最終更新日:2021/10/04

ウエハー (特許分析レポート・日本)

技術分野「ウエハー」の直近(2020-01-01〜2020-01-31)の特許出願件数は 17件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-01-31)の特許出願件数 29件 に比べて -12件(-41.4%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 ウェハー 」、「 ウェファー 」、「 ウェーハ 」、「 ウェーハー 」、「 ウエハ 」、「 ウエハー 」、「 ウエーハ 」、「 ウエーハー 」、「 ウエーファ 」、「 素子ウエハ 」、「 素子ウエハー 」に関する技術用語も検索集合に含みます。

出願件数が最も多い年は 2011年 の1,238件、最も少ない年は 2019年 の420件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計3,393件)の平均値は679件、中央値は690件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.23であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 679
標準偏差 154
変動係数 0.23

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 420 -32.0 %
2018 年 618 -10.43 %
2017 年 690 -14.60 %

ウエハーの過去10年間(2011-01-01〜2021-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、ウエハーの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、ウエハーの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったウエハーの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedIn、またはIPTech特許業務法人からお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「ウエハー」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「ウエハー」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

ウエハー 日本特許件数 推移

ウエハー の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「7,738件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
技術分野:
ウエハー
特許分析期間
2011-01-01〜2021-09-30
対象件数
7,738

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

ウエハーと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の26件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の24件です。

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
東京エレクトロン株式会社 26
三菱電機株式会社 24
キヤノン株式会社 14
株式会社ニコン 2

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の791件、次に多いのは 株式会社ニコン の286件です。

上位企業 日本特許件数 推移

ウエハー の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

東京エレクトロン株式会社 の特許出願傾向

東京エレクトロン株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 791件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計328件)の平均値は65.6件、中央値は80.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の133件、最も少ない年は 2019年 の21件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 65.6
標準偏差 29.1
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 21 -51.2 %
2018 年 43 -46.2 %
2017 年 80 -20.00 %

株式会社ニコン の特許出願傾向

株式会社ニコン の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 286件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計98件)の平均値は19.6件、中央値は20.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2013年 の65件、最も少ない年は 2019年 の2件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 19.6
標準偏差 11.6
変動係数 0.6
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 2 -90.0 %
2018 年 20 +66.7 %
2017 年 12 -62.5 %

キヤノン株式会社 の特許出願傾向

キヤノン株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 75件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計38件)の平均値は7.6件、中央値は7.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は増加傾向です。 出願件数が最も多い年は 2019年 の12件、最も少ない年は 2017年 の3件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 7.6
標準偏差 2.9
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 12 +71.4 %
2018 年 7 +133 %
2017 年 3 -57.1 %

株式会社日立製作所 の特許出願傾向

株式会社日立製作所 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 11件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計3件)の平均値は0.6件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

出願件数が最も多い年は 2012年 の5件、最も少ない年は 2015年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 0.6
標準偏差 0.8
変動係数 1.3
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2017 年 1 -50.0 %
2016 年 2 -
2015 年 0 -100 %

三菱電機株式会社 の特許出願傾向

三菱電機株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 221件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計115件)の平均値は23.0件、中央値は23.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.19であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

出願件数が最も多い年は 2012年 の33件、最も少ない年は 2019年 の16件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 23.0
標準偏差 4.5
変動係数 0.19
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 16 -46.7 %
2018 年 30 +30.4 %
2017 年 23 +4.55 %

重要特許情報   (日本)

ウエハー の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、ウエハーが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 16件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6839314号「ウエハ載置装置及びその製法」(異議申立日 2021-09-02)、次は 特許6670156号「回路部材接続用シートおよび半導体装置の製造方法」(異議申立日 2020-09-17)です。

直近の異議申立 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6839314 ウエハ載置装置及びその製法 2021-09-02
2 特許6670156 回路部材接続用シートおよび半導体装置の製造方法 2020-09-17
3 特許6655703 被整備テストヘッド及びウエハ検査装置 2020-08-25
4 特許6572371 ウエハ検査装置 2020-03-10
5 特許6540964 プロービング装置及びプローブコンタクト方法 2019-12-23
6 特許6514653 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット 2019-11-14
7 特許6513591 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット 2019-11-14
8 特許6475901 半導体加工用粘着テープおよび半導体装置の製造方法 2019-08-27
9 特許6467722 プローバ 2019-08-06
10 特許6460615 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート 2019-07-29

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 8件 ありました。平均情報提供数は 1.6回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2019-006983号「熱溶融性フッ素樹脂成形品」(情報提供日 2021-03-31)、次は 特開2017-116652号「感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法」(情報提供日 2020-08-04)です。

直近の情報提供 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2019-006983 熱溶融性フッ素樹脂成形品 2021-03-31
2 特開2017-116652 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 2020-08-04
3 特許6893500 保護膜形成用複合シート 2019-10-28
4 特許6703485 半導体ウエハ加工用シート用基材、半導体ウエハ加工用シート、および半導体装置の製造方法 2019-10-25
5 特許6832620 窒化物半導体発光素子 2019-07-08
6 特許6917205 磁気抵抗素子の製造方法 2019-07-05
7 特許6564686 ビトリファイドボンド超砥粒ホイールおよびそれを用いたウエハの製造方法 2019-05-27
8 特許6636696 半導体ウエハのマウント方法および半導体ウエハのマウント装置 2019-02-25

3件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 50件 ありました。平均情報提供数は 2.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特開2012-080103号「サセプター及びその製法」(6回)、次に多い特許は 特許5640064号「ビトリファイドボンド超砥粒ホイールおよびそれを用いてウエハを研削加工する方法」(6回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特開2012-080103 サセプター及びその製法 6
2 特許5640064 ビトリファイドボンド超砥粒ホイールおよびそれを用いてウエハを研削加工する方法 6
3 特許6231254 表面保護シート 6
4 特開2013-108831 センサー装置およびセンサー装置の製造方法 4
5 特許5909460 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法。 4

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 47件 ありました。平均閲覧請求数は 2.1回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特表2018-517886号「ゼロ光路長差光フェーズドアレイ」(閲覧請求日 2021-09-08)、次は 特許6927692号「多層配線構造、多層配線構造の製造方法、半導体装置及びファンアウトタイプウエハーレベルパッケージ」(閲覧請求日 2021-08-05)です。

直近の閲覧請求 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特表2018-517886 ゼロ光路長差光フェーズドアレイ 2021-09-08
2 特許6927692 多層配線構造、多層配線構造の製造方法、半導体装置及びファンアウトタイプウエハーレベルパッケージ 2021-08-05
3 特開2019-006983 熱溶融性フッ素樹脂成形品 2021-06-18
4 特許5421402 ウェハ支持部材 2021-05-20
5 特許4244618 窒化物半導体素子の製造方法 2021-04-01
6 特許6754890 ウエハ支持台 2021-02-22
7 特開2020-118984 計測装置、露光装置及びリソグラフィシステム、並びに計測方法及び露光方法 2020-11-05
8 特開2020-027234 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 2020-11-05
9 特開2020-052430 計測装置及び計測方法、並びに露光装置 2020-11-05
10 再公表2016/199738 荷電粒子ビーム露光装置及びデバイス製造方法 2020-11-05
11 特開2020-016903 搬送システム、露光装置、搬送方法、露光方法及びデバイス製造方法 2020-11-05
12 特許5961601 医薬組成物 2020-09-08
13 特開2017-116652 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 2020-09-07
14 特表2008-504203 100ミリメートル高純度半絶縁単結晶炭化珪素ウエハ 2020-06-17
15 特許4402973 ウエーハの分割方法 2020-03-26
16 特許6392866 結晶シリコン太陽電池の表面テクスチャ構造及びその製造方法 2020-01-30
17 特許6787867 ウエハ上の欠陥を検出するためのシステムおよび方法 2020-01-28
18 特許6722977 二酸化ケイ素の堆積 2020-01-08
19 特許3909248 試料加熱装置 2019-12-24
20 特許4443556 試料加熱装置の製造方法 2019-12-24

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 155件 ありました。平均閲覧請求数は 2.2回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許5640050号「半導体装置の製造方法」(10回)、次に多い特許は 特許5820308号「静電チャック及びウェーハを支持する方法。」(10回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5640050 半導体装置の製造方法 10
2 特許5820308 静電チャック及びウェーハを支持する方法。 10
3 特許6377368 ダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム 8
4 特許5640051 半導体装置の製造方法 8
5 特開2012-080103 サセプター及びその製法 6

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 1,981件 ありました。平均被引用数は 2.8回 です。 被引用数が多い特許は 特表2014-521117号「アレイカメラで使用するための光学配列」(136回)、次に多い特許は 特許5802323号「エッチング処理方法」(91回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特表2014-521117 アレイカメラで使用するための光学配列 136
2 特許5802323 エッチング処理方法 91
3 特許6317547 基板処理方法 40
4 特許6082272 支援情報表示方法、基板処理装置の保守支援方法、支援情報表示制御装置、基板処理システム及びプログラム 27
5 特許5851824 繊維含有樹脂基板、封止後半導体素子搭載基板及び封止後半導体素子形成ウエハ、半導体装置、及び半導体装置の製造方法 26

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