株式会社半導体エネルギー研究所の過去10年間(2011-01-01〜2020-12-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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保有特許の全体像は、特許 テキストマイニング技術を用いて作成された「パテント・ランドスケープ」により俯瞰することができます。
「株式会社半導体エネルギー研究所」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を簡単に確認することができます。
国名 | 出願人・権利者名 |
---|---|
日本 | 株式会社半導体エネルギー研究所 |
米国 | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO LTD |
欧州 | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO LTD |
PCT | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO LTD |
出願人・権利者「株式会社半導体エネルギー研究所」の直近(2019-01-01〜2019-06-30)の特許出願件数は 300件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-06-30)の特許出願件数 520件 に比べて -220件(-42.3%) と大幅に減少しています。
出願件数が最も多い年は 2016年 の1,561件、最も少ない年は 2019年 の755件です。
過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計6,306件)の平均値は1,261件、中央値は1,429件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.26であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,261 件 |
標準偏差 | 324 |
変動係数 | 0.26 |
直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2019 年 | 755 件 | -25.10 % |
2018 年 | 1,008 件 | -29.46 % |
2017 年 | 1,429 件 | -8.46 % |
株式会社半導体エネルギー研究所 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)は以下の通りです。
株式会社半導体エネルギー研究所 が保有する過去 10年間、{{ld.d.dlcnt|number}}件の{{ld.d.db_name|country_map}}特許の全体像をパテント・ランドスケープ機能により俯瞰できます。 ヒートマップはキーワードに関連するそれぞれの特許出願状況(注力領域)を表現しており、赤い領域ほど多くの特許出願がなされていることを意味します。 出願年でフィルタすることにより、過去の出願傾向(注力してきた技術領域)の変遷を確認することができます。
株式会社半導体エネルギー研究所 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」は以下の通りです。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「11,415件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップなどの特許情報は、特許調査業務など自由にご利用いただけます。
株式会社半導体エネルギー研究所と同業種の他の企業(競合他社)の特許情報は以下の通りです。業界内の各企業の特許件数推移は以下の通りです。競合他社と特許件数を比較することで、株式会社半導体エネルギー研究所の過去および現在の業界内における研究開発状況や、業界内における位置付けを確認することができます。
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の766件、次に多いのは 株式会社豊田中央研究所 の327件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社半導体エネルギー研究所 | 766 件 |
株式会社豊田中央研究所 | 327 件 |
住友電気工業株式会社 | 221 件 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 220 件 |
株式会社オートネットワーク技術研究所 | 220 件 |
住友電装株式会社 | 220 件 |
株式会社デンソー | 196 件 |
株式会社SOKEN | 183 件 |
トヨタ自動車株式会社 | 130 件 |
公益財団法人鉄道総合技術研究所 | 71 件 |
国立研究開発法人理化学研究所 | 48 件 |
一般財団法人電力中央研究所 | 39 件 |
株式会社国際電気通信基礎技術研究所 | 28 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の11,415件、次に多いのは 住友電気工業株式会社 の4,987件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社半導体エネルギー研究所 | 11,415 件 |
住友電気工業株式会社 | 4,987 件 |
株式会社オートネットワーク技術研究所 | 4,947 件 |
住友電装株式会社 | 4,945 件 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 4,834 件 |
株式会社豊田中央研究所 | 4,365 件 |
株式会社SOKEN | 3,342 件 |
株式会社デンソー | 3,021 件 |
トヨタ自動車株式会社 | 2,522 件 |
公益財団法人鉄道総合技術研究所 | 1,460 件 |
国立研究開発法人理化学研究所 | 913 件 |
一般財団法人電力中央研究所 | 717 件 |
株式会社国際電気通信基礎技術研究所 | 443 件 |
同業13社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。
株式会社半導体エネルギー研究所の上位共願人との共有特許の件数推移は以下の通りです。共有特許の件数推移から、株式会社半導体エネルギー研究所の過去および現在の他社連携状況を確認することができます。
上位共願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、共願件数が最も多いのは TDK株式会社 の1件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
TDK株式会社 | 1 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、共願件数が最も多いのは シャープ株式会社 の34件、次に多いのは TDK株式会社 の1件です。
株式会社半導体エネルギー研究所 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。
シャープ株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 34件 です。
過去10年間の共願件数(2010〜2019年、計35件)の平均値は3.5件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.6であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。
共願件数が最も多い年は 2012年 の18件、最も少ない年は 2014年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 3.5 件 |
標準偏差 | 5.6 |
変動係数 | 1.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2017 年 | 1 件 | - |
2016 年 | 0 件 | - |
2015 年 | 0 件 | - |
株式会社半導体エネルギー研究所 の保有日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許は以下の通りです。
直近3年間(2018-01-01〜2020-12-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 4件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6622893号「発光装置」(異議申立日 2020-06-18)、次は 特許6567015号「封止体および発光装置」(異議申立日 2020-02-26)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6622893 | 発光装置 | 2020-06-18 |
2 | 特許6567015 | 封止体および発光装置 | 2020-02-26 |
3 | 特許6423472 | 正極活物質層 | 2019-04-25 |
4 | 特許6312479 | 有機化合物、発光素子、発光装置、電子機器、および照明装置 | 2018-10-15 |
直近3年間(2018-01-01〜2020-12-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 6件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2020-021745号「正極の作製方法」(情報提供日 2020-11-16)、次は 特開2020-064869号「正極活物質層及び蓄電装置」(情報提供日 2020-10-30)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2020-021745 | 正極の作製方法 | 2020-11-16 |
2 | 特開2020-064869 | 正極活物質層及び蓄電装置 | 2020-10-30 |
3 | 特開2020-074288 | 正極活物質層及び蓄電装置 | 2020-10-21 |
4 | 特許6585268 | 発光装置 | 2019-04-01 |
5 | 再公表2017/103732 | 発光素子、発光装置、電子機器、照明装置、照明システムおよび誘導システム | 2019-04-01 |
6 | 特開2016-197765 | 発光素子 | 2018-03-15 |
直近10年間(2011-01-01〜2020-12-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 53件 ありました。平均情報提供数は 2.2回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6284700号「複合酸化物の作製方法」(8回)、次に多い特許は 特許6284699号「複合酸化物の作製方法」(8回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 回数 |
---|---|---|---|
1 | 特許6284700 | 複合酸化物の作製方法 | 8 回 |
2 | 特許6284699 | 複合酸化物の作製方法 | 8 回 |
3 | 特許5851895 | リチウム含有複合酸化物の作製方法 | 4 回 |
4 | 特許6053115 | リチウムイオン電池用正極活物質の作製方法 | 4 回 |
5 | 特許5727880 | 電極用材料および電極用材料の作製方法 | 4 回 |
直近3年間(2018-01-01〜2020-12-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 65件 ありました。平均閲覧請求数は 1.2回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2020-064869号「正極活物質層及び蓄電装置」(閲覧請求日 2020-12-15)、次は 特開2020-021745号「正極の作製方法」(閲覧請求日 2020-12-08)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2020-064869 | 正極活物質層及び蓄電装置 | 2020-12-15 |
2 | 特開2020-021745 | 正極の作製方法 | 2020-12-08 |
3 | 特開2020-074288 | 正極活物質層及び蓄電装置 | 2020-11-17 |
4 | 特許6568156 | 発光素子、発光装置、照明装置および電子機器 | 2020-10-27 |
5 | 特許6043457 | 半導体装置 | 2020-10-27 |
6 | 特許6561164 | アクティブマトリクス型発光装置 | 2020-10-27 |
7 | 特許5986257 | 半導体装置、表示装置、表示モジュール及び電子機器 | 2020-10-27 |
8 | 特許6675817 | 電子機器、及びリチウムイオン二次電池 | 2020-10-23 |
9 | 特許5210473 | 表示装置 | 2020-09-10 |
10 | 特許6259936 | 表示装置 | 2020-07-28 |
11 | 特許5420705 | 発光素子、発光装置、照明装置及び電子機器 | 2020-07-28 |
12 | 特開2019-204960 | 半導体装置 | 2020-06-17 |
13 | 特許5965974 | 液晶表示装置 | 2019-08-05 |
14 | 特許6181240 | 半導体装置 | 2019-08-05 |
15 | 特許6585268 | 発光装置 | 2019-04-09 |
16 | 再公表2017/103732 | 発光素子、発光装置、電子機器、照明装置、照明システムおよび誘導システム | 2019-04-09 |
17 | 特許6364112 | 電子機器 | 2019-03-20 |
18 | 特開2017-204652 | 発光素子、発光装置、照明装置および電子機器 | 2019-03-20 |
19 | 特許6357130 | 発光装置の作製方法 | 2019-03-20 |
20 | 特許6181815 | 発光素子、発光装置、照明装置及び電子機器 | 2019-03-20 |
直近10年間(2011-01-01〜2020-12-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 130件 ありました。平均閲覧請求数は 1.8回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6284699号「複合酸化物の作製方法」(12回)、次に多い特許は 特許6284700号「複合酸化物の作製方法」(10回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 回数 |
---|---|---|---|
1 | 特許6284699 | 複合酸化物の作製方法 | 12 回 |
2 | 特許6284700 | 複合酸化物の作製方法 | 10 回 |
3 | 特許6053115 | リチウムイオン電池用正極活物質の作製方法 | 6 回 |
4 | 特許5851895 | リチウム含有複合酸化物の作製方法 | 4 回 |
5 | 特許6568156 | 発光素子、発光装置、照明装置および電子機器 | 3 回 |
直近10年間(2011-01-01〜2020-12-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 2,537件 ありました。平均被引用数は 2.8回 です。 被引用数が多い特許は 特開2012-134475号「酸化物半導体膜および半導体装置」(71回)、次に多い特許は 特許5631756号「信号処理回路」(36回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 回数 |
---|---|---|---|
1 | 特開2012-134475 | 酸化物半導体膜および半導体装置 | 71 回 |
2 | 特許5631756 | 信号処理回路 | 36 回 |
3 | 特許6113970 | 半導体装置 | 33 回 |
4 | 特許5825741 | 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置 | 29 回 |
5 | 特許5450498 | 半導体装置 | 27 回 |
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