本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「窒化」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「窒化」の直近(2022-01-01〜2022-08-31)の特許出願件数は 788件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-08-31)の特許出願件数 1,123件 に比べて -335件(-29.8%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 窒化処理 」、「 窒化法 」、「 窒化硬化法 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の2,486件、最も少ない年は 2022年 の990件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計8,744件)の平均値は1,457件、中央値は1,700件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,457 件 |
標準偏差 | 693 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 990 件 | -41.2 % |
2021 年 | 1,685 件 | -1.81 % |
2020 年 | 1,716 件 | -12.09 % |
窒化の過去10年間(2014-01-01〜2024-04-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、窒化の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、窒化の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった窒化の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
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窒化 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「17,938件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
窒化と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 三菱電機株式会社 の16件、次に多いのは 株式会社東芝 の13件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
三菱電機株式会社 | 16 件 |
株式会社東芝 | 13 件 |
住友電気工業株式会社 | 12 件 |
株式会社半導体エネルギー研究所 | 5 件 |
三菱マテリアル株式会社 | 4 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 4 件 |
京セラ株式会社 | 4 件 |
日本電気株式会社 | 2 件 |
株式会社日立製作所 | 2 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 三菱電機株式会社 の568件、次に多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の568件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
三菱電機株式会社 | 568 件 |
株式会社半導体エネルギー研究所 | 568 件 |
株式会社東芝 | 329 件 |
三菱マテリアル株式会社 | 257 件 |
住友電気工業株式会社 | 254 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 186 件 |
京セラ株式会社 | 162 件 |
ソニーグループ株式会社 | 58 件 |
株式会社日立製作所 | 38 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 20 件 |
日本電気株式会社 | 14 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
窒化と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 三菱電機株式会社 の16件、次に多いのは 株式会社東芝 の13件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
三菱電機株式会社 | 16 件 |
株式会社東芝 | 13 件 |
住友電気工業株式会社 | 12 件 |
株式会社半導体エネルギー研究所 | 5 件 |
三菱マテリアル株式会社 | 4 件 |
日本電気株式会社 | 2 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 1 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 三菱電機株式会社 の568件、次に多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の568件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
三菱電機株式会社 | 568 件 |
株式会社半導体エネルギー研究所 | 568 件 |
株式会社東芝 | 329 件 |
三菱マテリアル株式会社 | 257 件 |
住友電気工業株式会社 | 254 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 20 件 |
日本電気株式会社 | 14 件 |
窒化 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
窒化 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 329件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計116件)の平均値は19.3件、中央値は18.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の63件、最も少ない年は 2022年 の12件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 19.3 件 |
標準偏差 | 11.5 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 12 件 | -33.3 % |
2021 年 | 18 件 | 0 |
2020 年 | 18 件 | -47.1 % |
日本電気株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 14件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計5件)の平均値は0.8件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の3件、最も少ない年は 2020年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.8 件 |
標準偏差 | 0.9 |
変動係数 | 1.1 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 2 件 | +100 % |
2021 年 | 1 件 | - |
2020 年 | 0 件 | - |
パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 20件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計10件)の平均値は1.7件、中央値は1.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の4件、最も少ない年は 2022年 の1件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1.7 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1 件 | -50.0 % |
2021 年 | 2 件 | +100 % |
2020 年 | 1 件 | -50.0 % |
三菱電機株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 568件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計230件)の平均値は38.3件、中央値は39.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の110件、最も少ない年は 2022年 の15件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 38.3 件 |
標準偏差 | 25.0 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 15 件 | -55.9 % |
2021 年 | 34 件 | -22.73 % |
2020 年 | 44 件 | -33.3 % |
住友電気工業株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 254件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計114件)の平均値は19.0件、中央値は21.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の42件、最も少ない年は 2022年 の12件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 19.0 件 |
標準偏差 | 10.8 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 12 件 | -29.41 % |
2021 年 | 17 件 | -34.6 % |
2020 年 | 26 件 | -3.70 % |
窒化 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、窒化が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近10年間(2014-05-01〜2024-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6320582号「半導体発光素子」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6320582 | 半導体発光素子 | 1 回 |
直近3年間(2021-05-01〜2024-04-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 93件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7342917号「接着性樹脂シート、プリント配線板および、電子機器。」(異議申立日 2024-02-19)、次は 特許7329917号「基板固定装置」(異議申立日 2024-02-19)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7342917 | 接着性樹脂シート、プリント配線板および、電子機器。 | 2024-02-19 |
2 | 特許7329917 | 基板固定装置 | 2024-02-19 |
3 | 特許7313105 | 構造体及び接合体 | 2024-01-22 |
4 | 特許7332588 | セラミックス銅回路基板およびその製造方法 | 2024-01-22 |
5 | 特許7315857 | 方向性電磁鋼板の製造方法 | 2024-01-22 |
6 | 特許7307255 | 窒化ケイ素焼結体の製造方法 | 2024-01-09 |
7 | 特許7304167 | 絶縁シートの製造方法、金属ベース回路基板の製造方法、及び絶縁シート | 2024-01-05 |
8 | 特許7303207 | 金属基材上の硬質材料の層 | 2023-12-21 |
9 | 特許7287900 | 熱伝導及び電気絶縁のための装置 | 2023-12-05 |
10 | 特許7278325 | 窒化ケイ素焼結体 | 2023-11-13 |
直近3年間(2021-05-01〜2024-04-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 94件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特表2023-550866号「分配粘度が低く、分配後の鉛直流が少なく、硬化後の熱インピーダンスが低い熱界面材料」(情報提供日 2024-03-07)、次は 特開2022-144506号「固形粉末化粧料」(情報提供日 2024-03-04)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特表2023-550866 | 分配粘度が低く、分配後の鉛直流が少なく、硬化後の熱インピーダンスが低い熱界面材料 | 2024-03-07 |
2 | 特開2022-144506 | 固形粉末化粧料 | 2024-03-04 |
3 | 特開2023-062399 | 熱伝導性シリコーン組成物 | 2024-02-29 |
4 | 特許7464494 | 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス | 2024-02-07 |
5 | 特許7464493 | 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス | 2024-02-07 |
6 | 特開2021-053748 | 研磨パッド及び研磨加工物の製造方法 | 2024-02-02 |
7 | 特表2023-508199 | ウェハクランプの硬いバールの製造および改修 | 2024-01-31 |
8 | 特開2023-182033 | 保持装置 | 2024-01-30 |
9 | 特表2023-545035 | ポストCMP洗浄組成物 | 2024-01-11 |
10 | 特開2023-174170 | 光電変換素子 | 2024-01-05 |
11 | 特開2022-111068 | 光電変換素子 | 2024-01-05 |
12 | 特表2023-512306 | トライボロジーシステム | 2023-12-18 |
13 | 特許7470032 | グリーンシートおよびその製造方法 | 2023-12-12 |
14 | 特許7471206 | 鋼材の表面処理方法 | 2023-12-07 |
15 | 特開2020-084185 | 高熱伝導性樹脂組成物の製造方法 | 2023-11-29 |
16 | 特表2023-532872 | 結合研磨物品及びそれを作製する方法 | 2023-11-20 |
17 | 特開2022-047977 | 紫外線硬化性樹脂組成物、光学部品、光学部品の製造方法、発光装置、及び発光装置の製造方法 | 2023-10-30 |
18 | 特開2020-170841 | エッチング残渣の除去のためのクリーニング組成物 | 2023-10-20 |
19 | 特開2023-104887 | 金属ベース回路基板、及び金属ベース回路基板の製造方法 | 2023-10-19 |
20 | 特許7467980 | 窒化ホウ素凝集粉末、放熱シート及び半導体デバイスの製造方法 | 2023-09-29 |
直近10年間(2014-05-01〜2024-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 243件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7394178号「保持装置」(6回)、次に多い特許は 特許7181898号「窒化アルミニウム焼結体およびこれを含む半導体製造装置用部材」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7394178 | 保持装置 | 6 回 |
2 | 特許7181898 | 窒化アルミニウム焼結体およびこれを含む半導体製造装置用部材 | 5 回 |
3 | 特許7036398 | 液体中の含硫黄化合物の除去方法 | 5 回 |
4 | 特許7060528 | 被覆切削工具 | 4 回 |
5 | 特開2016-088911 | 高い被覆特性を有する組成物 | 4 回 |
直近3年間(2021-05-01〜2024-04-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 152件 ありました。平均閲覧請求数は 1.7回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-025002号「ミスカット基板を用いた高パワーの窒化ガリウムエレクトロニクス」(閲覧請求日 2024-03-25)、次は 特開2023-062399号「熱伝導性シリコーン組成物」(閲覧請求日 2024-03-13)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-025002 | ミスカット基板を用いた高パワーの窒化ガリウムエレクトロニクス | 2024-03-25 |
2 | 特開2023-062399 | 熱伝導性シリコーン組成物 | 2024-03-13 |
3 | 特開2021-053748 | 研磨パッド及び研磨加工物の製造方法 | 2024-02-15 |
4 | 特表2023-545035 | ポストCMP洗浄組成物 | 2024-02-13 |
5 | 特開2023-182033 | 保持装置 | 2024-02-07 |
6 | 特許6690671 | 電気光学装置および電子機器 | 2024-02-06 |
7 | 特許6885440 | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 | 2024-02-06 |
8 | 特許6702394 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電気光学装置製造用部材 | 2024-02-06 |
9 | 特許5524194 | トレンチ処理およびポリシリコンドーピング領域を持つ裏面コンタクト型太陽電池用の構造 | 2024-01-30 |
10 | 特許6148319 | ポリシリコンドープ領域を有するバックコンタクト型太陽電池のトレンチプロセス及び構造 | 2024-01-30 |
11 | 特開2023-174170 | 光電変換素子 | 2024-01-30 |
12 | 特許5860101 | ポリシリコンドープ領域を有するバックコンタクト型太陽電池のトレンチプロセス及び構造 | 2024-01-30 |
13 | 特開2021-185235 | 耐化学薬品性であるポリオキシメチレンポリマー組成物 | 2024-01-30 |
14 | 特開2022-111068 | 光電変換素子 | 2024-01-30 |
15 | 特許7342917 | 接着性樹脂シート、プリント配線板および、電子機器。 | 2024-01-11 |
16 | 特開2022-190359 | ブラックマトリクス基板、及びブラックマトリクス基板を備えた表示装置 | 2023-12-29 |
17 | 特許7470032 | グリーンシートおよびその製造方法 | 2023-12-14 |
18 | 特表2023-532872 | 結合研磨物品及びそれを作製する方法 | 2023-12-08 |
19 | 特開2022-047977 | 紫外線硬化性樹脂組成物、光学部品、光学部品の製造方法、発光装置、及び発光装置の製造方法 | 2023-11-24 |
20 | 特許6979034 | 六方晶窒化ホウ素粉末及びその製造方法 | 2023-11-16 |
直近10年間(2014-05-01〜2024-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 400件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許7181898号「窒化アルミニウム焼結体およびこれを含む半導体製造装置用部材」(8回)、次に多い特許は 特許6909448号「静電チャック」(8回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7181898 | 窒化アルミニウム焼結体およびこれを含む半導体製造装置用部材 | 8 回 |
2 | 特許6909448 | 静電チャック | 8 回 |
3 | 特許6909447 | 静電チャック | 8 回 |
4 | 特許6536622 | βサイアロン蛍光体の製造方法 | 5 回 |
5 | 特許6678999 | 六方晶窒化ホウ素粉末、その製造方法、樹脂組成物及び樹脂シート | 5 回 |
直近10年間(2014-05-01〜2024-04-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 4,389件 ありました。平均被引用数は 3.0回 です。 被引用数が多い特許は 特開2017-220011号「積層膜、表示装置及び入力装置」(163回)、次に多い特許は 特許6320282号「エッチング方法」(110回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特開2017-220011 | 積層膜、表示装置及び入力装置 | 163 回 |
2 | 特許6320282 | エッチング方法 | 110 回 |
3 | 特許6478596 | 表示装置の作製方法 | 43 回 |
4 | 特許6483508 | 六方晶窒化ホウ素粉末及びその製造方法 | 36 回 |
5 | 特許5910763 | 弾性波装置 | 32 回 |
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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