 2.9回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6021686号「アクリルフィルムおよびその製造方法」(19回)、次に多い特許は 特開2012-118537号「液晶表示装置」(18回)です。

10年間(2010-09-01〜2020-08-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6021686 アクリルフィルムおよびその製造方法 19
2 特開2012-118537 液晶表示装置 18
3 特許6129763 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法 16
4 特許6222625 複合型分離膜、それを用いた分離膜モジュール 16
5 特許5965639 赤外線カットフィルタの製造方法、該製造方法に用いられる赤外線吸収性液状組成物、及びカメラモジュールの製造方法 10

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 5,070件 ありました。平均被引用数は 2.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許5626978号「薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びにその薄膜トランジスタを備えた装置」(49回)、次に多い特許は 特許5645581号「タッチパネル」(34回)です。

10年間(2010-09-01〜2020-08-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5626978 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びにその薄膜トランジスタを備えた装置 49
2 特許5645581 タッチパネル 34
3 特許5667938 静電容量方式タッチパネル 34
4 特許5715380 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、および色素多量体 28
5 特許5728190 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、 27

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