技術分野「研磨」の直近(2022-01-01〜2022-01-31)の特許出願件数は 53件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-01-31)の特許出願件数 84件 に比べて -31件(-36.9%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 サンジング 」、「 サンディング 」、「 ポリッシング 」、「 研ま 」、「 研摩 」、「 研摩処理 」、「 研摩加工 」、「 研磨処理 」、「 研磨加工 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2013年 の2,193件、最も少ない年は 2021年 の1,106件です。
過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計8,265件)の平均値は1,378件、中央値は1,585件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,378 件 |
標準偏差 | 548 |
変動係数 | 0.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2021 年 | 1,106 件 | -26.36 % |
2020 年 | 1,502 件 | -9.95 % |
2019 年 | 1,668 件 | -8.45 % |
研磨の過去10年間(2013-01-01〜2023-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、研磨の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、研磨の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった研磨の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
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近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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研磨 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「16,677件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
研磨 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、研磨が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2020-10-01〜2023-09-30)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 2.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6015941号「食用畜肉塊の除毛装置」(無効審判請求日 2022-05-31)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6015941 | 食用畜肉塊の除毛装置 | 2022-05-31 |
直近3年間(2020-10-01〜2023-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 54件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7211147号「シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法」(異議申立日 2023-07-21)、次は 特許7212321号「レーザーマーク周辺の隆起を解消するための研磨用組成物」(異議申立日 2023-07-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7211147 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2023-07-21 |
2 | 特許7212321 | レーザーマーク周辺の隆起を解消するための研磨用組成物 | 2023-07-14 |
3 | 特許7209636 | 固体電解質の表面を処理するためのシステム及び方法 | 2023-07-12 |
4 | 特許7193287 | 保持パッド及びその搬送又は保管方法 | 2023-06-19 |
5 | 特許7195040 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 2023-06-15 |
6 | 特許7181140 | 保持パッド | 2023-05-02 |
7 | 特許7162576 | 電子インタフェースを備えた電子カード | 2023-04-26 |
8 | 特許7167601 | ベーパーチャンバーおよびベーパーチャンバーの製造方法 | 2023-04-25 |
9 | 特許7141339 | 研磨用組成物 | 2023-03-20 |
10 | 特許7137503 | 研磨パッド | 2023-03-01 |
直近3年間(2020-10-01〜2023-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 95件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2021-155603号「窯業系無機質基材の塗装方法、及び窯業系無機質基材塗装品」(情報提供日 2023-08-28)、次は 特開2023-008827号「CMP研磨パッド」(情報提供日 2023-06-30)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2021-155603 | 窯業系無機質基材の塗装方法、及び窯業系無機質基材塗装品 | 2023-08-28 |
2 | 特開2023-008827 | CMP研磨パッド | 2023-06-30 |
3 | 特開2023-035854 | 塗材仕上げ工法及びこれに使用する厚塗り用塗材組成物 | 2023-06-23 |
4 | 特開2022-100932 | シリカ微粒子分散液およびその製造方法 | 2023-06-07 |
5 | 特開2021-134098 | シリカ微粒子分散液およびその製造方法 | 2023-06-07 |
6 | 特開2023-017823 | シリカゾル、研磨組成物、シリコンウェーハの研磨方法、シリコンウェーハの製造方法、化学的機械的研磨組成物及び半導体デバイスの製造方法 | 2023-06-05 |
7 | 特開2021-178769 | 薄板モールドプレス成形用フツリン酸光学ガラス、マルチプレス用フツリン酸光学ガラス、光学素子、プリフォーム及びレンズ | 2023-05-26 |
8 | 特開2021-127482 | グラスライニング製品及びその製造方法 | 2023-05-24 |
9 | 特開2020-157456 | 保持パッド | 2023-05-22 |
10 | 特開2020-157449 | 保持パッド | 2023-05-19 |
11 | 特開2020-110790 | 複層塗膜形成方法 | 2023-05-18 |
12 | 特表2022-553335 | 自動停止研磨組成物及び方法 | 2023-05-12 |
13 | 特表2022-552895 | 誘電体CMPのための組成物及び方法 | 2023-05-12 |
14 | 特表2022-553336 | 選択的酸化物CMPのための組成物及び方法 | 2023-05-12 |
15 | 特表2022-553334 | 誘電体CMPのための組成物及び方法 | 2023-05-12 |
16 | 特表2022-553346 | 酸化ケイ素及び炭素ドープ酸化ケイ素CMPのための組成物並びに方法 | 2023-05-12 |
17 | 特開2021-143110 | 粒子連結型シリカ微粒子分散液およびその製造方法、並びに研磨用砥粒分散液 | 2023-04-25 |
18 | 特開2022-100692 | キャリアプレートの研磨方法、キャリアプレートおよび半導体ウェーハの研磨方法 | 2023-04-10 |
19 | 特表2022-533332 | 被覆研磨材粒子を用いる溶接方法、被覆研磨材粒子、層システム及び密閉システム | 2023-04-10 |
20 | 特開2023-015153 | 研磨物品及びそれを形成させる方法 | 2023-04-06 |
直近10年間(2013-10-01〜2023-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 231件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6611299号「光学ガラス、プリフォーム及び光学素子」(5回)、次に多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6611299 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 5 回 |
2 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 5 回 |
3 | 特許6985786 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 5 回 |
4 | 特許7195040 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 4 回 |
5 | 再公表2015/111134 | 窒化物半導体発光素子 | 4 回 |
直近3年間(2020-10-01〜2023-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 142件 ありました。平均閲覧請求数は 1.5回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 再公表2019/132046号「水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品、装置及び設備」(閲覧請求日 2023-08-24)、次は 特開2020-196767号「歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法」(閲覧請求日 2023-08-24)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 再公表2019/132046 | 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品、装置及び設備 | 2023-08-24 |
2 | 特開2020-196767 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 2023-08-24 |
3 | 特許6985786 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 2023-08-24 |
4 | 特開2022-168043 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 2023-08-24 |
5 | 特許7209636 | 固体電解質の表面を処理するためのシステム及び方法 | 2023-08-17 |
6 | 特開2023-008827 | CMP研磨パッド | 2023-07-27 |
7 | 特許5186582 | 転がり軸受 | 2023-07-19 |
8 | 特開2023-077373 | 壁紙およびその製造方法 | 2023-07-19 |
9 | 特開2022-100932 | シリカ微粒子分散液およびその製造方法 | 2023-06-28 |
10 | 特開2021-134098 | シリカ微粒子分散液およびその製造方法 | 2023-06-28 |
11 | 特開2020-059109 | 研磨バフ | 2023-06-28 |
12 | 特開2023-017823 | シリカゾル、研磨組成物、シリコンウェーハの研磨方法、シリコンウェーハの製造方法、化学的機械的研磨組成物及び半導体デバイスの製造方法 | 2023-06-27 |
13 | 特開2021-178769 | 薄板モールドプレス成形用フツリン酸光学ガラス、マルチプレス用フツリン酸光学ガラス、光学素子、プリフォーム及びレンズ | 2023-06-26 |
14 | 特開2020-110790 | 複層塗膜形成方法 | 2023-06-22 |
15 | 特開2021-127482 | グラスライニング製品及びその製造方法 | 2023-06-15 |
16 | 特開2021-037281 | 医療用炭酸カルシウム組成物、および関連医療用組成物、ならびにこれらの製造方法 | 2023-06-12 |
17 | 特開2020-147490 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法、半導体デバイスの製造方法及びシリカ粒子の評価方法 | 2023-06-09 |
18 | 特表2022-553335 | 自動停止研磨組成物及び方法 | 2023-06-08 |
19 | 特表2022-552895 | 誘電体CMPのための組成物及び方法 | 2023-06-08 |
20 | 特表2022-553336 | 選択的酸化物CMPのための組成物及び方法 | 2023-06-08 |
直近10年間(2013-10-01〜2023-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 413件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(13回)、次に多い特許は 再公表2015/111134号「窒化物半導体発光素子」(7回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 13 回 |
2 | 再公表2015/111134 | 窒化物半導体発光素子 | 7 回 |
3 | 特開2020-196767 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 7 回 |
4 | 特開2017-036209 | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 | 6 回 |
5 | 特許6438564 | 侵食性防汚コーティング組成物 | 5 回 |
直近10年間(2013-10-01〜2023-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,595件 ありました。平均被引用数は 2.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許5953341号「磁気テープ」(107回)、次に多い特許は 特許6318108号「磁気テープ」(64回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5953341 | 磁気テープ | 107 回 |
2 | 特許6318108 | 磁気テープ | 64 回 |
3 | 特許6549528 | 磁気テープおよび磁気テープ装置 | 57 回 |
4 | 特許7171139 | 被加工物の加工方法 | 50 回 |
5 | 特許6522514 | 閉塞装置 | 32 回 |
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