本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「電子線」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「電子線」の直近(2023-01-01〜2023-01-31)の特許出願件数は 14件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-01-31)の特許出願件数 22件 に比べて -8件(-36.4%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 電子線 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の495件、最も少ない年は 2021年 の295件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計1,854件)の平均値は309件、中央値は320件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.29であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 309 件 |
標準偏差 | 89.1 |
変動係数 | 0.29 |
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 305 件 | +3.39 % |
2021 年 | 295 件 | -11.68 % |
2020 年 | 334 件 | -15.23 % |
電子線の過去10年間(2014-01-01〜2024-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、電子線の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、電子線の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった電子線の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。
特許文書の読解にストレスを感じている皆様へ。 弁理士が開発した「サマリア」は、特許文書読解の時間短縮と理解の深化を実現するAIアシスタントサービスです。 「サマリア」は用語解説、サマリ作成、独自分類付与、スクリーニング、発明評価など知財担当者に寄り添う様々な機能を提供します。 また、英語・中国語にも対応しています。
特許読解アシスタント「サマリア」の詳細は、以下をご覧ください。
自社の煩雑な商標管理に課題意識がありませんか? 商標管理は、ビジネスの成功にとって不可欠ですが、Excelなどの従来の方法では、商標管理に時間と労力を消費するとともに、間違いなども起きやすく成長するビジネスの大きな課題です。
近年、クラウド型の知財管理サービスが注目を浴びています。 外国商標、国際商標などのほか、特許、意匠も一元管理することができます。 データ集約や分析機能も備えており、効果的な商標戦略の策定を可能にします。
革新的なクラウド型知財管理サービス「rootip」の詳細は、以下をご覧ください。
電子線 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「3,702件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
電子線と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の118件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の17件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
信越化学工業株式会社 | 118 件 |
大日本印刷株式会社 | 17 件 |
日本電子株式会社 | 10 件 |
TOPPANホールディングス株式会社 | 6 件 |
株式会社日立ハイテク | 5 件 |
富士フイルム株式会社 | 5 件 |
株式会社日立製作所 | 1 件 |
キヤノン株式会社 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の422件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の206件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
信越化学工業株式会社 | 422 件 |
大日本印刷株式会社 | 206 件 |
株式会社日立ハイテク | 132 件 |
日本電子株式会社 | 118 件 |
TOPPANホールディングス株式会社 | 88 件 |
富士フイルム株式会社 | 79 件 |
キヤノン株式会社 | 67 件 |
株式会社日立製作所 | 39 件 |
株式会社東芝 | 20 件 |
日本電気株式会社 | 4 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 1 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
電子線と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の118件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の17件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
信越化学工業株式会社 | 118 件 |
大日本印刷株式会社 | 17 件 |
日本電子株式会社 | 10 件 |
TOPPANホールディングス株式会社 | 6 件 |
株式会社日立ハイテク | 5 件 |
株式会社日立製作所 | 1 件 |
キヤノン株式会社 | 1 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の422件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の206件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
信越化学工業株式会社 | 422 件 |
大日本印刷株式会社 | 206 件 |
株式会社日立ハイテク | 132 件 |
日本電子株式会社 | 118 件 |
TOPPANホールディングス株式会社 | 88 件 |
キヤノン株式会社 | 67 件 |
株式会社日立製作所 | 39 件 |
電子線 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
電子線 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 39件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計16件)の平均値は2.7件、中央値は2.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の8件、最も少ない年は 2022年 の1件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 2.7 件 |
標準偏差 | 1.9 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1 件 | -66.7 % |
2021 年 | 3 件 | +50.0 % |
2020 年 | 2 件 | -60.0 % |
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 67件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計9件)の平均値は1.5件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の24件、最も少ない年は 2021年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1.5 件 |
標準偏差 | 1.9 |
変動係数 | 1.3 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1 件 | - |
2021 年 | 0 件 | - |
2020 年 | 0 件 | -100 % |
大日本印刷株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 206件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計83件)の平均値は13.8件、中央値は8.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は増加傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の42件、最も少ない年は 2020年 の3件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 13.8 件 |
標準偏差 | 11.2 |
変動係数 | 0.8 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 7 件 | 0 |
2021 年 | 7 件 | +133 % |
2020 年 | 3 件 | -91.7 % |
日本電子株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 118件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計72件)の平均値は12.0件、中央値は12.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2021年 の23件、最も少ない年は 2015年 の7件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 12.0 件 |
標準偏差 | 6.4 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 8 件 | -65.2 % |
2021 年 | 23 件 | +76.9 % |
2020 年 | 13 件 | +18.18 % |
信越化学工業株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 422件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計289件)の平均値は48.2件、中央値は46.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.26であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2022年 の68件、最も少ない年は 2014年 の23件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 48.2 件 |
標準偏差 | 12.3 |
変動係数 | 0.26 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 68 件 | +41.7 % |
2021 年 | 48 件 | -15.79 % |
2020 年 | 57 件 | +32.6 % |
電子線 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、電子線が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-10-01〜2024-09-30)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許4566286号「三次元造形製品の製造装置」(無効審判請求日 2023-06-22)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許4566286 | 三次元造形製品の製造装置 | 2023-06-22 |
直近3年間(2021-10-01〜2024-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 15件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7349954号「保護素子」(異議申立日 2024-03-25)、次は 特許7332982号「炭素原子間の不飽和結合によるプラズマ硬化性化合物を含む段差基板被覆膜形成組成物」(異議申立日 2024-02-22)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7349954 | 保護素子 | 2024-03-25 |
2 | 特許7332982 | 炭素原子間の不飽和結合によるプラズマ硬化性化合物を含む段差基板被覆膜形成組成物 | 2024-02-22 |
3 | 特許7337312 | X線発生装置、X線撮像装置、および、X線発生装置の調整方法 | 2024-02-09 |
4 | 特許7310342 | フィルム、該フィルムから構成される包装袋、該フィルムを備える積層体及び該積層体から構成される包装袋 | 2024-01-09 |
5 | 特許7108565 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 | 2023-01-27 |
6 | 特許7099488 | X線発生装置、X線装置、構造物の製造方法、及び構造物製造システム | 2023-01-05 |
7 | 特許7066236 | コンクリートの防食方法 | 2022-11-14 |
8 | 特許7039874 | 化粧シート | 2022-09-26 |
9 | 特許7074517 | ガンマ線または電子線照射用の環状オレフィン系樹脂組成物、成形体および当該成形体のガンマ線または電子線照射物 | 2022-08-25 |
10 | 特許6981563 | 化粧シート及び化粧材 | 2022-06-13 |
直近3年間(2021-10-01〜2024-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 40件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-169336号「試料の製造方法、及び試料の観察方法」(情報提供日 2024-07-22)、次は 特開2023-139165号「有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法」(情報提供日 2024-07-12)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-169336 | 試料の製造方法、及び試料の観察方法 | 2024-07-22 |
2 | 特開2023-139165 | 有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法 | 2024-07-12 |
3 | 特開2020-203408 | フィルム、該フィルムから構成される包装袋、該フィルムを備える積層体および該積層体から構成される包装袋 | 2024-06-12 |
4 | 特開2022-086816 | 活性エネルギー線硬化性組成物 | 2024-05-28 |
5 | 特開2022-086409 | 活性エネルギー線硬化性組成物 | 2024-05-28 |
6 | 特開2022-058178 | 試料の製造方法、及び試料の観察方法 | 2024-05-15 |
7 | 特開2020-157517 | スパウト付き包装袋用積層体および包装袋 | 2024-02-29 |
8 | 特開2021-017051 | 印刷物の製造方法及び印刷物の製造装置、並びに印刷物 | 2024-02-27 |
9 | 特開2020-157514 | 積層体および包装袋 | 2024-02-21 |
10 | 特開2020-158722 | 基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2024-01-31 |
11 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023-12-28 |
12 | 特開2020-158191 | 基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2023-12-21 |
13 | 特許7576232 | 積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2023-12-20 |
14 | 特許7529973 | ロータ用無方向性電磁鋼板およびその製造方法 | 2023-10-31 |
15 | 特開2020-158192 | 包装材料 | 2023-10-04 |
16 | 特開2020-157723 | 積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2023-10-02 |
17 | 特開2020-203405 | 積層体および包装袋 | 2023-10-02 |
18 | 特開2020-203406 | 積層体および包装材料 | 2023-09-19 |
19 | 特開2021-017033 | 印刷物の製造方法及び印刷物の製造装置、並びに印刷物 | 2023-08-01 |
20 | 特許7492114 | 無方向性電磁鋼板 | 2023-07-13 |
直近10年間(2014-10-01〜2024-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 66件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特開2020-158191号「基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ」(3回)、次に多い特許は 特許7052190号「発泡壁紙用原反及び発泡壁紙の製造方法」(3回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特開2020-158191 | 基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 3 回 |
2 | 特許7052190 | 発泡壁紙用原反及び発泡壁紙の製造方法 | 3 回 |
3 | 特許7576232 | 積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 3 回 |
4 | 特開2021-017033 | 印刷物の製造方法及び印刷物の製造装置、並びに印刷物 | 3 回 |
5 | 特開2020-157517 | スパウト付き包装袋用積層体および包装袋 | 3 回 |
直近3年間(2021-10-01〜2024-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 50件 ありました。平均閲覧請求数は 2.3回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2022-169336号「試料の製造方法、及び試料の観察方法」(閲覧請求日 2024-08-21)、次は 特開2023-139165号「有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法」(閲覧請求日 2024-08-08)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-169336 | 試料の製造方法、及び試料の観察方法 | 2024-08-21 |
2 | 特開2023-139165 | 有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法 | 2024-08-08 |
3 | 特開2020-203408 | フィルム、該フィルムから構成される包装袋、該フィルムを備える積層体および該積層体から構成される包装袋 | 2024-07-05 |
4 | 特開2024-032869 | 硬化膜の製造方法、およびその使用 | 2024-07-04 |
5 | 特開2022-086816 | 活性エネルギー線硬化性組成物 | 2024-06-04 |
6 | 特開2022-086409 | 活性エネルギー線硬化性組成物 | 2024-06-04 |
7 | 特開2022-058178 | 試料の製造方法、及び試料の観察方法 | 2024-06-04 |
8 | 特許7433394 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2024-04-24 |
9 | 特開2020-157514 | 積層体および包装袋 | 2024-03-27 |
10 | 特開2023-011409 | 解析方法 | 2024-03-18 |
11 | 特開2020-157517 | スパウト付き包装袋用積層体および包装袋 | 2024-03-11 |
12 | 特開2021-017051 | 印刷物の製造方法及び印刷物の製造装置、並びに印刷物 | 2024-03-06 |
13 | 特開2020-158722 | 基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2024-02-09 |
14 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024-02-05 |
15 | 特開2020-158191 | 基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2023-12-25 |
16 | 特許7576232 | 積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2023-12-25 |
17 | 特許7529973 | ロータ用無方向性電磁鋼板およびその製造方法 | 2023-11-07 |
18 | 特開2020-203405 | 積層体および包装袋 | 2023-10-13 |
19 | 特開2020-158192 | 包装材料 | 2023-10-13 |
20 | 特開2020-157723 | 積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 2023-10-10 |
直近10年間(2014-10-01〜2024-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 88件 ありました。平均閲覧請求数は 1.8回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特開2020-157517号「スパウト付き包装袋用積層体および包装袋」(8回)、次に多い特許は 特開2020-158191号「基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特開2020-157517 | スパウト付き包装袋用積層体および包装袋 | 8 回 |
2 | 特開2020-158191 | 基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 6 回 |
3 | 特許7576232 | 積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 6 回 |
4 | 特開2020-203406 | 積層体および包装材料 | 5 回 |
5 | 特開2020-158722 | 基材、積層体、包装材料、包装袋およびスタンドパウチ | 5 回 |
直近10年間(2014-10-01〜2024-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 952件 ありました。平均被引用数は 3.2回 です。 被引用数が多い特許は 特許6702264号「レジスト材料及びパターン形成方法」(37回)、次に多い特許は 特許6486712号「酸化物半導体膜」(30回)です。
『パテント・インテグレーション レポート』は、知的財産権の専門家である弁理士が運営する「パテント・インテグレーション株式会社」が提供するウェブサービスです。 最新の特許データに基づき、様々な企業、技術分野の技術動向情報を提供する国内最大規模の特許レポートサービスです。
本ウェブサービスは、知的財産権への関心有無に関わらず、多くの方々に知財情報を身近に感じて頂き、活用いただくことを目的としています。
弊社では、新聞、雑誌、ウェブメディア等の様々なメディアの各種記事において活用できる各種特許情報の提供を積極的に行っております。 提供可能な特許情報の内容についてはお気軽に『お問い合わせフォーム』からお問い合わせください。
データ、文書、図表類に関する権利は全て「統合特許検索・分析サービス パテント・インテグレーション」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「パテント・インテグレーション レポート, URL: https://patent-i.com/」を明記の上、ご利用ください。
特許データは最新の特許庁発行の特許データに基づき集計・解析・分析を行っています。 掲載・分析結果については十分気をつけておりますが、データの正否については保証していません。 ご理解の上、ご利用をお願いいたします。
特許データは全て特許庁発行の公開データに基づいており、掲載内容は特許庁サイトで公開されている公開公報等と同等の内容です。 公報情報は、特許庁「公報に関して」に記載されている通り、権利者が独占排他的な権利を求める手続きを行うかわりに広く公示されるべきものです。 パテント・インテグレーション レポートにおける掲載基準は、特許庁サイト(JPlatPat)での閲覧可否に応じて判断しております。 特許庁サイトにて非公開とされている情報は、弊社も非公開とする場合がございます。 一方、特許庁サイトにて閲覧可能な情報は通常、掲載にあたり法的な問題(名誉毀損等)がなく表現の自由の範囲内と考えられることから削除依頼等には応じておりません。 記事を削除してしまうと、閲覧を希望されるユーザにとって不利益が生じてしまうためです。
データ、文書、図表類に関する権利は全て「株式会社イーパテント」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「株式会社イーパテント, URL: https://e-patent.co.jp/」を明記の上、ご利用ください。
「特許から見たSDGsグローバル企業ランキング」に掲載されているグローバル特許出願状況やランキング情報、母集団検索式を利用された上で生じるいかなる損害・損失についても当社・株式会社イーパテントでは対応いたしかねます。「関連する特許レポートはありません」となっているターゲットは現時点で未対応(特許情報分析からのアプローチでは難しいと判断)です。
特許出願状況やランキング情報を引用いただく点は問題ありませんが、その際は引用元として「出所:株式会社イーパテント」を明記いただくようにお願いいたします。
各種グラフはイメージデータとなっておりますが、テキストデータでの提供はいたしかねますので、ご了承ください。
なお、個人の氏名等の個人情報等の削除をご希望の場合は「削除申請フォーム」より必要事項を記載し、送信してください。 その他、本サービスについてお気づきの点がございましたら、「お問い合わせ」よりお気軽にお知らせください。
クレジット表記
・科学技術用語形態素解析辞書 © バイオサイエンスデータベースセンター licensed under CC表示-継承4.0 国際
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント