本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「研磨」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「研磨」の直近(2023-01-01〜2023-02-28)の特許出願件数は 122件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-02-28)の特許出願件数 163件 に比べて -41件(-25.2%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 サンジング 」、「 サンディング 」、「 ポリッシング 」、「 研ま 」、「 研摩 」、「 研摩処理 」、「 研摩加工 」、「 研磨処理 」、「 研磨加工 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の2,189件、最も少ない年は 2022年 の1,198件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計8,268件)の平均値は1,378件、中央値は1,494件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,378 件 |
標準偏差 | 470 |
変動係数 | 0.3 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1,198 件 | -12.11 % |
2021 年 | 1,363 件 | -16.17 % |
2020 年 | 1,626 件 | -8.08 % |
研磨の過去10年間(2014-01-01〜2024-10-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、研磨の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、研磨の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった研磨の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。
特許文書の読解にストレスを感じている皆様へ。 弁理士が開発した「サマリア」は、特許文書読解の時間短縮と理解の深化を実現するAIアシスタントサービスです。 「サマリア」は用語解説、サマリ作成、独自分類付与、スクリーニング、発明評価など知財担当者に寄り添う様々な機能を提供します。 また、英語・中国語にも対応しています。
特許読解アシスタント「サマリア」の詳細は、以下をご覧ください。
自社の煩雑な商標管理に課題意識がありませんか? 商標管理は、ビジネスの成功にとって不可欠ですが、Excelなどの従来の方法では、商標管理に時間と労力を消費するとともに、間違いなども起きやすく成長するビジネスの大きな課題です。
近年、クラウド型の知財管理サービスが注目を浴びています。 外国商標、国際商標などのほか、特許、意匠も一元管理することができます。 データ集約や分析機能も備えており、効果的な商標戦略の策定を可能にします。
革新的なクラウド型知財管理サービス「rootip」の詳細は、以下をご覧ください。
研磨 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「16,450件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
研磨と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の96件、次に多いのは キヤノン株式会社 の11件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 96 件 |
キヤノン株式会社 | 11 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 11 件 |
株式会社レゾナック | 11 件 |
HOYA株式会社 | 9 件 |
株式会社東芝 | 6 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 2 件 |
富士通株式会社 | 2 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の708件、次に多いのは 株式会社レゾナック の236件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 708 件 |
株式会社レゾナック | 236 件 |
HOYA株式会社 | 138 件 |
キヤノン株式会社 | 117 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 78 件 |
株式会社東芝 | 63 件 |
富士通株式会社 | 20 件 |
ソニーグループ株式会社 | 16 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 13 件 |
株式会社日立製作所 | 12 件 |
日本電気株式会社 | 4 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
研磨と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の96件、次に多いのは キヤノン株式会社 の11件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 96 件 |
キヤノン株式会社 | 11 件 |
株式会社東芝 | 6 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 2 件 |
富士通株式会社 | 2 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の708件、次に多いのは キヤノン株式会社 の117件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 708 件 |
キヤノン株式会社 | 117 件 |
株式会社東芝 | 63 件 |
富士通株式会社 | 20 件 |
ソニーグループ株式会社 | 16 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 13 件 |
株式会社日立製作所 | 12 件 |
研磨 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
研磨 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 63件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計21件)の平均値は3.5件、中央値は4.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の22件、最も少ない年は 2020年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 3.5 件 |
標準偏差 | 2.2 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1 件 | -75.0 % |
2021 年 | 4 件 | - |
2020 年 | 0 件 | -100 % |
パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 13件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計6件)の平均値は1.0件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の3件、最も少ない年は 2020年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1.0 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 1.2 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 2 件 | +100 % |
2021 年 | 1 件 | - |
2020 年 | 0 件 | -100 % |
ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 16件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計5件)の平均値は0.8件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.5であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の6件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.8 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 1.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2019 年 | 3 件 | +50.0 % |
2018 年 | 2 件 | +100 % |
2017 年 | 1 件 | -83.3 % |
株式会社荏原製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 708件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計377件)の平均値は62.8件、中央値は72.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2017年 の100件、最も少ない年は 2015年 の52件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 62.8 件 |
標準偏差 | 19.6 |
変動係数 | 0.3 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 74 件 | +25.42 % |
2021 年 | 59 件 | -16.90 % |
2020 年 | 71 件 | -6.58 % |
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 117件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計54件)の平均値は9.0件、中央値は10.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の20件、最も少ない年は 2019年 の4件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 9.0 件 |
標準偏差 | 5.0 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 10 件 | -37.5 % |
2021 年 | 16 件 | +33.3 % |
2020 年 | 12 件 | +200 % |
研磨 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、研磨が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 2.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6015941号「食用畜肉塊の除毛装置」(無効審判請求日 2022-05-31)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6015941 | 食用畜肉塊の除毛装置 | 2022-05-31 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 59件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7432040号「窒化ケイ素焼結体」(異議申立日 2024-07-23)、次は 特許7368998号「研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法」(異議申立日 2024-04-18)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7432040 | 窒化ケイ素焼結体 | 2024-07-23 |
2 | 特許7368998 | 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法 | 2024-04-18 |
3 | 特許7371665 | ヒートシール紙 | 2024-04-02 |
4 | 特許7355468 | 軟包装材用紙、および軟包装体 | 2024-04-02 |
5 | 特許7355469 | 軟包装材用紙、および軟包装体 | 2024-04-02 |
6 | 特許7348860 | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 | 2024-03-19 |
7 | 特許7319157 | 研磨用組成物 | 2024-01-25 |
8 | 特許7301055 | 薬液、基板の処理方法 | 2023-12-27 |
9 | 特許7304186 | 保持パッド及びその製造方法 | 2023-12-27 |
10 | 特許7301472 | ウェーハの加工方法 | 2023-12-22 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 92件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-130226号「積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法」(情報提供日 2024-09-24)、次は 特開2024-019543号「水硬性組成物、水硬性組成物混合材料および硬化体」(情報提供日 2024-09-03)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 2024-09-24 |
2 | 特開2024-019543 | 水硬性組成物、水硬性組成物混合材料および硬化体 | 2024-09-03 |
3 | 特開2021-132209 | 研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法 | 2024-08-23 |
4 | 特表2023-506487 | 低酸化物トレンチディッシングシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化研磨 | 2024-08-08 |
5 | 特開2023-004282 | シリカゾルの製造方法及び研磨方法 | 2024-07-11 |
6 | 特開2023-004281 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法及び研磨方法 | 2024-07-11 |
7 | 特開2022-104290 | 口腔用組成物 | 2024-06-28 |
8 | 特開2022-100948 | 角栓除去補助剤 | 2024-06-27 |
9 | 特許7515583 | 通気性プラグ、基板支持アセンブリおよびシャワープレート | 2024-06-18 |
10 | 特開2022-118024 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット | 2024-06-17 |
11 | 特表2023-533326 | 高品質の炭化ケイ素種結晶、炭化ケイ素結晶、炭化ケイ素基板およびそれらの製造方法 | 2024-06-12 |
12 | 特表2024-503457 | 電気化学素子用電極リード及びこれを備えた電気化学素子 | 2024-06-10 |
13 | 特表2023-502070 | 研磨材製品及びその形成方法 | 2024-05-28 |
14 | 特表2023-539508 | 酸化セリウム粒子、これを含む化学的機械的研磨用スラリー組成物および半導体素子の製造方法 | 2024-05-22 |
15 | 特開2022-121230 | 連続繊維強化樹脂複合材料及びその製造方法 | 2024-05-07 |
16 | 特開2022-109711 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-04-30 |
17 | 特開2023-160343 | 再生磁器製品の製造方法及びリサイクルモデル | 2024-04-24 |
18 | 特開2023-015153 | 研磨物品及びそれを形成させる方法 | 2024-04-15 |
19 | 特開2023-070126 | 炭化ケイ素ウエハ及びこの製造方法 | 2024-02-28 |
20 | 特許7552669 | シリカゾル、研磨組成物、シリコンウェーハの研磨方法、シリコンウェーハの製造方法、化学的機械的研磨組成物及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-02-20 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 215件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(5回)、次に多い特許は 特許6985786号「歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 5 回 |
2 | 特許6985786 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 5 回 |
3 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 4 回 |
4 | 特許7195040 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 4 回 |
5 | 特許7479254 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 4 回 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 137件 ありました。平均閲覧請求数は 1.5回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特許7572464号「結合研磨物品及びそれを作製する方法」(閲覧請求日 2024-10-03)、次は 特開2021-132209号「研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法」(閲覧請求日 2024-09-19)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7572464 | 結合研磨物品及びそれを作製する方法 | 2024-10-03 |
2 | 特開2021-132209 | 研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法 | 2024-09-19 |
3 | 特表2023-524616 | 結合耐久性が改善された金属製品及び関連方法 | 2024-09-11 |
4 | 特開2024-019543 | 水硬性組成物、水硬性組成物混合材料および硬化体 | 2024-09-09 |
5 | 特表2023-506487 | 低酸化物トレンチディッシングシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化研磨 | 2024-09-06 |
6 | 特許7082235 | 太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール | 2024-09-03 |
7 | 特許7441241 | 点灯式ステータスインジケータを備えるエアロゾル発生装置 | 2024-08-22 |
8 | 特開2023-004282 | シリカゾルの製造方法及び研磨方法 | 2024-08-07 |
9 | 特開2023-004281 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法及び研磨方法 | 2024-08-07 |
10 | 特開2022-104290 | 口腔用組成物 | 2024-08-06 |
11 | 特許7473752 | 点灯式ステータスインジケータを備えるエアロゾル発生装置 | 2024-07-18 |
12 | 特許7485861 | 点灯式ステータスインジケータを備えるエアロゾル発生装置 | 2024-07-18 |
13 | 特表2023-533326 | 高品質の炭化ケイ素種結晶、炭化ケイ素結晶、炭化ケイ素基板およびそれらの製造方法 | 2024-07-17 |
14 | 特開2022-109711 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-07-10 |
15 | 特表2024-503457 | 電気化学素子用電極リード及びこれを備えた電気化学素子 | 2024-07-09 |
16 | 特開2022-100948 | 角栓除去補助剤 | 2024-07-04 |
17 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 2024-06-27 |
18 | 特許7515583 | 通気性プラグ、基板支持アセンブリおよびシャワープレート | 2024-06-26 |
19 | 特表2023-539508 | 酸化セリウム粒子、これを含む化学的機械的研磨用スラリー組成物および半導体素子の製造方法 | 2024-06-25 |
20 | 特開2022-118024 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット | 2024-06-20 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 340件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(13回)、次に多い特許は 特許7479254号「歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法」(8回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 13 回 |
2 | 特許7479254 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 8 回 |
3 | 特開2017-036209 | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 | 6 回 |
4 | 特許6438564 | 侵食性防汚コーティング組成物 | 5 回 |
5 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 5 回 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,385件 ありました。平均被引用数は 2.6回 です。 被引用数が多い特許は 特許6318108号「磁気テープ」(64回)、次に多い特許は 特許6549528号「磁気テープおよび磁気テープ装置」(59回)です。
『パテント・インテグレーション レポート』は、知的財産権の専門家である弁理士が運営する「パテント・インテグレーション株式会社」が提供するウェブサービスです。 最新の特許データに基づき、様々な企業、技術分野の技術動向情報を提供する国内最大規模の特許レポートサービスです。
本ウェブサービスは、知的財産権への関心有無に関わらず、多くの方々に知財情報を身近に感じて頂き、活用いただくことを目的としています。
弊社では、新聞、雑誌、ウェブメディア等の様々なメディアの各種記事において活用できる各種特許情報の提供を積極的に行っております。 提供可能な特許情報の内容についてはお気軽に『お問い合わせフォーム』からお問い合わせください。
データ、文書、図表類に関する権利は全て「統合特許検索・分析サービス パテント・インテグレーション」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「パテント・インテグレーション レポート, URL: https://patent-i.com/」を明記の上、ご利用ください。
特許データは最新の特許庁発行の特許データに基づき集計・解析・分析を行っています。 掲載・分析結果については十分気をつけておりますが、データの正否については保証していません。 ご理解の上、ご利用をお願いいたします。
特許データは全て特許庁発行の公開データに基づいており、掲載内容は特許庁サイトで公開されている公開公報等と同等の内容です。 公報情報は、特許庁「公報に関して」に記載されている通り、権利者が独占排他的な権利を求める手続きを行うかわりに広く公示されるべきものです。 パテント・インテグレーション レポートにおける掲載基準は、特許庁サイト(JPlatPat)での閲覧可否に応じて判断しております。 特許庁サイトにて非公開とされている情報は、弊社も非公開とする場合がございます。 一方、特許庁サイトにて閲覧可能な情報は通常、掲載にあたり法的な問題(名誉毀損等)がなく表現の自由の範囲内と考えられることから削除依頼等には応じておりません。 記事を削除してしまうと、閲覧を希望されるユーザにとって不利益が生じてしまうためです。
データ、文書、図表類に関する権利は全て「株式会社イーパテント」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「株式会社イーパテント, URL: https://e-patent.co.jp/」を明記の上、ご利用ください。
「特許から見たSDGsグローバル企業ランキング」に掲載されているグローバル特許出願状況やランキング情報、母集団検索式を利用された上で生じるいかなる損害・損失についても当社・株式会社イーパテントでは対応いたしかねます。「関連する特許レポートはありません」となっているターゲットは現時点で未対応(特許情報分析からのアプローチでは難しいと判断)です。
特許出願状況やランキング情報を引用いただく点は問題ありませんが、その際は引用元として「出所:株式会社イーパテント」を明記いただくようにお願いいたします。
各種グラフはイメージデータとなっておりますが、テキストデータでの提供はいたしかねますので、ご了承ください。
なお、個人の氏名等の個人情報等の削除をご希望の場合は「削除申請フォーム」より必要事項を記載し、送信してください。 その他、本サービスについてお気づきの点がございましたら、「お問い合わせ」よりお気軽にお知らせください。
クレジット表記
・科学技術用語形態素解析辞書 © バイオサイエンスデータベースセンター licensed under CC表示-継承4.0 国際
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント