最終更新日:2021/09/04

熱放射 (特許分析レポート・日本)

技術分野「熱放射」の直近(2019-01-01〜2019-12-31)の特許出願件数は 2,185件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-12-31)の特許出願件数 2,679件 に比べて -494件(-18.4%) と減少傾向で推移しています。 本レポートは、「 放散熱 」、「 放熱 」、「 散熱 」、「 温度ふく射 」、「 温度放射 」、「 温度輻射 」、「 熱ふく射 」、「 熱放出 」、「 熱放散 」、「 熱輻射 」に関する技術用語も検索集合に含みます。

出願件数が最も多い年は 2011年 の4,105件、最も少ない年は 2019年 の2,185件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計13,847件)の平均値は2,769件、中央値は2,865件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.12であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 2,769
標準偏差 326
変動係数 0.12

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 2,185 -18.44 %
2018 年 2,679 -6.49 %
2017 年 2,865 -4.60 %

熱放射の過去10年間(2011-01-01〜2021-08-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、熱放射の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、熱放射の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった熱放射の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)
@OseYoshiyuki

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 特許分析・動向調査などはTwitterのDM、またはIPTech特許業務法人までお気軽にお問い合わせください。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「熱放射」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「熱放射」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

熱放射 日本特許件数 推移

熱放射 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「29,004件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
技術分野:
熱放射
特許分析期間
2011-01-01〜2021-08-31
対象件数
29,004

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

熱放射と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社デンソー の182件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の137件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 三菱電機株式会社 の1,626件、次に多いのは 株式会社デンソー の1,566件です。

上位企業 日本特許件数 推移

熱放射 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

パナソニック株式会社 の特許出願傾向

パナソニック株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 515件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計42件)の平均値は8.4件、中央値は9.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2011年 の244件、最も少ない年は 2014年 の3件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 8.4
標準偏差 4.2
変動係数 0.5
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 3 -40.0 %
2018 年 5 -50.0 %
2017 年 10 -33.3 %

三菱電機株式会社 の特許出願傾向

三菱電機株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 1,626件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計747件)の平均値は149件、中央値は161件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.13であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の233件、最も少ない年は 2019年 の116件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 149
標準偏差 19.1
変動係数 0.13
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 116 -17.14 %
2018 年 140 -16.17 %
2017 年 167 +2.45 %

株式会社デンソー の特許出願傾向

株式会社デンソー の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 1,566件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計887件)の平均値は177件、中央値は184件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.07であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2016年 の190件、最も少ない年は 2011年 の150件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 177
標準偏差 12.7
変動係数 0.07
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 156 -8.24 %
2018 年 170 -9.09 %
2017 年 187 -1.58 %

株式会社東芝 の特許出願傾向

株式会社東芝 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 495件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計163件)の平均値は32.6件、中央値は35.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2011年 の97件、最も少ない年は 2018年 の19件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 32.6
標準偏差 11.3
変動係数 0.3
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 21 +10.53 %
2018 年 19 -45.7 %
2017 年 35 -10.26 %

株式会社日立製作所 の特許出願傾向

株式会社日立製作所 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 224件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計77件)の平均値は15.4件、中央値は13.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2013年 の40件、最も少ない年は 2019年 の6件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 15.4
標準偏差 6.9
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 6 -53.8 %
2018 年 13 +8.33 %
2017 年 12 -40.0 %

重要特許情報   (日本)

熱放射 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、熱放射が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2018-09-01〜2021-08-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6145808号「流体ヒータ」(無効審判請求日 2020-10-07)です。

直近の無効審判請求 (2018-09-01〜2021-08-31)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許6145808 流体ヒータ 2020-10-07

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2011-09-01〜2021-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 3件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許5572672号「2次元配列LED照明の製造方法」(1回)、次に多い特許は 特許6145808号「流体ヒータ」(1回)です。

10年間(2011-09-01〜2021-08-31) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5572672 2次元配列LED照明の製造方法 1
2 特許6145808 流体ヒータ 1
3 特許5324681 棒状ライト 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-09-01〜2021-08-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 28件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6824779号「空気調和機の防カビ方法およびそれを用いた空気調和機」(異議申立日 2021-07-08)、次は 特許6794613号「窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、及び成形体」(異議申立日 2021-05-31)です。

直近の異議申立 (2018-09-01〜2021-08-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6824779 空気調和機の防カビ方法およびそれを用いた空気調和機 2021-07-08
2 特許6794613 窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、及び成形体 2021-05-31
3 特許6781786 放熱構造 2021-04-27
4 特許6773153 窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、成形体、及びシート 2021-04-15
5 特許6747897 複合基板および電子装置 2021-02-22
6 特許6742073 セラミックス回路基板 2021-02-16
7 特許6702813 複合基板、電子装置および電子モジュール 2020-12-02
8 特許6698953 窒化ホウ素粉末、その製造方法及びそれを用いた放熱部材 2020-11-26
9 特許6691341 発光体 2020-10-27
10 特許6676479 六方晶窒化ホウ素粉末及びその製造方法 2020-10-06

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-09-01〜2021-08-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 70件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2019-114782号「セラミック板、半導体装置および半導体モジュール」(情報提供日 2021-08-11)、次は 再公表2019/065150号「放熱シートおよび放熱シート付きデバイス」(情報提供日 2021-07-21)です。

直近の情報提供 (2018-09-01〜2021-08-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2019-114782 セラミック板、半導体装置および半導体モジュール 2021-08-11
2 再公表2019/065150 放熱シートおよび放熱シート付きデバイス 2021-07-21
3 特表2020-500972 放熱弾性体組成物およびこれにより具現された放熱弾性体 2021-07-20
4 特開2019-138327 接合体、接合体の製造方法及びプロジェクター 2021-06-23
5 特開2018-108734 伝導性塗膜 2021-06-17
6 特開2019-196516 銅箔、積層体及び電子機器 2021-06-16
7 特開2020-176201 熱伝導性樹脂組成物及び熱伝導性樹脂硬化物 2021-06-15
8 特開2020-057507 放熱構造体およびバッテリー 2021-06-15
9 特開2020-180200 熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法、並びに熱伝導性シリコーン硬化物 2021-06-15
10 特開2020-025006 フィルム付き放熱シート 2021-06-14
11 特開2019-088706 遊技機 2021-04-14
12 再公表2018/061447 高耐荷重性および高熱伝導性を有する放熱シート 2021-04-02
13 再公表2019/031280 高熱伝導性および高絶縁性を有する放熱シート 2021-04-02
14 再公表2018/078436 三次元形状熱伝導性成形体、及びその製造方法 2021-03-31
15 特開2019-172762 熱伝導性熱膨張性部材 2021-03-29
16 特開2019-091726 LED照明器具 2021-03-24
17 特開2019-158732 パワーデバイスの余寿命診断装置および余寿命診断方法 2021-02-25
18 再公表2016/121563 熱伝導性組成物 2021-01-28
19 特開2019-051768 空気入りタイヤ及び組立体 2021-01-27
20 特許6840408 キャンドモーター装置 2020-12-29

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-09-01〜2021-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 184件 ありました。平均情報提供数は 1.7回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6210576号「光半導体素子搭載用基板および光半導体装置」(4回)、次に多い特許は 特許6030216号「ナノスズ含有金属酸化物粒子及び分散体、並びに製造法及びその適用」(4回)です。

10年間(2011-09-01〜2021-08-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6210576 光半導体素子搭載用基板および光半導体装置 4
2 特許6030216 ナノスズ含有金属酸化物粒子及び分散体、並びに製造法及びその適用 4
3 特開2013-154369 連続鋳造方法 4
4 特開2015-062189 照明器具 4
5 特許6279845 遮熱性および放熱性に優れた織編物および繊維製品 4

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-09-01〜2021-08-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 136件 ありました。平均閲覧請求数は 1.5回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2019-114782号「セラミック板、半導体装置および半導体モジュール」(閲覧請求日 2021-08-18)、次は 特開2019-138327号「接合体、接合体の製造方法及びプロジェクター」(閲覧請求日 2021-08-10)です。

直近の閲覧請求 (2018-09-01〜2021-08-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2019-114782 セラミック板、半導体装置および半導体モジュール 2021-08-18
2 特開2019-138327 接合体、接合体の製造方法及びプロジェクター 2021-08-10
3 再公表2019/065150 放熱シートおよび放熱シート付きデバイス 2021-07-29
4 特許6840195 ヒートシンク及びヒートシンクの製造方法 2021-07-29
5 特許6406547 電子部品搭載用パッケージおよび電子装置ならびに電子モジュール 2021-06-25
6 特開2020-176201 熱伝導性樹脂組成物及び熱伝導性樹脂硬化物 2021-06-22
7 特開2020-057507 放熱構造体およびバッテリー 2021-06-22
8 特開2020-180200 熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法、並びに熱伝導性シリコーン硬化物 2021-06-22
9 特開2020-025006 フィルム付き放熱シート 2021-06-22
10 特開2019-132500 冷蔵庫 2021-06-15
11 特開2019-132496 冷蔵庫 2021-06-15
12 特許4659131 電球形ランプ及び照明装置 2021-06-10
13 特許4659132 電球形ランプ及び照明装置 2021-06-10
14 特許4659133 電球形ランプ及び照明装置 2021-06-10
15 特許4659130 電球形ランプ及び照明装置 2021-06-10
16 特開2021-107931 放電ランプ、光源装置、露光装置、およびデバイス製造方法 2021-04-30
17 特開2019-158732 パワーデバイスの余寿命診断装置および余寿命診断方法 2021-04-23
18 特許6868856 五徳付き風防 2021-04-23
19 特許6859957 放電ランプ、放電ランプの交換方法、光源装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 2021-04-09
20 再公表2018/078436 三次元形状熱伝導性成形体、及びその製造方法 2021-04-07

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-09-01〜2021-08-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 434件 ありました。平均閲覧請求数は 2.1回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特開2015-156490号「熱伝導シート、その製造方法及び熱伝導シートを用いた放熱装置」(10回)、次に多い特許は 特許5867151号「内燃機関の排気浄化装置」(8回)です。

10年間(2011-09-01〜2021-08-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特開2015-156490 熱伝導シート、その製造方法及び熱伝導シートを用いた放熱装置 10
2 特許5867151 内燃機関の排気浄化装置 8
3 特開2015-062189 照明器具 8
4 特許5893637 水素−酸素ガス発生装置 8
5 特許5614602 携帯用丸鋸 8

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-09-01〜2021-08-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 7,477件 ありました。平均被引用数は 2.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許5414869号「電動パワーステアリング装置」(48回)、次に多い特許は 特許5864349号「LED電球」(38回)です。

10年間(2011-09-01〜2021-08-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5414869 電動パワーステアリング装置 48
2 特許5864349 LED電球 38
3 特許5916500 組電池 34
4 特許5911323 ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置並びに放射線撮影システム 31
5 特許5886584 半導体発光装置 28

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