バイアス (特許分析レポート・日本)
本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』（以下、「バイアス」と略します）に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「バイアス」の直近(2023-01-01〜2023-07-31)の特許出願件数は 405件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-07-31)の特許出願件数 613件 に比べて -208件(-33.9%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 バイヤス 」、「 偏い 」、「 偏倚 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2015年 の1,720件、最も少ない年は 2023年 の541件です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計5,618件)の平均値は936件、中央値は1,076件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 936 件 |
| 標準偏差 | 482 |
| 変動係数 | 0.5 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023 年 | 541 件 | -44.7 % |
| 2022 年 | 978 件 | -16.77 % |
| 2021 年 | 1,175 件 | -14.98 % |
バイアスの過去10年間(2015-01-01〜2025-03-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ（日米欧・国際公開）に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、バイアスの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、バイアスの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったバイアスの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
【監修者】
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。
はじめに
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン＆クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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バイアス 日本特許件数 推移
バイアス の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
検索集合 (分析対象)
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「12,062件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
バイアス
同業・競合企業 情報 (日本)
バイアスと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2023〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の40件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の15件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 40 件 |
| 三菱電機株式会社 | 15 件 |
| 株式会社リコー | 13 件 |
| セイコーエプソン株式会社 | 8 件 |
| シャープ株式会社 | 7 件 |
| 株式会社東芝 | 6 件 |
| 株式会社日立製作所 | 4 件 |
| 富士通株式会社 | 3 件 |
| 日本電気株式会社 | 1 件 |
| ソニーグループ株式会社 | 1 件 |
対象期間(2015〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2015〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の516件、次に多いのは 株式会社リコー の274件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 516 件 |
| 株式会社リコー | 274 件 |
| 三菱電機株式会社 | 248 件 |
| 株式会社東芝 | 169 件 |
| 富士通株式会社 | 118 件 |
| セイコーエプソン株式会社 | 91 件 |
| 日本電気株式会社 | 73 件 |
| シャープ株式会社 | 69 件 |
| 株式会社日立製作所 | 54 件 |
| ソニーグループ株式会社 | 54 件 |
| パナソニックホールディングス株式会社 | 5 件 |
同業・競合企業 日本特許件数 ランキング
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業・競合企業 日本特許件数 推移
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
上位企業 情報 (日本)
バイアスと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2023〜2025年)の特許出願傾向
上位共願人のうち、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の40件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の15件です。
対象期間(2015〜2025年)の特許出願傾向
上位共願人のうち、対象期間(2015〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の516件、次に多いのは 株式会社リコー の274件です。
上位企業 日本特許件数 ランキング
バイアス の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位企業 日本特許件数 推移
バイアス の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
上位企業 詳細 (日本)
キヤノン株式会社 の特許出願傾向
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 516件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計242件)の平均値は40.3件、中央値は41.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2021〜2024年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2017年 の77件、最も少ない年は 2023年 の34件です。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 40.3 件 |
| 標準偏差 | 20.0 |
| 変動係数 | 0.5 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023 年 | 34 件 | -22.73 % |
| 2022 年 | 44 件 | +12.82 % |
| 2021 年 | 39 件 | -13.33 % |
株式会社リコー の特許出願傾向
株式会社リコー の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 274件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計82件)の平均値は13.7件、中央値は15.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2021〜2024年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の93件、最も少ない年は 2022年 の9件です。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 13.7 件 |
| 標準偏差 | 7.2 |
| 変動係数 | 0.5 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023 年 | 12 件 | +33.3 % |
| 2022 年 | 9 件 | -55.0 % |
| 2021 年 | 20 件 | -9.09 % |
株式会社東芝 の特許出願傾向
株式会社東芝 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 169件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計69件)の平均値は11.5件、中央値は9.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2021〜2024年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の31件、最も少ない年は 2023年 の6件です。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 11.5 件 |
| 標準偏差 | 8.4 |
| 変動係数 | 0.7 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023 年 | 6 件 | -45.5 % |
| 2022 年 | 11 件 | +37.5 % |
| 2021 年 | 8 件 | -55.6 % |
日本電気株式会社 の特許出願傾向
日本電気株式会社 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 73件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計26件)の平均値は4.3件、中央値は5.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の17件、最も少ない年は 2023年 の1件です。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 4.3 件 |
| 標準偏差 | 3.1 |
| 変動係数 | 0.7 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023 年 | 1 件 | -75.0 % |
| 2022 年 | 4 件 | -33.3 % |
| 2021 年 | 6 件 | -33.3 % |
株式会社日立製作所 の特許出願傾向
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 54件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計29件)の平均値は4.8件、中央値は5.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2021年 の9件、最も少ない年は 2020年 の2件です。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 4.8 件 |
| 標準偏差 | 3.1 |
| 変動係数 | 0.6 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023 年 | 4 件 | -42.9 % |
| 2022 年 | 7 件 | -22.22 % |
| 2021 年 | 9 件 | +350 % |
重要特許情報 (日本)
バイアス の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、バイアスが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
一方、無効審判請求がなされた特許は他社の事業を阻害している可能性が特に高い重要な特許であるといえます。
また、情報提供又は異議申立がなされた特許出願は、無効審判請求ほど致命的ではないものの権利化が認められない第三者がいることから、「バイアス」の業界における注目特許であるといえます。
いずれにしてもこれらの重要特許の内容を確認することが、知財的なリスク管理の観点でも、ビジネス的に重要な技術を知る意味でも重要になります。
用語解説
- 被引用
- 他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
- 無効審判請求
- 特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
- 異議申立
- 第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
- 情報提供
- 出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
- 閲覧請求
- 第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。
被無効審判請求 特許
被無効審判請求数 上位特許
直近10年間(2015-04-01〜2025-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 2件 ありました。平均無効審判請求数は 1.5回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6244501号「撮像装置」(2回)、次に多い特許は 特許6642841号「こけら葺き状太陽電池モジュール」(1回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許6244501 | 撮像装置 | 2 回 |
| 2 | 特許6642841 | こけら葺き状太陽電池モジュール | 1 回 |
被異議申立 特許
直近の 被異議申立特許 一覧
直近3年間(2022-04-01〜2025-03-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 7件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7519525号「基板支持器及びプラズマ処理装置」(異議申立日 2025-01-17)、次は 特許7478059号「シリコンのドライエッチング方法」(異議申立日 2024-10-31)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許7519525 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 | 2025-01-17 |
| 2 | 特許7478059 | シリコンのドライエッチング方法 | 2024-10-31 |
| 3 | 特許7450427 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 | 2024-09-13 |
| 4 | 特許7308009 | 未臨界炉心反応度バイアスを予想する方法 | 2024-01-12 |
| 5 | 特許7320554 | エッチング方法 | 2023-10-02 |
| 6 | 特許6978051 | 電子写真現像剤用フェライトキャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び現像剤 | 2022-06-06 |
| 7 | 特許6949687 | 空気入りバイアスタイヤ | 2022-04-12 |
被情報提供 特許
直近の 被情報提供特許 一覧
直近3年間(2022-04-01〜2025-03-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 12件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2023-112675号「基板支持部及びプラズマ処理装置」(情報提供日 2025-02-27)、次は 特開2024-160333号「基板支持器及びプラズマ処理装置」(情報提供日 2025-02-20)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2023-112675 | 基板支持部及びプラズマ処理装置 | 2025-02-27 |
| 2 | 特開2024-160333 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 | 2025-02-20 |
| 3 | 特開2023-151122 | ロータ及びロータの製造方法 | 2024-10-17 |
| 4 | 特開2022-190403 | 磁歪発電素子 | 2024-09-24 |
| 5 | 特許7654950 | 空気入りタイヤ | 2024-07-10 |
| 6 | 特開2022-120810 | 基板支持体及び基板処理装置 | 2024-07-05 |
| 7 | 特許7616162 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 | 2024-02-07 |
| 8 | 特許7622000 | 摺動部材 | 2023-06-20 |
| 9 | 特表2023-509012 | 圧電材料の堆積のための方法及び装置 | 2023-04-04 |
| 10 | 特開2022-012596 | 化粧料塗布体 | 2023-03-30 |
| 11 | 特開2021-156712 | 微粒子測定システム、計測装置 | 2023-03-27 |
| 12 | 特許7467322 | 高ストレッチ織物 | 2023-03-09 |
被情報提供数 上位特許
直近10年間(2015-04-01〜2025-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 30件 ありました。平均情報提供数は 1.1回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6818161号「タイヤ構築ドラム上のタイヤ層を押圧するための圧力ロールおよび方法」(2回)、次に多い特許は 特開2024-160333号「基板支持器及びプラズマ処理装置」(2回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許6818161 | タイヤ構築ドラム上のタイヤ層を押圧するための圧力ロールおよび方法 | 2 回 |
| 2 | 特開2024-160333 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 | 2 回 |
| 3 | 特許6736018 | 低摩擦被膜製造方法 | 2 回 |
| 4 | 特許6761706 | 流動炉及びその冷却方法 | 2 回 |
| 5 | 特許6949687 | 空気入りバイアスタイヤ | 1 回 |
被閲覧請求 特許
直近の 被閲覧請求特許 一覧
直近3年間(2022-04-01〜2025-03-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 43件 ありました。平均閲覧請求数は 1.0回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-112675号「基板支持部及びプラズマ処理装置」(閲覧請求日 2025-03-06)、次は 特開2024-160333号「基板支持器及びプラズマ処理装置」(閲覧請求日 2025-02-28)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2023-112675 | 基板支持部及びプラズマ処理装置 | 2025-03-06 |
| 2 | 特開2024-160333 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 | 2025-02-28 |
| 3 | 特許7040771 | ニューラルネットワーク処理装置、通信装置、ニューラルネットワーク処理方法、およびプログラム | 2025-02-20 |
| 4 | 特表2023-542738 | 整合したバリスタを含むバリスタ・アレイ | 2025-01-15 |
| 5 | 特許7599259 | スイッチングされた動作フェーズを用いたフォトサイト回路 | 2024-11-14 |
| 6 | 特開2022-190403 | 磁歪発電素子 | 2024-10-24 |
| 7 | 特表2022-528961 | 胚を選択する方法及びシステム | 2024-10-23 |
| 8 | 特開2023-151122 | ロータ及びロータの製造方法 | 2024-10-23 |
| 9 | 特許7654950 | 空気入りタイヤ | 2024-08-19 |
| 10 | 特開2022-120810 | 基板支持体及び基板処理装置 | 2024-07-11 |
| 11 | 特許7562641 | ドライバーモジュール | 2024-07-02 |
| 12 | 特許4031719 | 干渉低周波治療器 | 2024-05-02 |
| 13 | 特表2024-502934 | 人工心臓弁装置、システム及び方法 | 2024-03-25 |
| 14 | 特許6512250 | 表示ドライバー、電気光学装置及び電子機器 | 2024-02-06 |
| 15 | 特許7194226 | 分析評価装置、方法、および試薬 | 2023-12-20 |
| 16 | 特許7657163 | ガンマイベントの時間領域フィルタリング | 2023-11-28 |
| 17 | 特許7531530 | デジタルシリコン光電子増倍管の充電回路 | 2023-11-28 |
| 18 | 特許7546541 | 電圧同調可能積層コンデンサ | 2023-10-03 |
| 19 | 特許7480219 | 可撓性配線基板ユニット、及び調光ユニット | 2023-09-26 |
| 20 | 特表2020-533794 | 高電圧同調可能積層コンデンサ | 2023-08-22 |
被閲覧請求数 上位特許
直近10年間(2015-04-01〜2025-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 146件 ありました。平均閲覧請求数は 1.1回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6621088号「被分析物を測定するための非酵素的電気化学センサ」(3回)、次に多い特許は 特開2016-028771号「プレフィルドシリンジタンパク質溶液製剤」(3回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許6621088 | 被分析物を測定するための非酵素的電気化学センサ | 3 回 |
| 2 | 特開2016-028771 | プレフィルドシリンジタンパク質溶液製剤 | 3 回 |
| 3 | 特許6818161 | タイヤ構築ドラム上のタイヤ層を押圧するための圧力ロールおよび方法 | 2 回 |
| 4 | 特許6611007 | レベルシフト回路 | 2 回 |
| 5 | 特許6736018 | 低摩擦被膜製造方法 | 2 回 |
被引用 特許
被引用数 上位特許
直近10年間(2015-04-01〜2025-03-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 2,721件 ありました。平均被引用数は 2.6回 です。 被引用数が多い特許は 特許7155313号「複数のロック位置を有する回転可能なシャフトを備えた手術器具」(51回)、次に多い特許は 特許6554703号「システム」(45回)です。
メディア(新聞、雑誌等)への特許情報提供
『パテント・インテグレーション レポート』は、知的財産権の専門家である弁理士が運営する「パテント・インテグレーション株式会社」が提供するウェブサービスです。 最新の特許データに基づき、様々な企業、技術分野の技術動向情報を提供する国内最大規模の特許レポートサービスです。
本ウェブサービスは、知的財産権への関心有無に関わらず、多くの方々に知財情報を身近に感じて頂き、活用いただくことを目的としています。
弊社では、新聞、雑誌、ウェブメディア等の様々なメディアの各種記事において活用できる各種特許情報の提供を積極的に行っております。 提供可能な特許情報の内容についてはお気軽に『お問い合わせフォーム』からお問い合わせください。
主要メディアにおける掲載実績
- 2023-08-07 新聞記事
- 日経新聞の全国紙朝刊の記事「東芝、混乱の末の非公開化 15年で売上高6割減」にて、東芝の出願件数減少に関する記事において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-12-26 新聞記事
- 毎日新聞の全国紙朝刊の記事「日産・ルノー、出資比率下げ交渉越年へ 知財がネックとなるワケは…」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-11-09 新聞記事
- 読売新聞の全国紙朝刊の記事「ルノー・日産 協議難航…ＥＶ新会社 知財の扱い・資本見直し」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
コンテンツについて
データ、文書、図表類に関する権利は全て「統合特許検索・分析サービス パテント・インテグレーション」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「パテント・インテグレーション レポート, URL: https://patent-i.com/」を明記の上、ご利用ください。
特許データは最新の特許庁発行の特許データに基づき集計・解析・分析を行っています。 掲載・分析結果については十分気をつけておりますが、データの正否については保証していません。 ご理解の上、ご利用をお願いいたします。
特許データは全て特許庁発行の公開データに基づいており、掲載内容は特許庁サイトで公開されている公開公報等と同等の内容です。 公報情報は、特許庁「公報に関して」に記載されている通り、権利者が独占排他的な権利を求める手続きを行うかわりに広く公示されるべきものです。 パテント・インテグレーション レポートにおける掲載基準は、特許庁サイト(JPlatPat)での閲覧可否に応じて判断しております。 特許庁サイトにて非公開とされている情報は、弊社も非公開とする場合がございます。 一方、特許庁サイトにて閲覧可能な情報は通常、掲載にあたり法的な問題（名誉毀損等）がなく表現の自由の範囲内と考えられることから削除依頼等には応じておりません。 記事を削除してしまうと、閲覧を希望されるユーザにとって不利益が生じてしまうためです。
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ご利用に当たっての注意点は以下のとおりです。
「特許から見たSDGsグローバル企業ランキング」に掲載されているグローバル特許出願状況やランキング情報、母集団検索式を利用された上で生じるいかなる損害・損失についても当社・株式会社イーパテントでは対応いたしかねます。「関連する特許レポートはありません」となっているターゲットは現時点で未対応（特許情報分析からのアプローチでは難しいと判断）です。
特許出願状況やランキング情報の引用
特許出願状況やランキング情報を引用いただく点は問題ありませんが、その際は引用元として「出所：株式会社イーパテント」を明記いただくようにお願いいたします。
各種グラフはイメージデータとなっておりますが、テキストデータでの提供はいたしかねますので、ご了承ください。
各ゴール・ターゲットの対象範囲について
- SDGsの各ゴールやターゲットの説明文を基に、当社・イーパテントの過去の経験等に基づき対象となるテクノロジーの範囲を設定しております（場合によっては社会課題そのもので検索してる場合もあります）。そのため、本「特許から見たSDGsグローバル企業ランキング」で100%カバーできていない可能性もありますので、ご注意ください。
- 各ゴール・ターゲットには母集団検索式を明示しております（データベース：パテント・インテグレーション）。こちらの母集団検索式をそのままご利用いただいても、また母集団検索式をご自身で改良いただく点も問題ありませんが、上述の通り本母集団検索式を利用されて生じるいかなる損害・損失についても対応いたしかねますのでご了承ください。
- 対象としているのは特許と実用新案で、公開・登録のいずれも含んでおります（意匠・デザイン特許は除外）。カウント単位はパテントファミリー数ではなく出願件数となります。
出願人・権利者名義の名寄せ・名義統制について
- 企業ランキングについては「パテント・インテグレーション」により算出した結果を基に、日本組織は日本語、その他企業は英語（一部日本語にしているものもあります）にしております。
- 企業名は出願当時の社名の場合もありますが、「パテント・インテグレーション」で算出した結果をそのまま利用しております。
- 企業名（＝特許情報では出願人・権利者名）の名前には揺らぎがある関係上、トップ10内に同一企業が2回以上登場するケースもあります。2つ以上に分割されている場合、これらの出願件数を単純に合算すればその企業の出願件数になるわけではありませんのでご留意ください。
なお、個人の氏名等の個人情報等の削除をご希望の場合は「削除申請フォーム」より必要事項を記載し、送信してください。 その他、本サービスについてお気づきの点がございましたら、「お問い合わせ」よりお気軽にお知らせください。
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安心・安全への取り組み
パテント・インテグレーション(株)は、日米欧、国際公開、台湾の各国特許庁より収集された、4,500万件以上の最新の特許データに基づき、品質の高い特許情報の提供に取り組んでいます。 パテント・インテグレーション(株)は、誰もが安心して特許情報・特許動向を調べられるように、日米欧、国際公開、台湾の各国特許庁より特許データを収集し、レポート形式で広く提供しています。 パテント・インテグレーション(株)は、情報の信頼性を高め、ユーザのみなさまに安心して特許情報をお調べいただけるよう、様々な取組みを行なっています。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント