本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「半導体のドライエッチング技術」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
テーマコード「半導体のドライエッチング技術」の直近(2022-01-01〜2022-08-31)の特許出願件数は 385件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-08-31)の特許出願件数 594件 に比べて -209件(-35.2%) と大幅に減少しています。
出願件数が最も多い年は 2018年 の940件、最も少ない年は 2022年 の482件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計4,036件)の平均値は673件、中央値は821件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 673 件 |
標準偏差 | 310 |
変動係数 | 0.5 |
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 482 件 | -44.1 % |
2021 年 | 862 件 | +10.51 % |
2020 年 | 780 件 | -13.81 % |
半導体のドライエッチング技術[5F004]の過去10年間(2014-01-01〜2024-04-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、半導体のドライエッチング技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、半導体のドライエッチング技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった半導体のドライエッチング技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
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半導体のドライエッチング技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、半導体のドライエッチング技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
半導体のドライエッチング技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「7,167件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
技術テーマ「半導体のドライエッチング技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の190件、次に多いのは アプライドマテリアルズインコーポレイテッド の37件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
東京エレクトロン株式会社 | 190 件 |
アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 37 件 |
株式会社日立ハイテク | 16 件 |
ラムリサーチコーポレーション | 14 件 |
三菱電機株式会社 | 2 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の2,093件、次に多いのは アプライドマテリアルズインコーポレイテッド の765件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
東京エレクトロン株式会社 | 2,093 件 |
アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 765 件 |
ラムリサーチコーポレーション | 564 件 |
株式会社日立ハイテク | 365 件 |
株式会社東芝 | 60 件 |
三菱電機株式会社 | 19 件 |
株式会社日立製作所 | 6 件 |
富士通株式会社 | 4 件 |
日本電気株式会社 | 2 件 |
ソニーグループ株式会社 | 1 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 1 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
技術テーマ「半導体のドライエッチング技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位出願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の190件、次に多いのは アプライドマテリアルズインコーポレイテッド の37件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
東京エレクトロン株式会社 | 190 件 |
アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 37 件 |
上位出願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 東京エレクトロン株式会社 の2,093件、次に多いのは アプライドマテリアルズインコーポレイテッド の765件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
東京エレクトロン株式会社 | 2,093 件 |
アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 765 件 |
株式会社東芝 | 60 件 |
株式会社日立製作所 | 6 件 |
富士通株式会社 | 4 件 |
日本電気株式会社 | 2 件 |
ソニーグループ株式会社 | 1 件 |
半導体のドライエッチング技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
半導体のドライエッチング技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
東京エレクトロン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 2,093件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計1,341件)の平均値は224件、中央値は274件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
出願件数が最も多い年は 2019年 の305件、最も少ない年は 2022年 の170件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 224 件 |
標準偏差 | 101 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 170 件 | -37.7 % |
2021 年 | 273 件 | -8.39 % |
2020 年 | 298 件 | -2.30 % |
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 6件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計2件)の平均値は0.3件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.4であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の2件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.3 件 |
標準偏差 | 0.5 |
変動係数 | 1.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2019 年 | 1 件 | 0 |
2018 年 | 1 件 | -50.0 % |
2017 年 | 2 件 | 0 |
株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 60件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計17件)の平均値は2.8件、中央値は2.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の24件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 2.8 件 |
標準偏差 | 3.1 |
変動係数 | 1.1 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2021 年 | 3 件 | -25.00 % |
2020 年 | 4 件 | -55.6 % |
2019 年 | 9 件 | +800 % |
富士通株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 4件 です。
過去10年間の出願件数(2013〜2023年、計5件)の平均値は0.5件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.4であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2017年 の2件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.5 件 |
標準偏差 | 0.7 |
変動係数 | 1.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2021 年 | 1 件 | - |
2020 年 | 0 件 | - |
2019 年 | 0 件 | - |
アプライドマテリアルズインコーポレイテッド の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 765件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計454件)の平均値は75.7件、中央値は94.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2019年 の118件、最も少ない年は 2022年 の37件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 75.7 件 |
標準偏差 | 42.7 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 37 件 | -66.7 % |
2021 年 | 111 件 | +23.33 % |
2020 年 | 90 件 | -23.73 % |
半導体のドライエッチング技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、半導体のドライエッチング技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-05-01〜2024-04-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 15件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7307299号「静電チャック」(異議申立日 2024-01-11)、次は 特許7320554号「エッチング方法」(異議申立日 2023-10-02)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7307299 | 静電チャック | 2024-01-11 |
2 | 特許7320554 | エッチング方法 | 2023-10-02 |
3 | 特許7248167 | 静電チャック部材及び静電チャック装置 | 2023-09-11 |
4 | 特許7203260 | 静電チャック部材、静電チャック装置及び静電チャック部材の製造方法 | 2023-07-05 |
5 | 特許7048713 | フッ素ゴム組成物及びそれを用いて形成されたゴム成形品 | 2022-09-30 |
6 | 特許7050270 | 半導体発光素子及び発光モジュール | 2022-09-29 |
7 | 特許6994981 | プラズマ処理装置及び載置台の製造方法 | 2022-07-08 |
8 | 特許6989191 | プラズマエッチング装置用の電極に設けられたガス導入孔の測定方法、電極の再生方法およびプラズマエッチング装置 | 2022-07-01 |
9 | 特許6987166 | ピクセル型温度制御式基板支持アセンブリ | 2022-06-13 |
10 | 特許6931492 | 静電チャック | 2022-03-08 |
直近3年間(2021-05-01〜2024-04-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 23件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特表2023-502137号「プラズマチャンバの低温焼結コーティング」(情報提供日 2024-02-26)、次は 特開2022-094023号「プラズマ処理装置」(情報提供日 2024-02-22)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特表2023-502137 | プラズマチャンバの低温焼結コーティング | 2024-02-26 |
2 | 特開2022-094023 | プラズマ処理装置 | 2024-02-22 |
3 | 特開2023-080269 | 保持装置 | 2024-02-05 |
4 | 特開2023-182033 | 保持装置 | 2024-01-30 |
5 | 特開2022-083511 | 焼結体、焼結体の製造方法、半導体製造装置及び半導体製造装置の製造方法 | 2024-01-12 |
6 | 特開2022-090466 | 静電チャック装置 | 2023-12-14 |
7 | 特表2023-542463 | 低温応用例のための静電チャックアセンブリ | 2023-12-08 |
8 | 特開2020-013983 | 高温静電チャック | 2023-11-10 |
9 | 特開2023-058845 | ウエハ載置台 | 2023-10-17 |
10 | 特開2021-090036 | 載置台及び基板処理装置 | 2023-04-20 |
11 | 特開2022-145853 | 静電チャック | 2023-04-19 |
12 | 特許7308254 | 保持装置 | 2023-02-07 |
13 | 特許7420600 | 耐食性部材 | 2022-12-21 |
14 | 特許7394556 | 載置台及び基板処理装置 | 2022-09-20 |
15 | 特許7307299 | 静電チャック | 2022-08-30 |
16 | 特許7444842 | ピクセル型温度制御式基板支持アセンブリ | 2022-07-19 |
17 | 特許7403215 | 基板支持体及び基板処理装置 | 2022-07-07 |
18 | 特許7154912 | アルミナ質焼結体及びその製造方法 | 2022-02-17 |
19 | 特許7231367 | アルミナ質焼結体 | 2022-02-17 |
20 | 特許7115582 | 複合構造物および複合構造物を備えた半導体製造装置 | 2022-01-17 |
直近10年間(2014-05-01〜2024-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 34件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7050270号「半導体発光素子及び発光モジュール」(3回)、次に多い特許は 特許6909448号「静電チャック」(3回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7050270 | 半導体発光素子及び発光モジュール | 3 回 |
2 | 特許6909448 | 静電チャック | 3 回 |
3 | 特許6909447 | 静電チャック | 3 回 |
4 | 特開2020-167405 | 静電チャック | 3 回 |
5 | 特許7308254 | 保持装置 | 2 回 |
直近3年間(2021-05-01〜2024-04-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 45件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-080269号「保持装置」(閲覧請求日 2024-02-29)、次は 特開2020-013983号「高温静電チャック」(閲覧請求日 2024-02-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-080269 | 保持装置 | 2024-02-29 |
2 | 特開2020-013983 | 高温静電チャック | 2024-02-14 |
3 | 特開2023-182033 | 保持装置 | 2024-02-07 |
4 | 特表2023-542463 | 低温応用例のための静電チャックアセンブリ | 2023-12-25 |
5 | 特開2022-090466 | 静電チャック装置 | 2023-12-19 |
6 | 特許6909448 | 静電チャック | 2023-11-15 |
7 | 特許6909447 | 静電チャック | 2023-11-15 |
8 | 特開2023-058845 | ウエハ載置台 | 2023-10-24 |
9 | 特許7183526 | 静電チャック及び半導体製造装置 | 2023-06-29 |
10 | 特許6195029 | 静電チャック | 2023-06-29 |
11 | 特許6504532 | 静電チャック | 2023-06-29 |
12 | 特許6341457 | 静電チャック | 2023-06-29 |
13 | 特許6587223 | 静電チャック | 2023-06-29 |
14 | 特許7060771 | 半導体製造装置用部材 | 2023-06-29 |
15 | 特許7129587 | ウエハ支持台及びRFロッド | 2023-06-29 |
16 | 特許6801773 | 半導体製造装置用部材および半導体製造装置用部材を備えた半導体製造装置並びにディスプレイ製造装置 | 2023-06-29 |
17 | 特許6238098 | 静電チャック | 2023-06-29 |
18 | 特許6489277 | 静電チャック | 2023-06-29 |
19 | 特許6729735 | 静電チャック | 2023-06-29 |
20 | 特許6870768 | 静電チャック | 2023-06-29 |
直近10年間(2014-05-01〜2024-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 90件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6909448号「静電チャック」(8回)、次に多い特許は 特許6909447号「静電チャック」(8回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6909448 | 静電チャック | 8 回 |
2 | 特許6909447 | 静電チャック | 8 回 |
3 | 特開2020-013983 | 高温静電チャック | 4 回 |
4 | 特許6384536 | フッ化イットリウム溶射材料及びオキシフッ化イットリウム成膜部品の製造方法 | 4 回 |
5 | 特開2020-167405 | 静電チャック | 4 回 |
直近10年間(2014-05-01〜2024-04-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 1,928件 ありました。平均被引用数は 3.1回 です。 被引用数が多い特許は 特許6320282号「エッチング方法」(110回)、次に多い特許は 特許5802323号「エッチング処理方法」(108回)です。
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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