最終更新日:2020/10/03

国立研究開発法人産業技術総合研究所 (特許分析レポート・日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所の過去10年間(2010-01-01〜2020-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは特許データベース会社「Patent Integration」が提供する特許分析レポートサービスです。 特許調査・分析業務に活用いただくことを目的として、現在ベータサービスとして提供しております。

保有特許の全体像は、特許 テキストマイニング技術を用いて作成された「パテント・ランドスケープ」により俯瞰することができます。

外国特許分析レポート

「国立研究開発法人産業技術総合研究所」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を簡単に確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

国立研究開発法人産業技術総合研究所の特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「国立研究開発法人産業技術総合研究所」の直近(2019-01-01〜2019-03-31)の特許出願件数は 89件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-03-31)の特許出願件数 164件 に比べて -75件(-45.7%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2010年 の809件、最も少ない年は 2018年 の469件です。

過去5年間の出願件数(2014〜2018年、計2,649件)の平均値は530件、中央値は501件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.10であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2014〜2018年)の出願情報
指標
平均値 530
標準偏差 51.3
変動係数 0.10

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2018 年 469 -21.31 %
2017 年 596 +18.96 %
2016 年 501 +0.80 %

国立研究開発法人産業技術総合研究所 日本特許件数 推移

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)は以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

国立研究開発法人産業技術総合研究所 が保有する過去 10年間、{{ld.d.dlcnt|number}}件の{{ld.d.db_name|country_map}}特許の全体像をパテント・ランドスケープ機能により俯瞰できます。 ヒートマップはキーワードに関連するそれぞれの特許出願状況(注力領域)を表現しており、赤い領域ほど多くの特許出願がなされていることを意味します。 出願年でフィルタすることにより、過去の出願傾向(注力してきた技術領域)の変遷を確認することができます。

特徴語 (重要度)

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」は以下の通りです。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「5,518件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップなどの特許情報は、特許調査業務など自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
国立研究開発法人産業技術総合研究所
特許分析期間
2010-01-01〜2020-09-30
対象件数
5,518

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所と同業種の他の企業(競合他社)の特許情報は以下の通りです。業界内の各企業の特許件数推移は以下の通りです。競合他社と特許件数を比較することで、国立研究開発法人産業技術総合研究所の過去および現在の業界内における研究開発状況や、業界内における位置付けを確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2018〜2020年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の1,813件、次に多いのは 株式会社豊田中央研究所 の828件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2010〜2020年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の11,945件、次に多いのは 国立研究開発法人産業技術総合研究所 の5,518件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業13社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

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上位共願人 情報  (日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所の上位共願人との共有特許の件数推移は以下の通りです。共有特許の件数推移から、国立研究開発法人産業技術総合研究所の過去および現在の他社連携状況を確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2018〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 富士電機株式会社 の13件、次に多いのは 日立化成株式会社 の3件です。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
富士電機株式会社 13
日立化成株式会社 3
住友電気工業株式会社 2

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2010〜2020年)において、共願件数が最も多いのは 富士電機株式会社 の116件、次に多いのは 住友電気工業株式会社 の49件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称 件数
富士電機株式会社 116
住友電気工業株式会社 49
住友化学株式会社 45

上位共願人 日本特許件数 推移

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

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上位共願人 詳細   (日本)

国立研究開発法人科学技術振興機構 の特許共願傾向

国立研究開発法人科学技術振興機構 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 10件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計2件)の平均値は0.4件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2011年 の4件、最も少ない年は 2013年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 0.4
標準偏差 0.5
変動係数 1.2
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2015 年 1 0
2014 年 1 -
2013 年 0 -100 %

住友電気工業株式会社 の特許共願傾向

住友電気工業株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 49件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計9件)の平均値は1.8件、中央値は2.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.22であり、年ごとの共願件数のばらつきは小さいです。

共願件数が最も多い年は 2010年 の19件、最も少ない年は 2015年 の1件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 1.8
標準偏差 0.4
変動係数 0.22
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 2 0
2017 年 2 0
2016 年 2 +100 %

シャープ株式会社 の特許共願傾向

シャープ株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 10件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計6件)の平均値は1.2件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2017年 の4件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 1.2
標準偏差 1.5
変動係数 1.2
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 1 -75.0 %
2017 年 4 -
2016 年 0 -100 %

富士電機株式会社 の特許共願傾向

富士電機株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 116件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計69件)の平均値は13.8件、中央値は12.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2016〜2018年)の共願件数は減少傾向です。 共願件数が最も多い年は 2012年 の34件、最も少ない年は 2010年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 13.8
標準偏差 4.6
変動係数 0.3
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 11 -35.3 %
2017 年 17 -19.05 %
2016 年 21 +162 %

住友化学株式会社 の特許共願傾向

住友化学株式会社 の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 45件 です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計10件)の平均値は2.0件、中央値は2.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

共願件数が最も多い年は 2012年 の17件、最も少ない年は 2018年 の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標
平均値 2.0
標準偏差 1.7
変動係数 0.8
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2018 年 0 -100 %
2017 年 2 +100 %
2016 年 1 -80.0 %

重要特許情報   (日本)

国立研究開発法人産業技術総合研究所 の保有日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許は以下の通りです。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2017-10-01〜2020-09-30)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許4831309号「廃棄物処理設備および廃棄物処理方法」(無効審判請求日 2017-12-20)です。

直近の無効審判請求 (2017-10-01〜2020-09-30)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許4831309 廃棄物処理設備および廃棄物処理方法 2017-12-20

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2017-10-01〜2020-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 7件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6614647号「サマリウム−鉄−窒素系焼結磁石、及びサマリウム−鉄−窒素系焼結磁石の製造方法」(異議申立日 2020-06-03)、次は 特許6465448号「Sm−Fe二元系合金を主成分とする磁石用原料およびその製造方法、ならびに磁石」(異議申立日 2019-08-05)です。

直近の異議申立 (2017-10-01〜2020-09-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6614647 サマリウム−鉄−窒素系焼結磁石、及びサマリウム−鉄−窒素系焼結磁石の製造方法 2020-06-03
2 特許6465448 Sm−Fe二元系合金を主成分とする磁石用原料およびその製造方法、ならびに磁石 2019-08-05
3 特許6460362 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 2019-07-25
4 特許6338235 低分子化抗体のスクリーニング方法及び製造方法 2018-12-05
5 特許6306443 発光ダイオード及び発光ダイオードの製造方法 2018-10-04
6 特許6238208 細胞展開用マイクロチャンバーチップ 2018-05-28
7 特許6179915 燃焼排ガス中の二酸化炭素を利用した園芸用施設への二酸化炭素供給装置 2018-02-16

2件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2017-10-01〜2020-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 14件 ありました。平均情報提供数は 2.2回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2017-127997号「造形用粉末」(情報提供日 2020-08-25)、次は 再公表2018/163967号「Sm−Fe−N系結晶粒子を含む磁石粉末およびそれから製造される焼結磁石ならびにそれらの製造方法」(情報提供日 2020-06-10)です。

直近の情報提供 (2017-10-01〜2020-09-30)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2017-127997 造形用粉末 2020-08-25
2 再公表2018/163967 Sm−Fe−N系結晶粒子を含む磁石粉末およびそれから製造される焼結磁石ならびにそれらの製造方法 2020-06-10
3 再公表2018/008594 ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 2020-01-23
4 特開2017-165455 包装材 2019-11-21
5 特許6631907 アルコキシシラン類、オリゴシロキサン類およびその製造方法 2019-09-27
6 特許6755524 p型4H−SiC単結晶及びp型4H−SiC単結晶の製造方法 2019-09-26
7 特許6719342 製鉄用コークスの製造方法及び銑鉄の製造方法 2019-07-05
8 特開2015-066532 ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法 2019-04-26
9 特許6651082 軟磁性圧粉磁芯の製造方法 2018-12-21
10 特許6519888 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 2018-12-18
11 特許6460362 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 2018-12-04
12 特許6534044 電気二重層キャパシタ電極用バインダー、このバインダーを含む電気二重層キャパシタ電極、この電極を用いた電気二重層キャパシタ及び電気機器 2018-07-05
13 特許6384861 ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法 2018-04-16
14 特許6388417 アンモニア合成触媒及びアンモニアの製造方法 2017-12-27

9件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2010-10-01〜2020-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 30件 ありました。平均情報提供数は 2.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6384861号「ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法」(8回)、次に多い特許は 特開2015-066532号「ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法」(5回)です。

10年間(2010-10-01〜2020-09-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6384861 ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法 8
2 特開2015-066532 ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法 5
3 特許6157104 銀化合物を製造するための銀前駆体及びその製造方法、並びに、銀化合物の製造方法 4
4 特許6384944 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法 4
5 特許6171151 ゼオライト膜およびその製造方法 4

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2017-10-01〜2020-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 54件 ありました。平均閲覧請求数は 2.2回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2017-127997号「造形用粉末」(閲覧請求日 2020-08-27)、次は 特開2019-130484号「連続液液分離装置及び連続液液分離方法」(閲覧請求日 2020-04-17)です。

直近の閲覧請求 (2017-10-01〜2020-09-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2017-127997 造形用粉末 2020-08-27
2 特開2019-130484 連続液液分離装置及び連続液液分離方法 2020-04-17
3 特開2017-101228 粘土と樹脂と有機溶剤を含むコーティング剤、それを用いた保護膜、及び製品 2020-04-17
4 再公表2018/008594 ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 2020-02-25
5 特許5907544 ナノ粒子の製造方法 2020-02-03
6 特許5682902 水分散性を有する高発光効率ナノ粒子 2020-02-03
7 特許3975272 超微細流体ジェット装置 2019-12-17
8 特開2015-172212 水素機器用の基材 2019-12-11
9 特許6635423 金属廃材から有価物を選別する選別方法 2019-11-14
10 特許6506611 金属廃材から有価物を選別する選別装置 2019-11-14
11 特許6755524 p型4H−SiC単結晶及びp型4H−SiC単結晶の製造方法 2019-10-24
12 特開2018-095354 バッグ型拡開装置 2019-10-07
13 特許6249494 炭化珪素単結晶の製造方法 2019-09-25
14 特許6238249 炭化珪素単結晶及びその製造方法 2019-09-25
15 特許6443865 次亜塩素酸ナトリウム5水和物の結晶体およびその製造方法 2019-08-29
16 特許6719342 製鉄用コークスの製造方法及び銑鉄の製造方法 2019-08-01
17 特許6617231 人工多能性幹細胞の作製方法 2019-07-17
18 特開2017-165455 包装材 2019-05-20
19 特開2015-066532 ゼオライト薄膜を有する複合膜およびその製造方法 2019-05-14
20 特許5231914 酸化性活性化学種センサ、酸化性活性化学種存在量の測定方法及び酸化性活性化学種存在量の測定装置 2019-05-09

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2010-10-01〜2020-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 104件 ありました。平均閲覧請求数は 2.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6384861号「ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法」(8回)、次に多い特許は 特許5002788号「磁気抵抗素子および磁気抵抗素子の製造方法」(8回)です。

10年間(2010-10-01〜2020-09-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6384861 ハロモナス菌を用いた3−ヒドロキシ酪酸の製造方法 8
2 特許5002788 磁気抵抗素子および磁気抵抗素子の製造方法 8
3 特許5152734 磁気多層膜 6
4 特許6226284 核酸増幅装置、核酸増幅方法及び核酸増幅用チップ 6
5 特許5120680 磁気抵抗素子および磁気抵抗素子の製造方法 6

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2010-10-01〜2020-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 1,114件 ありました。平均被引用数は 2.0回 です。 被引用数が多い特許は 特許5669183号「陽イオンの処理及び回収方法、これに用いられる材料及び処理装置」(20回)、次に多い特許は 特許5608864号「二酸化炭素塗装方法及びその装置」(13回)です。

10年間(2010-10-01〜2020-09-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5669183 陽イオンの処理及び回収方法、これに用いられる材料及び処理装置 20
2 特許5608864 二酸化炭素塗装方法及びその装置 13
3 特許5842248 マーカ 11
4 特開2013-232564 半導体装置および半導体装置の製造方法 11
5 特許5905271 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 10

コンテンツについて

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