最終更新日:2021/03/01

国立研究開発法人産業技術総合研究所 (特許分析レポート・日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所の過去10年間(2011-01-01〜2021-02-28)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・分析サービスを提供する「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくことを目的として無料で提供するレポートサービスです。 特許検索・分析サービス「パテント・インテグレーション」が保有する日米欧・国際公開からなる最新の特許データに基づく特許分析レポートを提供しています。

国立研究開発法人産業技術総合研究所の特許出願件数推移および、同業・競合企業との特許出願件数比較、国立研究開発法人産業技術総合研究所の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった国立研究開発法人産業技術総合研究所の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を提供しています。 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから簡単に企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。 是非、「パテント・インテグレーション」を御活用いただき、ワンランク上の知財活動を実現してください。

外国特許分析レポート

「国立研究開発法人産業技術総合研究所」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を簡単に確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

国立研究開発法人産業技術総合研究所の特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「国立研究開発法人産業技術総合研究所」の直近(2019-01-01〜2019-08-31)の特許出願件数は 261件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-08-31)の特許出願件数 351件 に比べて -90件(-25.6%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2012年 の687件、最も少ない年は 2019年 の275件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計2,372件)の平均値は474件、中央値は500件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.22であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 474
標準偏差 106
変動係数 0.22

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 275 -44.8 %
2018 年 498 -15.74 %
2017 年 591 +16.34 %

国立研究開発法人産業技術総合研究所 日本特許件数 推移

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり簡単に調査を行うことができます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、国立研究開発法人産業技術総合研究所においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解することができます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認することができます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握することができます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認することができます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごと出願人ごとのポジションを簡単に確認することができます。 IPランドスケープの各社の知財戦略の仮説検討に最適です。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

特徴語 (重要度)

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「4,923件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
国立研究開発法人産業技術総合研究所
特許分析期間
2011-01-01〜2021-02-28
対象件数
4,923

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所と同業種の他の企業(競合他社)の特許情報は以下の通りです。業界内の各企業の特許件数推移は以下の通りです。競合他社と特許件数を比較することで、国立研究開発法人産業技術総合研究所の過去および現在の業界内における研究開発状況や、業界内における位置付けを確認することができます。

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の735件、次に多いのは 株式会社豊田中央研究所 の394件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の11,549件、次に多いのは 住友電気工業株式会社 の5,057件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業13社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所の上位共願人との共有特許の件数推移は以下の通りです。共有特許の件数推移から、国立研究開発法人産業技術総合研究所の過去および現在の他社連携状況を確認することができます。

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、共願件数が最も多いのは 富士電機株式会社 の6件、次に多いのは シャープ株式会社 の1件です。

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
富士電機株式会社 6
シャープ株式会社 1

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、共願件数が最も多いのは 富士電機株式会社 の111件、次に多いのは 住友化学株式会社 の39件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
富士電機株式会社 111
住友化学株式会社 39
住友電気工業株式会社 30

上位共願人 日本特許件数 推移

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

国立研究開発法人科学技術振興機構 の特許共願傾向

国立研究開発法人科学技術振興機構 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 7件 です。

過去10年間の共願件数(2010〜2019年、計10件)の平均値は1.0件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2011年 の4件、最も少ない年は 2013年 の0件です。

過去10年間(2010〜2019年)の共願情報
指標
平均値 1.0
標準偏差 1.3
変動係数 1.3
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2015 年 1 0
2014 年 1 -
2013 年 0 -100 %

住友電気工業株式会社 の特許共願傾向

住友電気工業株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 30件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計7件)の平均値は1.4件、中央値は2.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2011年 の14件、最も少ない年は 2019年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 1.4
標準偏差 0.8
変動係数 0.6
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 2 0
2017 年 2 0
2016 年 2 +100 %

シャープ株式会社 の特許共願傾向

シャープ株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 8件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計7件)の平均値は1.4件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.0であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

共願件数が最も多い年は 2017年 の4件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 1.4
標準偏差 1.4
変動係数 1.0
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2019 年 1 0
2018 年 1 -75.0 %
2017 年 4 -

富士電機株式会社 の特許共願傾向

富士電機株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 111件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計54件)の平均値は10.8件、中央値は8.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の共願件数は減少傾向です。 共願件数が最も多い年は 2012年 の34件、最も少ない年は 2011年 の5件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 10.8
標準偏差 5.0
変動係数 0.5
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2019 年 6 -25.00 %
2018 年 8 -33.3 %
2017 年 12 -40.0 %

住友化学株式会社 の特許共願傾向

住友化学株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 39件 です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計8件)の平均値は1.6件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2012年 の17件、最も少ない年は 2018年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標
平均値 1.6
標準偏差 1.9
変動係数 1.2
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2017 年 2 +100 %
2016 年 1 -80.0 %
2015 年 5 +150 %

重要特許情報   (日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します

重要特許を確認することで、国立研究開発法人産業技術総合研究所が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードすることができます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を簡単に抽出することができます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-03-01〜2021-02-28)に、第三者から 異議申立 された特許は 6件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6614647号「サマリウム−鉄−窒素系焼結磁石、及びサマリウム−鉄−窒素系焼結磁石の製造方法」(異議申立日 2020-06-03)、次は 特許6465448号「Sm−Fe二元系合金を主成分とする磁石用原料およびその製造方法、ならびに磁石」(異議申立日 2019-08-05)です。

直近の異議申立 (2018-03-01〜2021-02-28)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6614647 サマリウム−鉄−窒素系焼結磁石、及びサマリウム−鉄−窒素系焼結磁石の製造方法 2020-06-03
2 特許6465448 Sm−Fe二元系合金を主成分とする磁石用原料およびその製造方法、ならびに磁石 2019-08-05
3 特許6460362 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 2019-07-25
4 特許6338235 低分子化抗体のスクリーニング方法及び製造方法 2018-12-05
5 特許6306443 発光ダイオード及び発光ダイオードの製造方法 2018-10-04
6 特許6238208 細胞展開用マイクロチャンバーチップ 2018-05-28

1件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-03-01〜2021-02-28)に、第三者から 情報提供 された特許は 14件 ありました。平均情報提供数は 2.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 再公表2018/163967号「Sm−Fe−N系結晶粒子を含む磁石粉末およびそれから製造される焼結磁石ならびにそれらの製造方法」(情報提供日 2021-01-08)、次は 特開2019-112526号「リグニンスルホン酸とカチオン性高分子を成分とするイオン複合材料」(情報提供日 2020-11-26)です。

直近の情報提供 (2018-03-01〜2021-02-28)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 再公表2018/163967 Sm−Fe−N系結晶粒子を含む磁石粉末およびそれから製造される焼結磁石ならびにそれらの製造方法 2021-01-08
2 特開2019-112526 リグニンスルホン酸とカチオン性高分子を成分とするイオン複合材料 2020-11-26
3 特開2017-165455 包装材 2020-11-18
4 特開2017-127997 造形用粉末 2020-08-25
5 特許6781864 ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 2020-01-23
6 特許6631907 アルコキシシラン類、オリゴシロキサン類およびその製造方法 2019-09-27
7 特許6755524 p型4H−SiC単結晶及びp型4H−SiC単結晶の製造方法 2019-09-26
8 特許6719342 製鉄用コークスの製造方法及び銑鉄の製造方法 2019-07-05
9 特許6785483 ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法 2019-04-26
10 特許6651082 軟磁性圧粉磁芯の製造方法 2018-12-21
11 特許6519888 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 2018-12-18
12 特許6460362 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 2018-12-04
13 特許6534044 電気二重層キャパシタ電極用バインダー、このバインダーを含む電気二重層キャパシタ電極、この電極を用いた電気二重層キャパシタ及び電気機器 2018-07-05
14 特許6384861 ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法 2018-04-16

9件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-03-01〜2021-02-28)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 31件 ありました。平均情報提供数は 2.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6384861号「ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法」(8回)、次に多い特許は 特許6785483号「ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法」(5回)です。

10年間(2011-03-01〜2021-02-28) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6384861 ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法 8
2 特許6785483 ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法 5
3 特許6157104 銀化合物を製造するための銀前駆体及びその製造方法、並びに、銀化合物の製造方法 4
4 特許6384944 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法 4
5 特許6171151 ゼオライト膜およびその製造方法 4

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-03-01〜2021-02-28)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 45件 ありました。平均閲覧請求数は 2.2回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2017-165455号「包装材」(閲覧請求日 2020-12-02)、次は 特許6781864号「ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法」(閲覧請求日 2020-11-13)です。

直近の閲覧請求 (2018-03-01〜2021-02-28)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2017-165455 包装材 2020-12-02
2 特許6781864 ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 2020-11-13
3 特許6419547 動作指令生成装置、動作指令生成方法、コンピュータプログラム、及び処理システム。 2020-10-15
4 特開2017-127997 造形用粉末 2020-08-27
5 特開2019-130484 連続液液分離装置及び連続液液分離方法 2020-04-17
6 特開2017-101228 粘土と樹脂と有機溶剤を含むコーティング剤、それを用いた保護膜、及び製品 2020-04-17
7 特許5907544 ナノ粒子の製造方法 2020-02-03
8 特許5682902 水分散性を有する高発光効率ナノ粒子 2020-02-03
9 特許3975272 超微細流体ジェット装置 2019-12-17
10 特開2015-172212 水素機器用の基材 2019-12-11
11 特許6635423 金属廃材から有価物を選別する選別方法 2019-11-14
12 特許6506611 金属廃材から有価物を選別する選別装置 2019-11-14
13 特許6755524 p型4H−SiC単結晶及びp型4H−SiC単結晶の製造方法 2019-10-24
14 特開2018-095354 バッグ型拡開装置 2019-10-07
15 特許6249494 炭化珪素単結晶の製造方法 2019-09-25
16 特許6238249 炭化珪素単結晶及びその製造方法 2019-09-25
17 特許6443865 次亜塩素酸ナトリウム5水和物の結晶体およびその製造方法 2019-08-29
18 特許6719342 製鉄用コークスの製造方法及び銑鉄の製造方法 2019-08-01
19 特許6617231 人工多能性幹細胞の作製方法 2019-07-17
20 特許6785483 ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法 2019-05-14

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-03-01〜2021-02-28)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 95件 ありました。平均閲覧請求数は 2.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6384861号「ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法」(8回)、次に多い特許は 特許5002788号「磁気抵抗素子および磁気抵抗素子の製造方法」(8回)です。

10年間(2011-03-01〜2021-02-28) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6384861 ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法 8
2 特許5002788 磁気抵抗素子および磁気抵抗素子の製造方法 8
3 特許5152734 磁気多層膜 6
4 特許6226284 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 6
5 特許5120680 磁気抵抗素子および磁気抵抗素子の製造方法 6

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-03-01〜2021-02-28)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 1,057件 ありました。平均被引用数は 2.0回 です。 被引用数が多い特許は 特許5842248号「マーカ」(13回)、次に多い特許は 特許5905271号「金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子」(11回)です。

10年間(2011-03-01〜2021-02-28) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5842248 マーカ 13
2 特許5905271 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 11
3 特許5955566 燐光性発光化合物及び高分子化合物を含む組成物、並びにそれを用いた発光素子 11
4 特開2013-232564 半導体装置および半導体装置の製造方法 11
5 特許6206900 固体電解質シート、電極シート、及び全固体二次電池 10

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