技術分野「SIH」の公開遅延を考慮した比較期間(2024-01-01〜2024-10-31)の特許出願件数は 62件 です。前年同期間(2023-01-01〜2023-10-31)の特許出願件数 89件 に比べて -27件(-30.3%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 ソマトトロピン放出抑制ホルモン 」、「 ソマトトロピン放出抑制因子 」、「 成長ホルモン分泌抑制ホルモン 」、「 成長ホルモン分泌抑制因子 」、「 成長ホルモン抑制ホルモン 」、「 成長ホルモン放出抑制ホルモン 」、「 成長ホルモン放出抑制因子 」、「 GH‐RIF 」、「 GH-RIF 」、「 GIF 」、「 SIH 」、「 GH−RIF 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2022年 の136件、最も少ない年は 2024年 の69件です(対象年: 2021、2022、2023、2024)。
過去4年間の出願件数(2021〜2024年、計441件)の平均値は110件、中央値は118件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.23であり、年ごとの出願件数は緩やかな変動が見られます。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 110 件 |
| 標準偏差 | 25.9 |
| 変動係数 | 0.23 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 18 件 | -73.9% |
| 2024 年 | 69 件 | -36.1% |
| 2023 年 | 108 件 | -20.59% |
SIHの過去6年間(2020〜2025)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較できます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、SIHの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、SIHの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)といったSIHの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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SIH の過去 6年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
| 年 | 件数 |
|---|---|
| 2021 | 128 |
| 2022 | 136 |
| 2023 | 108 |
| 2024 | 69 |
| 2025 | 18 |
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「459件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 なお、検索集合の件数(459件)とチャート上の出願件数合計は、検索式・期間定義の違いにより一致しない場合があります。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
| 公報番号 | 発明の名称 | 書誌情報 | 技術テーマ |
|---|---|---|---|
| 1. 特開2026-143719 | シリコーン樹脂組成物、該シリコーン樹脂組成物の硬化物、及び光半導体装置 | ・出願人 信越化学工業株式会社 ・出願日 2023-07-28 ・公開日 2026-09-08 | — |
| 2. 特表2026-530409 | ケイ素系及び炭素系複合粒子 | ・出願人 セネートアクティーゼルスカブ ・出願日 2024-07-19 ・公開日 2026-09-08 | 5H050 |
| 3. 特表2026-530419 | ケイ素系微小粒子及び二次LIBにおけるその使用 | ・出願人 セネートアクティーゼルスカブ ・出願日 2024-07-19 ・公開日 2026-09-08 | 4G146, 5H050 |
| 4. 特開2026-143164 | シリコンゲルマニウムウェーハの製造方法。 | ・出願人 信越半導体株式会社 ・出願日 2025-02-27 ・公開日 2026-09-08 | 4G077, 4K030, 5F045 |
| 5. 特許7916165 | プラズマ処理装置 | ・出願人 東京エレクトロン株式会社 ・出願日 2022-09-09 ・公開日 2026-09-07 | 2G084, 4K030, 5F004, 5F045 |
| 6. 特開2026-141510 | エポキシ基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンの製造方法、硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及び剥離シート | ・出願人 信越化学工業株式会社 ・出願日 2025-02-25 ・公開日 2026-09-04 | 4J002, 4J038, 4J246 |
| 7. 特表2026-530174 | 炭化ケイ素基板用の不透明な熱層 | ・出願人 アプライドマテリアルズインコーポレイテッド ・出願日 2024-08-28 ・公開日 2026-09-04 | 4K030, 5F045 |
| 8. 特表2026-530181 | 高温モーターオイル耐性のためのフェニルシリコーン組成物 | ・出願人 ダウシリコーンズコーポレーション ・出願日 2023-09-05 ・公開日 2026-09-04 | 4H017, 4J002 |
| 9. 特表2026-529943 | 付加硬化型熱伝導性オルガノポリシロキサン接着剤組成物 | ・出願人 ダウシリコーンズコーポレーション ・出願日 2023-08-30 ・公開日 2026-09-03 | 4J040 |
| 10. 特表2026-529527 | ルテニウム含有薄膜の製造方法およびこれにより製造されたルテニウム含有薄膜 | ・出願人 ディーエヌエフカンパニーリミテッド ・出願日 2024-08-23 ・公開日 2026-09-01 | 4K030, 4M104 |
| 11. 特表2026-529186 | 液体ヒドロシラン中の金属水素化物触媒の溶液を使用して1252ZCから1243ZFを除去するためのプロセス及び組成物 | ・出願人 ザケマーズカンパニーエフシーリミテッドライアビリティカンパニー ・出願日 2024-07-09 ・公開日 2026-08-28 | 4G169, 4H006, 4H039 |
| 12. 特表2026-529292 | 高温安定熱伝導性材料 | ・出願人 ダウシリコーンズコーポレーション ・出願日 2023-08-23 ・公開日 2026-08-28 | 4J002 |
| 13. 特表2026-528928 | 粒子状多孔質骨格 | ・出願人 ネクシオンリミテッド ・出願日 2024-08-09 ・公開日 2026-08-26 | 4G146, 5H050 |
| 14. 特表2026-528929 | 複合粒子 | ・出願人 ネクシオンリミテッド ・出願日 2024-08-09 ・公開日 2026-08-26 | 4G146, 5H050 |
| 15. 特表2026-528946 | 金属イオン電池用の電気活性材料 | ・出願人 ネクシオンリミテッド ・出願日 2024-08-15 ・公開日 2026-08-26 | 5H029, 5H050 |
この技術分野の主な出願人の特許件数および件数推移を以下に示します。出願人別の件数を比較することで、各社の研究開発状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の29件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の16件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 29 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 16 件 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 14 件 |
| ダウシリコーンズコーポレーション | 11 件 |
| ネクシオンリミテッド | 8 件 |
| 株式会社カネカ | 4 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2020〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の87件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の51件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 87 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 51 件 |
| ダウシリコーンズコーポレーション | 44 件 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 29 件 |
| 株式会社カネカ | 18 件 |
| ネクシオンリミテッド | 14 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業6社 の 過去6年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 87 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 51 |
| ダウシリコーンズコーポレーション | 44 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 29 |
| 株式会社カネカ | 18 |
| ネクシオンリミテッド | 14 |
この技術分野の主な出願人の特許件数および件数推移を以下に示します。出願人別の件数を比較することで、各社の研究開発状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の29件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の16件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 29 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 16 件 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 14 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2020〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の87件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の51件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 87 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 51 件 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 29 件 |
SIH の過去6年間の 上位共願人3社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 87 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 51 |
| ダウシリコーンズコーポレーション | 44 |
SIH の過去6年間の 上位共願人3社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 87 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 51 |
| ダウシリコーンズコーポレーション | 44 |
信越化学工業株式会社 の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 87件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計84件)の平均値は16.8件、中央値は16.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数はばらつきが大きいです。
公開遅延を考慮した直近3年間(2023〜2025年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2020年 の24件、最も少ない年は 2024年 の10件です(対象年: 2020、2021、2022、2023、2024)。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 16.8 件 |
| 標準偏差 | 5.1 |
| 変動係数 | 0.3 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 3 件 | -70.0% |
| 2024 年 | 10 件 | -37.5% |
| 2023 年 | 16 件 | +23.08% |
東京エレクトロン株式会社 の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 51件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計51件)の平均値は10.2件、中央値は10.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数はばらつきが大きいです。
対象期間に収録データ上0件の年があるため、増減の断定は控え、年次表で件数を確認してください。 出願件数が最も多い年は 2021年 の16件、最も少ない年は 2024年 の5件です(対象年: 2020、2021、2022、2023、2024)。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 10.2 件 |
| 標準偏差 | 3.5 |
| 変動係数 | 0.3 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 0 件 | -100% |
| 2024 年 | 5 件 | -54.5% |
| 2023 年 | 11 件 | +22.22% |
アプライドマテリアルズインコーポレイテッド の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 29件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計29件)の平均値は5.8件、中央値は6.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数はばらつきが大きいです。
対象期間に収録データ上0件の年があるため、増減の断定は控え、年次表で件数を確認してください。 出願件数が最も多い年は 2022年 の9件、最も少ない年は 2020年 の1件です(対象年: 2020、2021、2022、2023、2024)。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 5.8 件 |
| 標準偏差 | 2.8 |
| 変動係数 | 0.5 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 0 件 | -100% |
| 2024 年 | 6 件 | -25.00% |
| 2023 年 | 8 件 | -11.11% |
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