研磨 (特許分析レポート・日本)
技術分野「研磨」の直近(2021-01-01〜2021-06-30)の特許出願件数は 475件 です。前年同期間(2020-01-01〜2020-06-30)の特許出願件数 670件 に比べて -195件(-29.1%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 サンジング 」、「 サンディング 」、「 ポリッシング 」、「 研ま 」、「 研摩 」、「 研摩処理 」、「 研摩加工 」、「 研磨処理 」、「 研磨加工 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
研磨の特定の技術分野の特許出願動向を調べて欲しい、研磨の注力領域を知りたいなど、 特許情報調査、解析の相談・お問い合わせも受け付けております。 「お問い合わせフォーム」よりお問い合わせください。
出願件数が最も多い年は 2013年 の2,191件、最も少ない年は 2021年 の659件です。
過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計7,482件)の平均値は1,247件、中央値は1,526件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 1,247 件 |
| 標準偏差 | 638 |
| 変動係数 | 0.5 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2021 年 | 659 件 | -53.9 % |
| 2020 年 | 1,429 件 | -12.01 % |
| 2019 年 | 1,624 件 | -8.71 % |
研磨の過去10年間(2013-01-01〜2023-02-28)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ（日米欧・国際公開）に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、研磨の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、研磨の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった研磨の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
【監修者】
Patent ＆Marketing運営 佐藤総合特許事務所 代表弁理士
特許事務所における事務所実務経験と、ヤマハ発動機株式会社のグループ会社における知財部門の担当として企業知財での経験と、当該会社における 企画部門での戦略立案担当としの経験を活かし、クライアント企業の『事業の勝ち』にこだわったサービスを提供しています。 また、Patent ＆ Marketingでは特許やマーケティングリサーチに役立つリンク集などを提供しています。 続きを読む...
はじめに
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン＆クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。
パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
研磨 日本特許件数 推移
研磨 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
検索集合 (分析対象)
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「15,862件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
研磨
重要特許情報 (日本)
研磨 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、研磨が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
一方、無効審判請求がなされた特許は他社の事業を阻害している可能性が特に高い重要な特許であるといえます。
また、情報提供又は異議申立がなされた特許出願は、無効審判請求ほど致命的ではないものの権利化が認められない第三者がいることから、「研磨」の業界における注目特許であるといえます。
いずれにしてもこれらの重要特許の内容を確認することが、知財的なリスク管理の観点でも、ビジネス的に重要な技術を知る意味でも重要になります。
用語解説
- 被引用
- 他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
- 無効審判請求
- 特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
- 異議申立
- 第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
- 情報提供
- 出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
- 閲覧請求
- 第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。
被無効審判請求 特許
直近の 被無効審判請求特許 一覧
直近3年間(2020-03-01〜2023-02-28)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 2.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6015941号「食用畜肉塊の除毛装置」(無効審判請求日 2022-05-31)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許6015941 | 食用畜肉塊の除毛装置 | 2022-05-31 |
被異議申立 特許
直近の 被異議申立特許 一覧
直近3年間(2020-03-01〜2023-02-28)に、第三者から 異議申立 された特許は 47件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7096959号「自爪の発育促進方法」(異議申立日 2023-01-06)、次は 特許7106057号「球状ガラス、ガラス転動体及びガラス転動体の製造方法」(異議申立日 2022-12-26)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許7096959 | 自爪の発育促進方法 | 2023-01-06 |
| 2 | 特許7106057 | 球状ガラス、ガラス転動体及びガラス転動体の製造方法 | 2022-12-26 |
| 3 | 特許7089844 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 2022-12-08 |
| 4 | 特許7058344 | 歯肉健康を促進するための口腔ケア組成物 | 2022-10-21 |
| 5 | 特許7058343 | 歯肉健康を促進するための口腔ケア組成物 | 2022-10-21 |
| 6 | 特許7048395 | 均一性が改善されたケミカルメカニカルポリッシング層の作製方法 | 2022-10-05 |
| 7 | 特許7063493 | 成膜用冶具及び気相成長装置 | 2022-08-30 |
| 8 | 特許7008170 | 防水紙およびその製造方法 | 2022-08-10 |
| 9 | 特許7010619 | 低欠陥多孔性研磨パッド | 2022-07-26 |
| 10 | 特許7011419 | テーパー状ポロメリック研磨パッド | 2022-07-26 |
被情報提供 特許
直近の 被情報提供特許 一覧
直近3年間(2020-03-01〜2023-02-28)に、第三者から 情報提供 された特許は 82件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-118024号「研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット」(情報提供日 2023-02-08)、次は 特開2021-075417号「光学ガラス、プリフォーム及び光学素子」(情報提供日 2023-01-23)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2022-118024 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット | 2023-02-08 |
| 2 | 特開2021-075417 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 2023-01-23 |
| 3 | 特開2020-147490 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法、半導体デバイスの製造方法及びシリカ粒子の評価方法 | 2023-01-20 |
| 4 | 特開2021-050260 | 目止め用樹脂組成物およびそれを用いた窯業系無機基材化粧板の製造方法 | 2023-01-17 |
| 5 | 再公表2019/054294 | セラミックス回路基板の製造方法 | 2022-12-16 |
| 6 | 特開2021-116209 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2022-11-24 |
| 7 | 特開2020-152890 | 表面処理組成物 | 2022-11-08 |
| 8 | 特開2021-142599 | 研磨装置及び方法 | 2022-11-02 |
| 9 | 再公表2019/151316 | 光学ガラスおよび光学部品 | 2022-10-25 |
| 10 | 特表2022-533332 | 被覆研磨材粒子を用いる溶接方法、被覆研磨材粒子、層システム及び密閉システム | 2022-10-24 |
| 11 | 特開2020-063185 | 酸化マグネシウムおよびその製造方法ならびにその酸化マグネシウムからなるガス吸着材 | 2022-10-14 |
| 12 | 特開2020-180010 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2022-10-13 |
| 13 | 特開2021-046069 | 空気入りタイヤ | 2022-10-04 |
| 14 | 特開2020-045506 | アルミニウム形材、建具及びアルミニウム形材の製造方法 | 2022-09-27 |
| 15 | 特開2022-089117 | タイヤの摩耗発生装置 | 2022-09-19 |
| 16 | 特開2020-180011 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2022-08-31 |
| 17 | 特開2021-030419 | 歯車研削用複層砥石 | 2022-08-30 |
| 18 | 再公表2018/221621 | 口腔用組成物 | 2022-08-19 |
| 19 | 特開2020-180012 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2022-07-28 |
| 20 | 再公表2020/049955 | 薬液、基板の処理方法 | 2022-07-28 |
被情報提供数 上位特許
直近10年間(2013-03-01〜2023-02-28)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 226件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6611299号「光学ガラス、プリフォーム及び光学素子」(5回)、次に多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(5回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許6611299 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 5 回 |
| 2 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 5 回 |
| 3 | 特許6985786 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 5 回 |
| 4 | 特許7195040 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 4 回 |
| 5 | 再公表2015/111134 | 窒化物半導体発光素子 | 4 回 |
被閲覧請求 特許
直近の 被閲覧請求特許 一覧
直近3年間(2020-03-01〜2023-02-28)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 146件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2022-118024号「研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット」(閲覧請求日 2023-02-16)、次は 特開2020-147490号「シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法、半導体デバイスの製造方法及びシリカ粒子の評価方法」(閲覧請求日 2023-02-14)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2022-118024 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット | 2023-02-16 |
| 2 | 特開2020-147490 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法、半導体デバイスの製造方法及びシリカ粒子の評価方法 | 2023-02-14 |
| 3 | 特許7096959 | 自爪の発育促進方法 | 2023-02-03 |
| 4 | 特表2022-505253 | 研磨品と乾燥剤を含むパッケージ | 2023-02-02 |
| 5 | 特表2021-531990 | 摩耗検出センサを含む研磨物品 | 2023-01-20 |
| 6 | 特表2023-505838 | 生産性が高い静音研磨材ブラストノズルのための方法及び設計 | 2023-01-18 |
| 7 | 特表2020-535978 | 研磨用物品及び形成方法 | 2023-01-16 |
| 8 | 特表2021-508089 | 光学装置、光学アセンブリ及びその製造方法 | 2023-01-10 |
| 9 | 特表2021-508308 | 表面処理された酸化セリウム粉末及び研磨組成物 | 2022-12-19 |
| 10 | 特開2021-116209 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2022-12-13 |
| 11 | 再公表2019/151316 | 光学ガラスおよび光学部品 | 2022-11-25 |
| 12 | 特許7186770 | 研磨用物品およびその形成方法 | 2022-11-22 |
| 13 | 特表2022-533332 | 被覆研磨材粒子を用いる溶接方法、被覆研磨材粒子、層システム及び密閉システム | 2022-11-15 |
| 14 | 特開2022-163022 | 心外膜アクセスシステムおよび方法 | 2022-11-14 |
| 15 | 特開2020-063185 | 酸化マグネシウムおよびその製造方法ならびにその酸化マグネシウムからなるガス吸着材 | 2022-11-09 |
| 16 | 特開2020-180012 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2022-11-04 |
| 17 | 特開2021-046069 | 空気入りタイヤ | 2022-11-02 |
| 18 | 特開2020-180010 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2022-11-01 |
| 19 | 特開2020-196767 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 2022-10-25 |
| 20 | 特許7162400 | 研磨物品及びその形成方法 | 2022-10-12 |
被閲覧請求数 上位特許
直近10年間(2013-03-01〜2023-02-28)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 433件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(13回)、次に多い特許は 再公表2015/111134号「窒化物半導体発光素子」(7回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 13 回 |
| 2 | 再公表2015/111134 | 窒化物半導体発光素子 | 7 回 |
| 3 | 特開2017-036209 | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 | 6 回 |
| 4 | 特許6438564 | 侵食性防汚コーティング組成物 | 5 回 |
| 5 | 特開2020-196767 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 5 回 |
被引用 特許
被引用数 上位特許
直近10年間(2013-03-01〜2023-02-28)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,704件 ありました。平均被引用数は 2.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許5953341号「磁気テープ」(106回)、次に多い特許は 特許5799045号「磁気記録媒体およびその製造方法」(98回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許5953341 | 磁気テープ | 106 回 |
| 2 | 特許5799045 | 磁気記録媒体およびその製造方法 | 98 回 |
| 3 | 特許6318108 | 磁気テープ | 60 回 |
| 4 | 特許7171139 | 被加工物の加工方法 | 50 回 |
| 5 | 特許6182384 | 全体的または部分的関節形成において正確さ、速度及び単純さの増加を容易にする患者により選択可能な関節形成装置と手術ツール | 49 回 |
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