本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「ウエハー」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「ウエハー」の直近(2023-01-01〜2023-02-28)の特許出願件数は 54件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-02-28)の特許出願件数 72件 に比べて -18件(-25.0%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 ウェハー 」、「 ウェファー 」、「 ウェーハ 」、「 ウェーハー 」、「 ウエハ 」、「 ウエハー 」、「 ウエーハ 」、「 ウエーハー 」、「 ウエーファ 」、「 素子ウエハ 」、「 素子ウエハー 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の873件、最も少ない年は 2020年 の523件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計3,143件)の平均値は524件、中央値は542件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.29であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 524 件 |
標準偏差 | 151 |
変動係数 | 0.29 |
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 541 件 | -0.37 % |
2021 年 | 543 件 | +3.82 % |
2020 年 | 523 件 | -16.72 % |
ウエハーの過去10年間(2014-01-01〜2024-10-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、ウエハーの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、ウエハーの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったウエハーの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
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ウエハー の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「6,497件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
ウエハーと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは リンテック株式会社 の55件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の30件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
リンテック株式会社 | 55 件 |
三菱電機株式会社 | 30 件 |
東京エレクトロン株式会社 | 13 件 |
キヤノン株式会社 | 13 件 |
ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 2 件 |
株式会社東芝 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の484件、次に多いのは リンテック株式会社 の327件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
東京エレクトロン株式会社 | 484 件 |
リンテック株式会社 | 327 件 |
三菱電機株式会社 | 206 件 |
株式会社ニコン | 129 件 |
キヤノン株式会社 | 74 件 |
ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 71 件 |
株式会社東芝 | 17 件 |
ソニーグループ株式会社 | 10 件 |
株式会社日立製作所 | 4 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 2 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
ウエハーと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは リンテック株式会社 の55件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の30件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
リンテック株式会社 | 55 件 |
三菱電機株式会社 | 30 件 |
東京エレクトロン株式会社 | 13 件 |
キヤノン株式会社 | 13 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の484件、次に多いのは リンテック株式会社 の327件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
東京エレクトロン株式会社 | 484 件 |
リンテック株式会社 | 327 件 |
三菱電機株式会社 | 206 件 |
株式会社ニコン | 129 件 |
キヤノン株式会社 | 74 件 |
ソニーグループ株式会社 | 10 件 |
株式会社日立製作所 | 4 件 |
ウエハー の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ウエハー の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
東京エレクトロン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 484件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計115件)の平均値は19.2件、中央値は14.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2016年 の102件、最も少ない年は 2022年 の11件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 19.2 件 |
標準偏差 | 14.0 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 11 件 | -21.43 % |
2021 年 | 14 件 | 0 |
2020 年 | 14 件 | -51.7 % |
株式会社ニコン の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 129件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計21件)の平均値は3.5件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は2.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の33件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 3.5 件 |
標準偏差 | 7.4 |
変動係数 | 2.1 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2019 年 | 1 件 | -95.0 % |
2018 年 | 20 件 | +66.7 % |
2017 年 | 12 件 | -63.6 % |
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 74件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計42件)の平均値は7.0件、中央値は6.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の12件、最も少ない年は 2021年 の4件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 7.0 件 |
標準偏差 | 3.2 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 10 件 | +150 % |
2021 年 | 4 件 | -33.3 % |
2020 年 | 6 件 | -50.0 % |
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 4件 です。
過去10年間の出願件数(2013〜2023年、計5件)の平均値は0.5件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.4であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の2件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.5 件 |
標準偏差 | 0.7 |
変動係数 | 1.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2017 年 | 1 件 | -50.0 % |
2016 年 | 2 件 | - |
2015 年 | 0 件 | -100 % |
三菱電機株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 206件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計112件)の平均値は18.7件、中央値は17.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2018年 の31件、最も少ない年は 2022年 の15件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 18.7 件 |
標準偏差 | 6.0 |
変動係数 | 0.3 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 15 件 | -21.05 % |
2021 年 | 19 件 | +18.75 % |
2020 年 | 16 件 | -15.79 % |
ウエハー の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、ウエハーが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 9件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7436251号「ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法」(異議申立日 2024-08-19)、次は 特許7328807号「ダイシングテープ、及び、ダイシングダイボンドフィルム」(異議申立日 2024-02-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7436251 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 | 2024-08-19 |
2 | 特許7328807 | ダイシングテープ、及び、ダイシングダイボンドフィルム | 2024-02-14 |
3 | 特許7307299 | 静電チャック | 2024-01-11 |
4 | 特許7203260 | 静電チャック部材、静電チャック装置及び静電チャック部材の製造方法 | 2023-07-05 |
5 | 特許7146145 | ワークハンドリングシートおよびデバイス製造方法 | 2023-03-31 |
6 | 特許7063334 | 半導体基板加熱用基板載置台および半導体基板加熱ヒータ | 2022-11-02 |
7 | 特許7031141 | 半導体加工用テープ | 2022-09-06 |
8 | 特許7063493 | 成膜用冶具及び気相成長装置 | 2022-08-30 |
9 | 特許6871301 | スパッタリングターゲット、窒化チタン膜の製造方法、および半導体素子の製造方法 | 2021-11-02 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 44件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-024328号「保持装置」(情報提供日 2024-10-23)、次は 特開2023-149660号「ウエハ載置台」(情報提供日 2024-10-16)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-024328 | 保持装置 | 2024-10-23 |
2 | 特開2023-149660 | ウエハ載置台 | 2024-10-16 |
3 | 特開2022-060063 | エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 | 2024-10-09 |
4 | 特許7582200 | 半導体用接着剤、半導体用接着剤シート、及び半導体装置の製造方法 | 2024-09-26 |
5 | 特開2023-013587 | 保持装置 | 2024-09-13 |
6 | 特許7589435 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置、及び電子部品装置の製造方法 | 2024-09-04 |
7 | 特開2024-040302 | 試料保持具 | 2024-08-06 |
8 | 特開2021-190428 | 有機発光素子封止用組成物およびこれにより製造された有機層を含む有機発光表示装置 | 2024-07-02 |
9 | 特開2021-197529 | 保持装置 | 2024-05-28 |
10 | 特開2022-175820 | 保持装置 | 2024-05-13 |
11 | 特開2023-094576 | 炭化ケイ素粉末、及びこれを用いて炭化ケイ素インゴットを製造する方法 | 2024-05-13 |
12 | 特開2023-049537 | 保持装置 | 2024-04-26 |
13 | 特開2023-161172 | ウエハ載置台 | 2024-04-11 |
14 | 特開2023-149659 | ウエハ載置台 | 2024-04-01 |
15 | 特開2021-127404 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | 2024-03-01 |
16 | 特開2023-070126 | 炭化ケイ素ウエハ及びこの製造方法 | 2024-02-28 |
17 | 特開2022-158499 | 保持部材 | 2024-02-07 |
18 | 特表2023-533712 | 酸化イットリウム系のコーティング及びバルク組成物 | 2024-01-31 |
19 | 特許7577558 | 保持部材 | 2023-11-21 |
20 | 特許7514811 | ウエハ載置台 | 2023-10-17 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 61件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7018168号「感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法」(4回)、次に多い特許は 特許7237828号「エポキシ樹脂組成物、電子部品実装構造体およびその製造方法」(3回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7018168 | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | 4 回 |
2 | 特許7237828 | エポキシ樹脂組成物、電子部品実装構造体およびその製造方法 | 3 回 |
3 | 特許6636696 | 半導体ウエハのマウント方法および半導体ウエハのマウント装置 | 3 回 |
4 | 特開2022-024328 | 保持装置 | 3 回 |
5 | 特許7582200 | 半導体用接着剤、半導体用接着剤シート、及び半導体装置の製造方法 | 3 回 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 75件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2022-024328号「保持装置」(閲覧請求日 2024-10-29)、次は 特開2023-149660号「ウエハ載置台」(閲覧請求日 2024-10-22)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-024328 | 保持装置 | 2024-10-29 |
2 | 特開2023-149660 | ウエハ載置台 | 2024-10-22 |
3 | 特許7582200 | 半導体用接着剤、半導体用接着剤シート、及び半導体装置の製造方法 | 2024-10-10 |
4 | 特許7589435 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置、及び電子部品装置の製造方法 | 2024-10-09 |
5 | 特開2023-013587 | 保持装置 | 2024-09-26 |
6 | 特開2022-060063 | エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 | 2024-08-28 |
7 | 特開2024-040302 | 試料保持具 | 2024-08-23 |
8 | 特表2023-531622 | 線路損失の低い光起電力アレイ構造体 | 2024-08-08 |
9 | 特開2021-197529 | 保持装置 | 2024-06-12 |
10 | 特開2022-175820 | 保持装置 | 2024-05-28 |
11 | 特開2023-049537 | 保持装置 | 2024-05-08 |
12 | 特開2023-161172 | ウエハ載置台 | 2024-05-07 |
13 | 特開2021-127404 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | 2024-04-30 |
14 | 特開2023-149659 | ウエハ載置台 | 2024-04-23 |
15 | 特許4098338 | ウェハ移載装置および基板移載装置 | 2024-04-16 |
16 | 特許7376753 | マルチゾーンヒータ | 2024-04-16 |
17 | 特開2023-070126 | 炭化ケイ素ウエハ及びこの製造方法 | 2024-04-09 |
18 | 特開2024-117753 | ウエハ酸化物除去及びリフロー処理のための装置及び方法 | 2024-03-19 |
19 | 特開2023-126087 | 基板処理装置、及び、半導体装置の製造方法 | 2024-03-18 |
20 | 特開2023-089291 | ビア付き基板及びビア付きシリコンウエハ | 2024-02-20 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 128件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許7018168号「感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法」(9回)、次に多い特許は 特許7582200号「半導体用接着剤、半導体用接着剤シート、及び半導体装置の製造方法」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7018168 | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | 9 回 |
2 | 特許7582200 | 半導体用接着剤、半導体用接着剤シート、及び半導体装置の製造方法 | 6 回 |
3 | 特許7237828 | エポキシ樹脂組成物、電子部品実装構造体およびその製造方法 | 4 回 |
4 | 特許7540347 | 樹脂組成物及び樹脂組成物充填済みシリンジ | 4 回 |
5 | 特開2022-024328 | 保持装置 | 3 回 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 1,527件 ありました。平均被引用数は 3.1回 です。 被引用数が多い特許は 特許5802323号「エッチング処理方法」(111回)、次に多い特許は 特許7047046号「マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法」(41回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5802323 | エッチング処理方法 | 111 回 |
2 | 特許7047046 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 | 41 回 |
3 | 特許6912179 | 正面開口式リングポッド | 31 回 |
4 | 特許6438978 | マイクロ組立LEDディスプレイ | 28 回 |
5 | 特開2017-124615 | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置および製造方法 | 25 回 |
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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