本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「ストロンチウム」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「ストロンチウム」の直近(2022-01-01〜2022-07-31)の特許出願件数は 633件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-07-31)の特許出願件数 900件 に比べて -267件(-29.7%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 Sr 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の2,289件、最も少ない年は 2022年 の833件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計8,265件)の平均値は1,378件、中央値は1,645件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,378 件 |
標準偏差 | 672 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 833 件 | -48.5 % |
2021 年 | 1,618 件 | -3.23 % |
2020 年 | 1,672 件 | -15.38 % |
ストロンチウムの過去10年間(2014-01-01〜2024-03-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、ストロンチウムの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、ストロンチウムの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったストロンチウムの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
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ストロンチウム の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「16,890件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
ストロンチウムと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の25件、次に多いのは TDK株式会社 の18件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
住友化学株式会社 | 25 件 |
TDK株式会社 | 18 件 |
キヤノン株式会社 | 12 件 |
株式会社村田製作所 | 5 件 |
富士フイルム株式会社 | 5 件 |
株式会社東芝 | 3 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは TDK株式会社 の250件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の247件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
TDK株式会社 | 250 件 |
富士フイルム株式会社 | 247 件 |
キヤノン株式会社 | 195 件 |
株式会社東芝 | 193 件 |
株式会社村田製作所 | 173 件 |
住友化学株式会社 | 164 件 |
ソニーグループ株式会社 | 142 件 |
住友電気工業株式会社 | 61 件 |
株式会社日立製作所 | 23 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 19 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
ストロンチウムと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは TDK株式会社 の18件、次に多いのは キヤノン株式会社 の12件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
TDK株式会社 | 18 件 |
キヤノン株式会社 | 12 件 |
株式会社村田製作所 | 5 件 |
株式会社東芝 | 3 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 1 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは TDK株式会社 の250件、次に多いのは キヤノン株式会社 の195件です。
ストロンチウム の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ストロンチウム の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 19件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計4件)の平均値は0.7件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2017年 の10件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.7 件 |
標準偏差 | 0.7 |
変動係数 | 1.1 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 0 件 | - |
2021 年 | 0 件 | - |
2020 年 | 0 件 | -100 % |
株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 193件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計55件)の平均値は9.2件、中央値は7.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の43件、最も少ない年は 2022年 の3件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 9.2 件 |
標準偏差 | 7.4 |
変動係数 | 0.8 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 3 件 | -66.7 % |
2021 年 | 9 件 | +50.0 % |
2020 年 | 6 件 | -72.7 % |
TDK株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 250件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計141件)の平均値は23.5件、中央値は23.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2019年 の40件、最も少ない年は 2020年 の14件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 23.5 件 |
標準偏差 | 14.1 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 17 件 | -43.3 % |
2021 年 | 30 件 | +114 % |
2020 年 | 14 件 | -65.0 % |
株式会社村田製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 173件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計65件)の平均値は10.8件、中央値は11.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の35件、最も少ない年は 2022年 の5件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 10.8 件 |
標準偏差 | 7.2 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 5 件 | -44.4 % |
2021 年 | 9 件 | -35.7 % |
2020 年 | 14 件 | -36.4 % |
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 195件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計133件)の平均値は22.2件、中央値は15.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2018年 の51件、最も少ない年は 2022年 の11件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 22.2 件 |
標準偏差 | 17.4 |
変動係数 | 0.8 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 11 件 | 0 |
2021 年 | 11 件 | -45.0 % |
2020 年 | 20 件 | -48.7 % |
ストロンチウム の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、ストロンチウムが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許4372742号「洗浄作業用バン型自動車及びこれを用いた洗浄方法」(無効審判請求日 2022-12-16)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許4372742 | 洗浄作業用バン型自動車及びこれを用いた洗浄方法 | 2022-12-16 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 2件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許5663694号「空気極材料及び固体酸化物型燃料電池」(1回)、次に多い特許は 特許5603515号「空気極材料及び固体酸化物型燃料電池」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5663694 | 空気極材料及び固体酸化物型燃料電池 | 1 回 |
2 | 特許5603515 | 空気極材料及び固体酸化物型燃料電池 | 1 回 |
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 50件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7335579号「電子写真現像剤用キャリア芯材とその製造方法、並びに該キャリア芯材を備えた電子写真現像剤用キャリアと現像剤」(異議申立日 2023-12-11)、次は 特許7282663号「タブリード及びリチウムイオン電池」(異議申立日 2023-11-29)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7335579 | 電子写真現像剤用キャリア芯材とその製造方法、並びに該キャリア芯材を備えた電子写真現像剤用キャリアと現像剤 | 2023-12-11 |
2 | 特許7282663 | タブリード及びリチウムイオン電池 | 2023-11-29 |
3 | 特許7275336 | アルミニウム合金材の製造方法及びアルミニウム合金材 | 2023-11-17 |
4 | 特許7278241 | 電気化学反応単セル | 2023-11-17 |
5 | 特許7276812 | 耐熱粘土原料および耐熱陶磁器 | 2023-11-16 |
6 | 特許7268700 | 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置 | 2023-11-08 |
7 | 特許7245210 | 電気化学反応単セルおよび電気化学反応セルスタック | 2023-09-20 |
8 | 特許7240388 | 熱可塑性粉末組成物及びそのような組成物の3D印刷により製造された強化三次元物体 | 2023-09-15 |
9 | 特許7237544 | 小児の胆汁うっ滞性肝疾患の処置のための胆汁酸再循環阻害剤 | 2023-09-11 |
10 | 特許7227693 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 2023-08-17 |
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 105件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2023-115073号「光学ガラス、プリフォーム及び光学素子」(情報提供日 2024-03-14)、次は 特開2022-084400号「導電性ペースト及び積層セラミックコンデンサ」(情報提供日 2024-02-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-115073 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 2024-03-14 |
2 | 特開2022-084400 | 導電性ペースト及び積層セラミックコンデンサ | 2024-02-14 |
3 | 特表2021-506842 | ポリペプチドの放射性標識 | 2024-01-31 |
4 | 特表2023-527035 | 高安全性及び高容量を兼ね備えたリチウム電池用正極板、その製造方法及び使用 | 2024-01-30 |
5 | 特開2021-178769 | 薄板モールドプレス成形用フツリン酸光学ガラス、マルチプレス用フツリン酸光学ガラス、光学素子、プリフォーム及びレンズ | 2023-12-21 |
6 | 特開2022-078567 | 表面処理金属板 | 2023-12-12 |
7 | 特表2022-553291 | 水性プライマー組成物及びその方法 | 2023-11-21 |
8 | 特開2023-097144 | ガラス粉末複合体、及びガラス粉末複合体の製造方法 | 2023-11-17 |
9 | 特開2022-155210 | イオン徐放性複合粒子、及びイオン徐放性複合粒子の製造方法 | 2023-11-14 |
10 | 特表2023-507959 | 耐腐食性に優れた溶融合金めっき鋼材及びその製造方法 | 2023-11-06 |
11 | 特表2023-507962 | 加工部耐食性に優れたZn-Al-Mg系溶融合金めっき鋼材及びその製造方法 | 2023-11-06 |
12 | 特開2021-165411 | ロータ用無方向性電磁鋼板およびその製造方法 | 2023-10-31 |
13 | 特開2022-085512 | 表面処理鋼材 | 2023-10-27 |
14 | 特開2021-075412 | ジルコン酸カルシウム系粉末及びその製造方法 | 2023-10-13 |
15 | 特表2021-526971 | 消泡剤活性物質、その製造方法、及び消泡配合物 | 2023-10-06 |
16 | 特開2020-190724 | トナー、トナー収容容器、現像剤、現像装置、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | 2023-10-05 |
17 | 特開2022-172169 | リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法、及びこれを含むリチウム二次電池 | 2023-09-21 |
18 | 特開2023-060143 | ニッケル含有水溶液用浄化剤及びニッケル含有水溶液の浄化方法 | 2023-09-07 |
19 | 特表2022-523646 | 安定なカソード材料 | 2023-08-29 |
20 | 特開2023-024442 | 金属被覆鉄ストリップ | 2023-08-23 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 241件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6764792号「ケラチン処理調合物及び方法」(6回)、次に多い特許は 特許7129142号「キャリア芯材」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6764792 | ケラチン処理調合物及び方法 | 6 回 |
2 | 特許7129142 | キャリア芯材 | 5 回 |
3 | 特許6197202 | 電極材料及び膜 | 5 回 |
4 | 特許6489008 | 感光性着色組成物、着色スペーサー及び画像表示装置 | 5 回 |
5 | 特許7131907 | 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置 | 4 回 |
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 236件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2022-084400号「導電性ペースト及び積層セラミックコンデンサ」(閲覧請求日 2024-03-22)、次は 特表2021-533206号「フッ素化胆汁酸誘導体」(閲覧請求日 2024-03-01)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-084400 | 導電性ペースト及び積層セラミックコンデンサ | 2024-03-22 |
2 | 特表2021-533206 | フッ素化胆汁酸誘導体 | 2024-03-01 |
3 | 特開2021-178769 | 薄板モールドプレス成形用フツリン酸光学ガラス、マルチプレス用フツリン酸光学ガラス、光学素子、プリフォーム及びレンズ | 2024-02-28 |
4 | 特許6841385 | 金属複合酸化物およびその製造方法、ならびに固体酸化物形燃料電池用電極 | 2024-02-22 |
5 | 特表2023-527035 | 高安全性及び高容量を兼ね備えたリチウム電池用正極板、その製造方法及び使用 | 2024-02-20 |
6 | 特開2023-097144 | ガラス粉末複合体、及びガラス粉末複合体の製造方法 | 2024-02-06 |
7 | 特開2022-155210 | イオン徐放性複合粒子、及びイオン徐放性複合粒子の製造方法 | 2024-02-06 |
8 | 特許7440572 | デュアルMAGL及びFAAHインヒビター | 2024-02-06 |
9 | 特表2021-519837 | オレフィン重合活性化剤 | 2024-01-30 |
10 | 特表2021-519362 | オレフィン重合活性化剤 | 2024-01-25 |
11 | 特開2022-078567 | 表面処理金属板 | 2024-01-23 |
12 | 特許7444323 | 純銅材、絶縁基板、電子デバイス | 2024-01-23 |
13 | 特許7444324 | 純銅材、絶縁基板、電子デバイス | 2024-01-23 |
14 | 特許6851712 | 置換されたオレフィンの製造方法 | 2024-01-19 |
15 | 特許4729766 | 超電導酸化物材料の製造方法 | 2024-01-17 |
16 | 特表2020-532538 | 治療用金属錯体およびリガンドならびにその作成および使用の方法 | 2024-01-09 |
17 | 特表2023-511082 | 4’-O-メチレンホスホネート核酸及びその類似体 | 2023-12-19 |
18 | 特開2022-106928 | 可逆的に修飾されたオリゴヌクレオチドを含む組成物及びその使用 | 2023-12-01 |
19 | 特表2022-553291 | 水性プライマー組成物及びその方法 | 2023-11-30 |
20 | 特表2021-527125 | SARM1阻害剤 | 2023-11-29 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 465件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許7343391号「成膜装置及び成膜方法」(17回)、次に多い特許は 特許6764792号「ケラチン処理調合物及び方法」(13回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7343391 | 成膜装置及び成膜方法 | 17 回 |
2 | 特許6764792 | ケラチン処理調合物及び方法 | 13 回 |
3 | 特許6781864 | ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 | 6 回 |
4 | 特許6197202 | 電極材料及び膜 | 6 回 |
5 | 特許6489008 | 感光性着色組成物、着色スペーサー及び画像表示装置 | 6 回 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,959件 ありました。平均被引用数は 2.7回 です。 被引用数が多い特許は 特許6984993号「自発光感光性樹脂組成物、これから製造されたカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを含む画像表示装置」(53回)、次に多い特許は 特許6427340号「光学異方性層とその製造方法、積層体とその製造方法、偏光板、液晶表示装置及び有機EL表示装置」(43回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6984993 | 自発光感光性樹脂組成物、これから製造されたカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを含む画像表示装置 | 53 回 |
2 | 特許6427340 | 光学異方性層とその製造方法、積層体とその製造方法、偏光板、液晶表示装置及び有機EL表示装置 | 43 回 |
3 | 特許6577427 | トナー用チタン酸ストロンチウム系微細粒子およびその製造方法 | 38 回 |
4 | 特許6508806 | 正極活物質、その製造方法、それを採用した正極及びリチウム二次電池 | 35 回 |
5 | 特開2016-033902 | 正極活物質、正極および電池 | 34 回 |
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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