最終更新日:2021/12/05

赤外線 (特許分析レポート・日本)

技術分野「赤外線」の直近(2020-01-01〜2020-04-30)の特許出願件数は 439件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-04-30)の特許出願件数 796件 に比べて -357件(-44.8%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 IR 」、「 赤外放射 」に関する技術用語も検索集合に含みます。

出願件数が最も多い年は 2013年 の3,632件、最も少ない年は 2020年 の722件です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計10,306件)の平均値は2,061件、中央値は2,471件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 2,061
標準偏差 699
変動係数 0.3

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 722 -64.1 %
2019 年 2,010 -18.66 %
2018 年 2,471 -2.10 %

赤外線の過去10年間(2012-01-01〜2021-12-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、赤外線の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、赤外線の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった赤外線の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedIn、またはIPTech特許業務法人からお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「赤外線」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「赤外線」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

赤外線 日本特許件数 推移

赤外線 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「22,804件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
技術分野:
赤外線
特許分析期間
2012-01-01〜2021-12-31
対象件数
22,804

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

赤外線と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 三菱電機株式会社 の17件、次に多いのは キヤノン株式会社 の13件です。

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
三菱電機株式会社 17
キヤノン株式会社 13
富士フイルム株式会社 12
株式会社東芝 10
富士通株式会社 2
シャープ株式会社 2

対象期間(2012〜2022年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 富士フイルム株式会社 の479件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の448件です。

上位企業 日本特許件数 推移

赤外線 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

パナソニック株式会社 の特許出願傾向

パナソニック株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 107件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計7件)の平均値は1.4件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

出願件数が最も多い年は 2012年 の59件、最も少ない年は 2019年 の0件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 1.4
標準偏差 1.5
変動係数 1.1
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2018 年 2 +100 %
2017 年 1 -75.0 %
2016 年 4 +100 %

三菱電機株式会社 の特許出願傾向

三菱電機株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 448件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計202件)の平均値は40.4件、中央値は44.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の94件、最も少ない年は 2020年 の16件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 40.4
標準偏差 13.3
変動係数 0.3
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 16 -63.6 %
2019 年 44 -15.38 %
2018 年 52 0

株式会社東芝 の特許出願傾向

株式会社東芝 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 248件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計89件)の平均値は17.8件、中央値は16.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の57件、最も少ない年は 2020年 の10件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 17.8
標準偏差 5.9
変動係数 0.3
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 10 -28.57 %
2019 年 14 -46.2 %
2018 年 26 +13.04 %

富士フイルム株式会社 の特許出願傾向

富士フイルム株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 479件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計276件)の平均値は55.2件、中央値は57.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2017年 の77件、最も少ない年は 2020年 の12件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 55.2
標準偏差 23.1
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 12 -78.9 %
2019 年 57 -21.92 %
2018 年 73 -5.19 %

富士通株式会社 の特許出願傾向

富士通株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 123件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計60件)の平均値は12.0件、中央値は15.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2016年 の20件、最も少ない年は 2020年 の2件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 12.0
標準偏差 6.5
変動係数 0.5
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 2 -71.4 %
2019 年 7 -53.3 %
2018 年 15 -6.25 %

重要特許情報   (日本)

赤外線 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、赤外線が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2019-01-01〜2021-12-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 6件 ありました。平均無効審判請求数は 1.3回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許3990711号「レーザ加工装置」(無効審判請求日 2021-08-06)、次は 特許5976320号「塗装機器および塗装方法」(無効審判請求日 2021-05-28)です。

直近の無効審判請求 (2019-01-01〜2021-12-31)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許3990711 レーザ加工装置 2021-08-06
2 特許5976320 塗装機器および塗装方法 2021-05-28
3 特許6331164 水道配管における漏水位置検知装置 2021-03-17
4 特許5800452 半導体発光素子 2019-04-11
5 特許6320582 半導体発光素子 2019-04-11
6 特許5259005 ドットパターンが形成された媒体、ドットパターンを用いた情報入力方法、ドットパターンを用いた情報入出力方法、ドットパターンを用いた情報入力装置、ドットパターンを用いた情報処理装置 2019-01-18

1件の特許を表示する  

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2012-01-01〜2021-12-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 4件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6331164号「水道配管における漏水位置検知装置」(1回)、次に多い特許は 特許5894240号「船舶」(1回)です。

10年間(2012-01-01〜2021-12-31) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6331164 水道配管における漏水位置検知装置 1
2 特許5894240 船舶 1
3 特許6320582 半導体発光素子 1
4 特許5259005 ドットパターンが形成された媒体、ドットパターンを用いた情報入力方法、ドットパターンを用いた情報入出力方法、ドットパターンを用いた情報入力装置、ドットパターンを用いた情報処理装置 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2019-01-01〜2021-12-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 29件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6875082号「インプリント用モールド」(異議申立日 2021-11-16)、次は 特許6870082号「二メシル酸パルボシクリブの固体形態」(異議申立日 2021-11-12)です。

直近の異議申立 (2019-01-01〜2021-12-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6875082 インプリント用モールド 2021-11-16
2 特許6870082 二メシル酸パルボシクリブの固体形態 2021-11-12
3 特許6876983 樹脂判定方法及び装置 2021-11-02
4 特許6861614 放射冷却装置および放射冷却方法 2021-10-21
5 特許6859496 ガス孔をもつ半導体製造装置部品の洗浄方法 2021-10-11
6 特開2019-076895 遷移金属/ゼオライトSCR触媒 2021-10-07
7 特許6850885 赤外発光装置 2021-09-16
8 特許6821098 放射冷却装置 2021-07-27
9 特許6821063 放射冷却装置 2021-07-27
10 特許6821084 放射冷却装置 2021-07-27

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2019-01-01〜2021-12-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 99件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特表2021-503367号「循環クロマトグラフィー精製プロセスを監視、評価及び制御する方法」(情報提供日 2021-12-20)、次は 特開2020-093449号「積層延伸フィルム、化粧シート用基材、化粧シート及び化粧板」(情報提供日 2021-12-10)です。

直近の情報提供 (2019-01-01〜2021-12-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特表2021-503367 循環クロマトグラフィー精製プロセスを監視、評価及び制御する方法 2021-12-20
2 特開2020-093449 積層延伸フィルム、化粧シート用基材、化粧シート及び化粧板 2021-12-10
3 特開2019-208197 監視装置、監視プログラム、記憶媒体、および、監視方法 2021-11-19
4 再公表2020/059509 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 2021-11-10
5 特開2019-209505 タイヤの製造方法 2021-11-05
6 特開2019-034305 重質芳香族炭化水素から軽質芳香族炭化水素を製造するための触媒、その製造方法及び適用 2021-11-05
7 特開2019-044461 日射遮蔽装置およびスラット 2021-11-02
8 特開2019-196627 トイレシステム 2021-10-21
9 特開2021-012371 再帰反射シート 2021-09-27
10 特表2021-516267 エポキシ系組成物 2021-09-06
11 特開2019-048249 二酸化炭素の水素還元用触媒とその製造方法、二酸化炭素の水素還元方法および二酸化炭素の水素還元装置 2021-09-01
12 特開2020-068114 電池用外装材及び電池 2021-08-30
13 特表2018-528268 光免疫療法のための組成物、組み合わせおよび関連方法 2021-08-24
14 再公表2017/200090 熱の移動を抑制する薄膜構造体並びに該薄膜構造体を積層した構造物及び基材 2021-08-23
15 特開2019-070306 建築物外装材用ポリ塩化ビニル被覆金属板 2021-08-19
16 特表2018-528267 フタロシアニン色素コンジュゲートおよびその保存法 2021-08-13
17 特開2019-214820 軽量保温性編地 2021-08-10
18 特開2020-137579 炊飯釜 2021-07-30
19 再公表2019/039159 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ 2021-07-05
20 特開2019-177553 液体吐出装置及び液体吐出方法 2021-06-18

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2012-01-01〜2021-12-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 257件 ありました。平均情報提供数は 2.1回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6302650号「硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ」(10回)、次に多い特許は 特開2012-185166号「メタボロミクスを使用した薬物発見、疾患の処置、及び診断のための方法」(10回)です。

10年間(2012-01-01〜2021-12-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6302650 硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ 10
2 特開2012-185166 メタボロミクスを使用した薬物発見、疾患の処置、及び診断のための方法 10
3 特許6212836 光学フィルムおよびその製造方法、並びにこれを用いた偏光板 10
4 特許6000991 赤外線反射フィルム 8
5 特開2014-101601 軽量保温性編地 8

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2019-01-01〜2021-12-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 224件 ありました。平均閲覧請求数は 1.9回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特表2020-510596号「銀系赤外線(IR)反射層を保護するための銀ドープ保護層を有する(低放射率)low−Eコーティングを有するコーティングされた物品、及びその製造方法」(閲覧請求日 2021-12-17)、次は 特開2021-177517号「半導体装置」(閲覧請求日 2021-12-17)です。

直近の閲覧請求 (2019-01-01〜2021-12-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特表2020-510596 銀系赤外線(IR)反射層を保護するための銀ドープ保護層を有する(低放射率)low−Eコーティングを有するコーティングされた物品、及びその製造方法 2021-12-17
2 特開2021-177517 半導体装置 2021-12-17
3 再公表2020/138050 熱可塑性樹脂組成物及びそれを用いた光学部材 2021-12-16
4 特開2019-209505 タイヤの製造方法 2021-12-07
5 特表2019-507222 エチレン系ポリマーおよびこれを製造する方法 2021-12-03
6 特開2018-153375 電気機器、電気機器としての自律走行型掃除機、及び、電気機器とベースとを有するシステム 2021-11-29
7 特許6473110 脳活動推定装置 2021-11-26
8 特開2019-196627 トイレシステム 2021-11-24
9 特表2016-503342 紫外光を放出するためのデバイス 2021-11-18
10 特許6347084 強誘電体セラミックス及びその製造方法 2021-11-12
11 特開2019-066623 機関室模擬訓練システム、及び、機関室模擬訓練方法 2021-11-12
12 特開2019-168264 近赤外線センサカバー 2021-11-09
13 特許6585016 発光素子、発光装置、電子機器、及び照明装置 2021-11-08
14 特許6313038 注射器 2021-11-01
15 特表2018-522072 改変された細胞および治療の方法 2021-10-26
16 特許6960094 照明器具 2021-10-14
17 特許4759505 非接触データキャリア 2021-10-11
18 特開2019-070306 建築物外装材用ポリ塩化ビニル被覆金属板 2021-10-11
19 特許5840476 シリカ粒子、その製造方法および半導体実装用ペースト 2021-10-05
20 特許6943521 抗菌剤含有シートの製造方法および抗菌剤含有シート 2021-10-04

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被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2012-01-01〜2021-12-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 618件 ありました。平均閲覧請求数は 2.2回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特開2015-016345号「新アルカリ性電子エナジー」(38回)、次に多い特許は 特許5702494号「ピタバスタチンカルシウムの新規な結晶質形態」(18回)です。

10年間(2012-01-01〜2021-12-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特開2015-016345 新アルカリ性電子エナジー 38
2 特許5702494 ピタバスタチンカルシウムの新規な結晶質形態 18
3 特許5859476 赤外線反射フィルム 18
4 特許6000991 赤外線反射フィルム 16
5 特開2012-185166 メタボロミクスを使用した薬物発見、疾患の処置、及び診断のための方法 14

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2012-01-01〜2021-12-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 6,189件 ありました。平均被引用数は 2.7回 です。 被引用数が多い特許は 特許6328391号「スイッチングに基づいたスピン軌道相互作用を使用する磁気トンネルリング接合と、磁気トンネルリング接合を利用するメモリを提供するための方法及びシステム」(117回)、次に多い特許は 特許6013877号「遊技機」(57回)です。

10年間(2012-01-01〜2021-12-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6328391 スイッチングに基づいたスピン軌道相互作用を使用する磁気トンネルリング接合と、磁気トンネルリング接合を利用するメモリを提供するための方法及びシステム 117
2 特許6013877 遊技機 57
3 特表2015-504616 透過近眼式ディスプレイのセンサ入力に基づく映像表示修正 46
4 特許6116815 発光装置 32
5 特許5989429 照明装置および車両用前照灯 31

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