最終更新日:2021/12/05

研磨 (特許分析レポート・日本)

技術分野「研磨」の直近(2020-01-01〜2020-04-30)の特許出願件数は 354件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-04-30)の特許出願件数 568件 に比べて -214件(-37.7%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 サンジング 」、「 サンディング 」、「 ポリッシング 」、「 研ま 」、「 研摩 」、「 研摩処理 」、「 研摩加工 」、「 研磨処理 」、「 研磨加工 」に関する技術用語も検索集合に含みます。

出願件数が最も多い年は 2012年 の2,365件、最も少ない年は 2020年 の604件です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計7,512件)の平均値は1,502件、中央値は1,717件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 1,502
標準偏差 476
変動係数 0.3

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 604 -58.5 %
2019 年 1,454 -15.32 %
2018 年 1,717 -4.56 %

研磨の過去10年間(2012-01-01〜2021-12-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、研磨の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、研磨の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった研磨の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedIn、またはIPTech特許業務法人からお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「研磨」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「研磨」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

研磨 日本特許件数 推移

研磨 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「16,312件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
技術分野:
研磨
特許分析期間
2012-01-01〜2021-12-31
対象件数
16,312

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

研磨と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の32件、次に多いのは キヤノン株式会社 の4件です。

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
株式会社荏原製作所 32
キヤノン株式会社 4

対象期間(2012〜2022年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の615件、次に多いのは キヤノン株式会社 の131件です。

上位企業 日本特許件数 推移

研磨 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

パナソニック株式会社 の特許出願傾向

パナソニック株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 22件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計5件)の平均値は1.0件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

出願件数が最も多い年は 2012年 の11件、最も少ない年は 2018年 の0件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 1.0
標準偏差 1.1
変動係数 1.1
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 1 -
2018 年 0 -100 %
2017 年 1 -66.7 %

株式会社東芝 の特許出願傾向

株式会社東芝 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 113件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計21件)の平均値は4.2件、中央値は5.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2013年 の32件、最も少ない年は 2020年 の0件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 4.2
標準偏差 2.3
変動係数 0.6
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 5 0
2018 年 5 +25.00 %
2017 年 4 -42.9 %

ソニーグループ株式会社 の特許出願傾向

ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 30件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計10件)の平均値は2.0件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.0であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2013年 の10件、最も少ない年は 2020年 の0件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 2.0
標準偏差 2.1
変動係数 1.0
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 1 -50.0 %
2018 年 2 +100 %
2017 年 1 -83.3 %

キヤノン株式会社 の特許出願傾向

キヤノン株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 131件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計46件)の平均値は9.2件、中央値は10.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2012年 の32件、最も少ない年は 2019年 の3件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 9.2
標準偏差 5.4
変動係数 0.6
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 4 +33.3 %
2019 年 3 -72.7 %
2018 年 11 +10.00 %

株式会社日立製作所 の特許出願傾向

株式会社日立製作所 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 16件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計5件)の平均値は1.0件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

出願件数が最も多い年は 2014年 の3件、最も少ない年は 2019年 の0件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 1.0
標準偏差 0.9
変動係数 0.9
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2018 年 1 -50.0 %
2017 年 2 0
2016 年 2 0

重要特許情報   (日本)

研磨 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、研磨が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2019-01-01〜2021-12-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 43件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6864519号「研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスクの研磨方法」(異議申立日 2021-10-12)、次は 特許6837779号「表面処理鋼線材及びその製造方法」(異議申立日 2021-09-02)です。

直近の異議申立 (2019-01-01〜2021-12-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6864519 研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスクの研磨方法 2021-10-12
2 特許6837779 表面処理鋼線材及びその製造方法 2021-09-02
3 特許6819451 大型合成石英ガラス基板並びにその評価方法及び製造方法 2021-07-27
4 特許6818037 半導体チップの製造方法、キット 2021-07-15
5 特許6794462 薬液、薬液収容体、薬液の製造方法、及び、薬液収容体の製造方法 2021-05-25
6 特許6761554 研磨用組成物 2021-03-18
7 特許6756422 シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2021-03-16
8 特許6756423 シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2021-03-16
9 特許6756482 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 2021-03-12
10 特許6726219 窒化ホウ素凝集体粉末 2021-01-22

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2019-01-01〜2021-12-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 89件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 再公表2018/225599号「エポキシ樹脂組成物、電子部品実装構造体およびその製造方法」(情報提供日 2021-11-29)、次は 特開2019-186470号「回路付基板加工体及び回路付基板加工方法」(情報提供日 2021-11-17)です。

直近の情報提供 (2019-01-01〜2021-12-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 再公表2018/225599 エポキシ樹脂組成物、電子部品実装構造体およびその製造方法 2021-11-29
2 特開2019-186470 回路付基板加工体及び回路付基板加工方法 2021-11-17
3 特開2017-105702 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 2021-11-10
4 特開2017-105703 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 2021-10-28
5 特開2019-089692 コロイダルシリカ、シリカゾル、研磨組成物、シリコンウェーハの研磨方法、シリコンウェーハの製造方法、化学的機械的研磨組成物及び半導体デバイスの製造方法 2021-10-13
6 特開2020-097108 研磨物品及びそれを形成させる方法 2021-10-08
7 特開2017-154963 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 2021-10-08
8 特開2021-070153 研磨パッド、その製造方法、およびそれを用いた半導体素子の製造方法 2021-10-01
9 特開2019-171620 熱硬化樹脂部材の接合方法、その方法において使用される熱硬化樹脂部材および接合体 2021-09-27
10 特開2020-171996 両面研磨方法 2021-09-15
11 特開2020-044629 バレル研磨方法 2021-09-14
12 特表2019-520989 分散媒中の不活性粒子および研磨粒子を分離および懸濁させることを目的とした粘性粒子の水性、半水性、非水性スラリーサスペンションのin−situ生成 2021-08-20
13 特開2021-070152 研磨パッド、その製造方法、およびそれを用いた半導体素子の製造方法 2021-07-28
14 特開2019-151849 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット 2021-06-30
15 再公表2019/208586 連続繊維強化樹脂成形体、及びその製造方法 2021-06-14
16 再公表2017/199829 金属張積層板の製造方法、電子回路基板の製造方法、剛体振り子型粘弾性測定装置 2021-06-04
17 特開2019-186490 キャリア、キャリアの製造方法、キャリアの評価方法および半導体ウェーハの研磨方法 2021-06-04
18 特許6964808 複合積層体及びその製造方法、並びに金属樹脂接合体 2021-05-31
19 特許6949883 落下性能が改善されたガラス 2021-05-26
20 特許6902042 2つの領域を含む応力プロファイルを含むガラス系物品および製造方法 2021-05-20

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2012-01-01〜2021-12-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 235件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 情報提供数が多い特許は 特表2015-510857号「食品包装および食品加工装置のための自己潤滑性表面」(8回)、次に多い特許は 特許6315305号「ガラス積層体及びこれを用いた光学結像部材」(6回)です。

10年間(2012-01-01〜2021-12-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特表2015-510857 食品包装および食品加工装置のための自己潤滑性表面 8
2 特許6315305 ガラス積層体及びこれを用いた光学結像部材 6
3 特許6067722 混気ジェットブラスト方法及び装置 6
4 特許6611299 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 5
5 特許6654380 建材の製造方法 5

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2019-01-01〜2021-12-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 168件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 再公表2018/225599号「エポキシ樹脂組成物、電子部品実装構造体およびその製造方法」(閲覧請求日 2021-12-14)、次は 特許4699758号「フッ素置換オレフィンを含有する組成物」(閲覧請求日 2021-11-25)です。

直近の閲覧請求 (2019-01-01〜2021-12-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 再公表2018/225599 エポキシ樹脂組成物、電子部品実装構造体およびその製造方法 2021-12-14
2 特許4699758 フッ素置換オレフィンを含有する組成物 2021-11-25
3 特表2018-529734 APメソ多孔性シリカ間の粉砕平衡による機械化学的に活性化される乾燥非晶質化 2021-11-16
4 特開2020-097108 研磨物品及びそれを形成させる方法 2021-11-12
5 特開2019-089692 コロイダルシリカ、シリカゾル、研磨組成物、シリコンウェーハの研磨方法、シリコンウェーハの製造方法、化学的機械的研磨組成物及び半導体デバイスの製造方法 2021-11-09
6 特表2020-528363 研磨品とその形成方法 2021-11-05
7 特開2020-073681 2,3,3,3−テトラフルオロプロペン、1,1,2,3−テトラクロロプロペン、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン、または2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを含む組成物 2021-10-29
8 特開2019-171620 熱硬化樹脂部材の接合方法、その方法において使用される熱硬化樹脂部材および接合体 2021-10-26
9 特表2019-520989 分散媒中の不活性粒子および研磨粒子を分離および懸濁させることを目的とした粘性粒子の水性、半水性、非水性スラリーサスペンションのin−situ生成 2021-10-25
10 特許6673954 元素状ケイ素を含む膜の化学機械平坦化 2021-10-25
11 特開2020-171996 両面研磨方法 2021-10-20
12 特許6971193 アルミナ粉末およびこれを含有するスラリー、アルミナ多孔膜およびこれを備えた積層セパレータ、並びに非水電解液二次電池およびその製造方法 2021-09-30
13 特許6841359 シリコンエピタキシャルウェーハ製造用サセプタの製造方法及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 2021-09-29
14 特許6301572 多孔研磨具、及びそれを備えた研磨具 2021-09-29
15 特許6956641 複合電解質 2021-09-28
16 特開2017-154963 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 2021-09-07
17 特許6861063 窒化アルミニウム多結晶基板用研磨剤組成物および窒化アルミニウム多結晶基板の研磨方法 2021-08-20
18 再公表2017/199829 金属張積層板の製造方法、電子回路基板の製造方法、剛体振り子型粘弾性測定装置 2021-08-02
19 特開2019-186490 キャリア、キャリアの製造方法、キャリアの評価方法および半導体ウェーハの研磨方法 2021-07-28
20 特開2020-133075 人工毛髪、人工毛髪束セット、人工毛髪の製造方法、増毛方法及びかつら 2021-07-19

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2012-01-01〜2021-12-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 470件 ありました。平均閲覧請求数は 2.1回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特表2015-510857号「食品包装および食品加工装置のための自己潤滑性表面」(16回)、次に多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(13回)です。

10年間(2012-01-01〜2021-12-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特表2015-510857 食品包装および食品加工装置のための自己潤滑性表面 16
2 特許6654380 建材の製造方法 13
3 特許6121898 表面保護フィルムの製造方法および製造装置ならびに表面保護フィルム 10
4 特許6438564 侵食性防汚コーティング組成物 10
5 特許5524288 ポリウレタン樹脂組成物およびポリウレタン支持パッド 10

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2012-01-01〜2021-12-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,876件 ありました。平均被引用数は 2.4回 です。 被引用数が多い特許は 特許5953341号「磁気テープ」(91回)、次に多い特許は 特許5799045号「磁気記録媒体およびその製造方法」(83回)です。

10年間(2012-01-01〜2021-12-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5953341 磁気テープ 91
2 特許5799045 磁気記録媒体およびその製造方法 83
3 特許6084305 磁気テープ処理 68
4 特許6318108 磁気テープ 43
5 特許6182384 全体的または部分的関節形成において正確さ、速度及び単純さの増加を容易にする患者により選択可能な関節形成装置と手術ツール 42

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