技術分野「バイアス」の直近(2020-01-01〜2020-09-30)の特許出願件数は 615件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-09-30)の特許出願件数 964件 に比べて -349件(-36.2%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 バイヤス 」、「 偏い 」、「 偏倚 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2012年 の2,141件、最も少ない年は 2020年 の726件です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計6,453件)の平均値は1,291件、中央値は1,382件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.24であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,291 件 |
標準偏差 | 309 |
変動係数 | 0.24 |
直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 726 件 | -41.7 % |
2019 年 | 1,245 件 | -9.91 % |
2018 年 | 1,382 件 | -5.79 % |
バイアスの過去10年間(2012-01-01〜2022-05-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、バイアスの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、バイアスの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったバイアスの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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バイアス の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「14,303件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
バイアスと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
上位共願人のうち、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の40件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の20件です。
上位共願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の613件、次に多いのは 株式会社リコー の548件です。
バイアス の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 613件 です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計309件)の平均値は61.8件、中央値は68.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.23であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
出願件数が最も多い年は 2013年 の86件、最も少ない年は 2020年 の37件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 61.8 件 |
標準偏差 | 14.2 |
変動係数 | 0.23 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 37 件 | -45.6 % |
2019 年 | 68 件 | +21.43 % |
2018 年 | 56 件 | -27.27 % |
株式会社リコー の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 548件 です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計131件)の平均値は26.2件、中央値は17.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
出願件数が最も多い年は 2013年 の125件、最も少ない年は 2019年 の15件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 26.2 件 |
標準偏差 | 14.0 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 17 件 | +13.33 % |
2019 年 | 15 件 | -11.76 % |
2018 年 | 17 件 | -43.3 % |
株式会社東芝 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 279件 です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計106件)の平均値は21.2件、中央値は22.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.20であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
出願件数が最も多い年は 2013年 の60件、最も少ない年は 2020年 の13件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 21.2 件 |
標準偏差 | 4.3 |
変動係数 | 0.20 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 13 件 | -48.0 % |
2019 年 | 25 件 | +4.17 % |
2018 年 | 24 件 | +9.09 % |
日本電気株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 95件 です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計44件)の平均値は8.8件、中央値は11.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2013年 の20件、最も少ない年は 2020年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 8.8 件 |
標準偏差 | 5.9 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 0 件 | -100 % |
2019 年 | 4 件 | -69.2 % |
2018 年 | 13 件 | +18.18 % |
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 59件 です。
過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計26件)の平均値は5.2件、中央値は6.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
出願件数が最も多い年は 2013年 の11件、最も少ない年は 2020年 の2件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 5.2 件 |
標準偏差 | 1.9 |
変動係数 | 0.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 2 件 | -71.4 % |
2019 年 | 7 件 | +75.0 % |
2018 年 | 4 件 | -33.3 % |
バイアス の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、バイアスが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 2件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6642841号「こけら葺き状太陽電池モジュール」(無効審判請求日 2021-03-10)、次は 特許6244501号「撮像装置」(無効審判請求日 2020-02-11)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6642841 | こけら葺き状太陽電池モジュール | 2021-03-10 |
2 | 特許6244501 | 撮像装置 | 2020-02-11 |
直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 3件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許5216168号「綴具」(1回)、次に多い特許は 特許6642841号「こけら葺き状太陽電池モジュール」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5216168 | 綴具 | 1 回 |
2 | 特許6642841 | こけら葺き状太陽電池モジュール | 1 回 |
3 | 特許6244501 | 撮像装置 | 1 回 |
直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 4件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6949687号「空気入りバイアスタイヤ」(異議申立日 2022-04-12)、次は 特許6798321号「ゴルフクラブ用シャフト」(異議申立日 2021-06-08)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6949687 | 空気入りバイアスタイヤ | 2022-04-12 |
2 | 特許6798321 | ゴルフクラブ用シャフト | 2021-06-08 |
3 | 特許6713241 | 壁紙 | 2020-12-22 |
4 | 特許6460079 | MI磁気センサ | 2019-07-23 |
直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 13件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2021-103921号「発電用磁歪素子および磁歪発電デバイス」(情報提供日 2021-12-24)、次は 特許6244501号「撮像装置」(情報提供日 2021-11-29)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2021-103921 | 発電用磁歪素子および磁歪発電デバイス | 2021-12-24 |
2 | 特許6244501 | 撮像装置 | 2021-11-29 |
3 | 特許6978051 | 電子写真現像剤用フェライトキャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び現像剤 | 2021-10-28 |
4 | 特許6949687 | 空気入りバイアスタイヤ | 2021-09-16 |
5 | 特許6818161 | タイヤ構築ドラム上のタイヤ層を押圧するための圧力ロールおよび方法 | 2020-12-16 |
6 | 特許6736018 | 低摩擦被膜製造方法 | 2020-04-17 |
7 | 特許6820754 | 布帛および繊維製品 | 2020-04-08 |
8 | 特許6832315 | はんだレス電気コネクタを有する窓組立体 | 2020-03-23 |
9 | 特許6789503 | 硬質皮膜の成膜方法 | 2019-12-02 |
10 | 特許6686126 | 熱式流量計 | 2019-08-30 |
11 | 特許6761706 | 流動炉及びその冷却方法 | 2019-08-23 |
12 | 特開2018-004434 | 測位処理システム、方法、コンピュータプログラム、サーバ装置及びユーザ端末 | 2019-07-16 |
13 | 特許6920994 | 改良された透過率を有する近赤外線光学干渉フィルタ | 2019-06-19 |
直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 38件 ありました。平均情報提供数は 1.9回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6116061号「電流センサ」(8回)、次に多い特許は 特許6163100号「電力設備」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6116061 | 電流センサ | 8 回 |
2 | 特許6163100 | 電力設備 | 6 回 |
3 | 特許5871867 | プレフィルドシリンジタンパク質溶液製剤 | 4 回 |
4 | 特許5797676 | 液晶表示装置 | 2 回 |
5 | 特許5608715 | 半導体装置の作製方法 | 2 回 |
直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 69件 ありました。平均閲覧請求数は 1.2回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2018-189932号「画像形成装置」(閲覧請求日 2022-05-12)、次は 特表2020-524271号「ナノポアシーケンサー」(閲覧請求日 2022-04-28)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2018-189932 | 画像形成装置 | 2022-05-12 |
2 | 特表2020-524271 | ナノポアシーケンサー | 2022-04-28 |
3 | 特表2020-508788 | 広帯域位相勾配信号取得のための方法および装置 | 2022-03-01 |
4 | 特許4550726 | 電圧制御発振器 | 2022-02-25 |
5 | 特開2020-204146 | 物品に調整可能な物理的透過性を与える動的材料 | 2022-02-22 |
6 | 特表2021-529014 | グリップリンクを有するユーザインターフェース装置 | 2022-02-21 |
7 | 特許6955288 | 電子たばこ個人用気化器 | 2022-02-21 |
8 | 特表2019-502259 | 電圧同調可能積層コンデンサ | 2022-02-15 |
9 | 特許6244501 | 撮像装置 | 2022-01-20 |
10 | 特開2021-103921 | 発電用磁歪素子および磁歪発電デバイス | 2022-01-04 |
11 | 特許7046007 | 分子標識カウントの調節方法 | 2021-12-06 |
12 | 特許6978051 | 電子写真現像剤用フェライトキャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び現像剤 | 2021-11-30 |
13 | 特許6949687 | 空気入りバイアスタイヤ | 2021-11-04 |
14 | 特表2020-533050 | 心室フォーカルアブレーションのためのシステム、装置、及び方法 | 2021-09-03 |
15 | 特開2018-195954 | 電力増幅回路 | 2021-08-20 |
16 | 再公表2019/073965 | エフェクターT細胞(Teff)抗原受容体を用いた抗原特異的制御性T細胞(Treg)の作出技術 | 2021-06-30 |
17 | 特許6920693 | 心臓疾患の診断に使用される出力データセットを生成するための装置 | 2021-06-21 |
18 | 特許6475777 | フィールドサブビットラインNORフラッシュアレイ | 2021-05-20 |
19 | 特許5460748 | フラッシュEEPROM(FLASHEEPROMMEMORY)の消去方法 | 2021-05-20 |
20 | 特許5341858 | フラッシュEPROMの閾値電圧降下方法及びその構造 | 2021-05-20 |
直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 223件 ありました。平均閲覧請求数は 1.8回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6116061号「電流センサ」(8回)、次に多い特許は 特開2015-079495号「ソリッドステート記憶媒体に関する設定パラメーターを判定するための装置、システム、及び方法」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6116061 | 電流センサ | 8 回 |
2 | 特開2015-079495 | ソリッドステート記憶媒体に関する設定パラメーターを判定するための装置、システム、及び方法 | 6 回 |
3 | 特許5788994 | 車体構造 | 6 回 |
4 | 特許5871867 | プレフィルドシリンジタンパク質溶液製剤 | 6 回 |
5 | 特許6163100 | 電力設備 | 6 回 |
直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,336件 ありました。平均被引用数は 2.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許5837012号「モニタリング方法、プラズマモニタリング方法、モニタリングシステム及びプラズマモニタリングシステム」(132回)、次に多い特許は 特許6320282号「エッチング方法」(98回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5837012 | モニタリング方法、プラズマモニタリング方法、モニタリングシステム及びプラズマモニタリングシステム | 132 回 |
2 | 特許6320282 | エッチング方法 | 98 回 |
3 | 特許5802323 | エッチング処理方法 | 98 回 |
4 | 特開2015-072999 | 炭化珪素半導体装置 | 55 回 |
5 | 特許6225411 | 光学的測距装置 | 42 回 |
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