本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「研磨」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「研磨」の直近(2023-01-01〜2023-02-28)の特許出願件数は 123件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-02-28)の特許出願件数 163件 に比べて -40件(-24.5%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 サンジング 」、「 サンディング 」、「 ポリッシング 」、「 研ま 」、「 研摩 」、「 研摩処理 」、「 研摩加工 」、「 研磨処理 」、「 研磨加工 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の2,189件、最も少ない年は 2022年 の1,217件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計8,322件)の平均値は1,387件、中央値は1,500件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,387 件 |
標準偏差 | 462 |
変動係数 | 0.3 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1,217 件 | -11.04 % |
2021 年 | 1,368 件 | -16.23 % |
2020 年 | 1,633 件 | -7.69 % |
研磨の過去10年間(2014-01-01〜2024-10-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、研磨の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、研磨の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった研磨の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
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近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
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研磨 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「16,510件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
研磨と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の102件、次に多いのは キヤノン株式会社 の11件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 102 件 |
キヤノン株式会社 | 11 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 11 件 |
株式会社レゾナック | 11 件 |
HOYA株式会社 | 9 件 |
株式会社東芝 | 6 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 2 件 |
富士通株式会社 | 2 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の714件、次に多いのは 株式会社レゾナック の236件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 714 件 |
株式会社レゾナック | 236 件 |
HOYA株式会社 | 139 件 |
キヤノン株式会社 | 118 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 78 件 |
株式会社東芝 | 64 件 |
富士通株式会社 | 20 件 |
ソニーグループ株式会社 | 16 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 13 件 |
株式会社日立製作所 | 12 件 |
日本電気株式会社 | 4 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
研磨と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の102件、次に多いのは キヤノン株式会社 の11件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 102 件 |
キヤノン株式会社 | 11 件 |
株式会社東芝 | 6 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 2 件 |
富士通株式会社 | 2 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社荏原製作所 の714件、次に多いのは キヤノン株式会社 の118件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社荏原製作所 | 714 件 |
キヤノン株式会社 | 118 件 |
株式会社東芝 | 64 件 |
富士通株式会社 | 20 件 |
ソニーグループ株式会社 | 16 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 13 件 |
株式会社日立製作所 | 12 件 |
研磨 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
研磨 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 64件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計22件)の平均値は3.7件、中央値は5.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の22件、最も少ない年は 2020年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 3.7 件 |
標準偏差 | 2.3 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1 件 | -80.0 % |
2021 年 | 5 件 | - |
2020 年 | 0 件 | -100 % |
パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 13件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計6件)の平均値は1.0件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の3件、最も少ない年は 2020年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1.0 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 1.2 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 2 件 | +100 % |
2021 年 | 1 件 | - |
2020 年 | 0 件 | -100 % |
ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 16件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計5件)の平均値は0.8件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.5であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の6件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.8 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 1.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2019 年 | 3 件 | +50.0 % |
2018 年 | 2 件 | +100 % |
2017 年 | 1 件 | -83.3 % |
株式会社荏原製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 714件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計382件)の平均値は63.7件、中央値は72.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.28であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2017年 の100件、最も少ない年は 2015年 の52件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 63.7 件 |
標準偏差 | 17.8 |
変動係数 | 0.28 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 74 件 | +25.42 % |
2021 年 | 59 件 | -16.90 % |
2020 年 | 71 件 | -6.58 % |
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 118件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計55件)の平均値は9.2件、中央値は10.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の20件、最も少ない年は 2019年 の4件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 9.2 件 |
標準偏差 | 5.1 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 10 件 | -37.5 % |
2021 年 | 16 件 | +23.08 % |
2020 年 | 13 件 | +225 % |
研磨 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、研磨が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 2.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6015941号「食用畜肉塊の除毛装置」(無効審判請求日 2022-05-31)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6015941 | 食用畜肉塊の除毛装置 | 2022-05-31 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 60件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7438110号「可撓性ハードコート」(異議申立日 2024-08-26)、次は 特許7432040号「窒化ケイ素焼結体」(異議申立日 2024-07-23)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7438110 | 可撓性ハードコート | 2024-08-26 |
2 | 特許7432040 | 窒化ケイ素焼結体 | 2024-07-23 |
3 | 特許7368998 | 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法 | 2024-04-18 |
4 | 特許7371665 | ヒートシール紙 | 2024-04-02 |
5 | 特許7355468 | 軟包装材用紙、および軟包装体 | 2024-04-02 |
6 | 特許7355469 | 軟包装材用紙、および軟包装体 | 2024-04-02 |
7 | 特許7348860 | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 | 2024-03-19 |
8 | 特許7319157 | 研磨用組成物 | 2024-01-25 |
9 | 特許7301055 | 薬液、基板の処理方法 | 2023-12-27 |
10 | 特許7304186 | 保持パッド及びその製造方法 | 2023-12-27 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 96件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2023-014749号「シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法」(情報提供日 2024-10-24)、次は 特開2022-057581号「研磨用組成物、基板の研磨方法および基板の製造方法」(情報提供日 2024-10-21)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-014749 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-24 |
2 | 特開2022-057581 | 研磨用組成物、基板の研磨方法および基板の製造方法 | 2024-10-21 |
3 | 特開2021-116225 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-16 |
4 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 2024-10-11 |
5 | 特開2023-007711 | シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-09-27 |
6 | 特開2023-147178 | 研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法 | 2024-09-27 |
7 | 特開2021-127482 | グラスライニング製品及びその製造方法 | 2024-09-10 |
8 | 特開2024-019543 | 水硬性組成物、水硬性組成物混合材料および硬化体 | 2024-09-03 |
9 | 特開2021-132209 | 研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法 | 2024-08-23 |
10 | 特表2023-506487 | 低酸化物トレンチディッシングシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化研磨 | 2024-08-08 |
11 | 特開2023-004282 | シリカゾルの製造方法及び研磨方法 | 2024-07-11 |
12 | 特開2023-004281 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法及び研磨方法 | 2024-07-11 |
13 | 特開2022-104290 | 口腔用組成物 | 2024-06-28 |
14 | 特開2022-100948 | 角栓除去補助剤 | 2024-06-27 |
15 | 特許7515583 | 通気性プラグ、基板支持アセンブリおよびシャワープレート | 2024-06-18 |
16 | 特開2022-118024 | 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット | 2024-06-17 |
17 | 特表2023-533326 | 高品質の炭化ケイ素種結晶、炭化ケイ素結晶、炭化ケイ素基板およびそれらの製造方法 | 2024-06-12 |
18 | 特表2024-503457 | 電気化学素子用電極リード及びこれを備えた電気化学素子 | 2024-06-10 |
19 | 特表2023-502070 | 研磨材製品及びその形成方法 | 2024-05-28 |
20 | 特表2023-539508 | 酸化セリウム粒子、これを含む化学的機械的研磨用スラリー組成物および半導体素子の製造方法 | 2024-05-22 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 219件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特開2022-130226号「積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法」(5回)、次に多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 5 回 |
2 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 5 回 |
3 | 特許6985786 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 5 回 |
4 | 特許7195040 | 光学ガラス、プリフォーム及び光学素子 | 4 回 |
5 | 特許7479254 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 4 回 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 142件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特許7271993号「セリウム化合物除去用洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法」(閲覧請求日 2024-10-29)、次は 特開2023-014749号「シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法」(閲覧請求日 2024-10-29)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7271993 | セリウム化合物除去用洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法 | 2024-10-29 |
2 | 特開2023-014749 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-29 |
3 | 特許7211147 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-28 |
4 | 特許7331436 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-28 |
5 | 特許7331437 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-28 |
6 | 特許7552669 | シリカゾル、研磨組成物、シリコンウェーハの研磨方法、シリコンウェーハの製造方法、化学的機械的研磨組成物及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-28 |
7 | 特許7331435 | シリカ粒子、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-28 |
8 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 2024-10-24 |
9 | 特開2022-057581 | 研磨用組成物、基板の研磨方法および基板の製造方法 | 2024-10-24 |
10 | 特開2023-007711 | シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-24 |
11 | 特開2021-116225 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2024-10-24 |
12 | 特開2023-147178 | 研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法 | 2024-10-23 |
13 | 特開2021-127482 | グラスライニング製品及びその製造方法 | 2024-10-18 |
14 | 特許7572464 | 結合研磨物品及びそれを作製する方法 | 2024-10-03 |
15 | 特開2021-132209 | 研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法 | 2024-09-19 |
16 | 特表2023-524616 | 結合耐久性が改善された金属製品及び関連方法 | 2024-09-11 |
17 | 特開2024-019543 | 水硬性組成物、水硬性組成物混合材料および硬化体 | 2024-09-09 |
18 | 特表2023-506487 | 低酸化物トレンチディッシングシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化研磨 | 2024-09-06 |
19 | 特許7082235 | 太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール | 2024-09-03 |
20 | 特許7441241 | 点灯式ステータスインジケータを備えるエアロゾル発生装置 | 2024-08-22 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 345件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6654380号「建材の製造方法」(13回)、次に多い特許は 特開2022-130226号「積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法」(8回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6654380 | 建材の製造方法 | 13 回 |
2 | 特開2022-130226 | 積層ポリエステルフィルムの機能層除去方法 | 8 回 |
3 | 特許7479254 | 歯磨組成物及び歯磨組成物における容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着抑制方法 | 8 回 |
4 | 特開2017-036209 | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 | 6 回 |
5 | 特許6438564 | 侵食性防汚コーティング組成物 | 5 回 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,462件 ありました。平均被引用数は 2.6回 です。 被引用数が多い特許は 特許6318108号「磁気テープ」(64回)、次に多い特許は 特許6549528号「磁気テープおよび磁気テープ装置」(59回)です。
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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