富士フイルム株式会社 (特許分析レポート・日本)

富士フイルム株式会社の過去10年間(2010-01-01〜2020-08-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは特許データベース会社「Patent Integration」が提供する特許分析レポートサービスです。 特許調査・分析業務に活用いただくことを目的として、現在ベータサービスとして提供しております。

保有特許の全体像は、特許 テキストマイニング技術を用いて作成された「パテント・ランドスケープ」により俯瞰することができます。

富士フイルム株式会社の特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「富士フイルム株式会社」の直近(2019-01-01〜2019-02-28)の特許出願件数は 55件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-02-28)の特許出願件数 205件 に比べて -150件(-73.2%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2010年 の3,489件、最も少ない年は 2018年 の1,043件です。

過去5年間の出願件数(2014〜2018年、計7,146件)の平均値は1,429件、中央値は1,444件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.15であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

直近3年間(2016〜2018年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間(2018〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2018〜2020年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の8,405件、次に多いのは 株式会社リコー の2,909件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2010〜2020年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の67,406件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の35,316件です。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2018〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 国立大学法人東京大学 の4件、次に多いのは 富士ゼロックス株式会社 の3件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2010〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 富士ゼロックス株式会社 の38件、次に多いのは 国立大学法人東京大学 の36件です。

フジノン株式会社 の特許共願傾向

フジノン株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 4件 です。

過去10年間の共願件数(2009〜2018年、計4件)の平均値は0.4件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は3.0であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2010年 の4件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

富士ゼロックス株式会社 の特許共願傾向

富士ゼロックス株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 38件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計11件)の平均値は2.2件、中央値は3.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

共願件数が最も多い年は 2012年 の15件、最も少ない年は 2013年 の0件です。

国立大学法人東京大学 の特許共願傾向

国立大学法人東京大学 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 36件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計29件)の平均値は5.8件、中央値は7.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2015年 の8件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

人工光合成化学プロセス技術研究組合 の特許共願傾向

人工光合成化学プロセス技術研究組合 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 28件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計22件)の平均値は4.4件、中央値は4.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2015年 の7件、最も少ない年は 2010年 の0件です。

国立大学法人東京医科歯科大学 の特許共願傾向

国立大学法人東京医科歯科大学 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 6件 です。

過去10年間の共願件数(2009〜2018年、計10件)の平均値は1.0件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2010年 の3件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 3件 ありました。平均無効審判請求数は 1.3回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6244501号「撮像装置」(無効審判請求日 2020-02-11)、次は 特許4157412号「磁気テープおよびその製造方法、サーボライタ、ならびにサーボバンドの識別方法および装置」(無効審判請求日 2018-12-12)です。

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6244501号「撮像装置」(1回)です。

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 22件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6616884号「光電変換素子用色素溶液及び色素溶液調製用キット、並びに、光電変換素子の製造方法」(異議申立日 2020-06-03)、次は 特許6612343号「前駆体組成物、感光性樹脂組成物、前駆体組成物の製造方法、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス」(異議申立日 2020-05-26)です。

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 57件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 再公表2017/099019号「感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置」(情報提供日 2020-08-07)、次は 再公表2018/135493号「保護層形成用組成物、積層体およびキット」(情報提供日 2020-07-07)です。

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 200件 ありました。平均情報提供数は 2.5回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6302650号「硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ」(10回)、次に多い特許は 特許5951971号「ポリエステルフィルム及びその製造方法、太陽電池用バックシート、及び太陽電池モジュール」(10回)です。

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2017-09-01〜2020-08-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 94件 ありました。平均閲覧請求数は 1.9回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 再公表2017/099019号「感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置」(閲覧請求日 2020-08-21)、次は 特開2018-065594号「撹拌タンク及びその製造方法」(閲覧請求日 2020-07-30)です。

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 245件 ありました。平均閲覧請求数は 2.9回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6021686号「アクリルフィルムおよびその製造方法」(19回)、次に多い特許は 特開2012-118537号「液晶表示装置」(18回)です。

被引用数 上位特許

直近10年間(2010-09-01〜2020-08-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 5,070件 ありました。平均被引用数は 2.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許5626978号「薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びにその薄膜トランジスタを備えた装置」(49回)、次に多い特許は 特許5645581号「タッチパネル」(34回)です。