最終更新日:2021/10/04

エレクトロルミネッセンス光源技術 (特許分析レポート・日本)

テーマコード「エレクトロルミネッセンス光源技術」の直近(2020-01-01〜2020-01-31)の特許出願件数は 64件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-01-31)の特許出願件数 151件 に比べて -87件(-57.6%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2012年 の3,370件、最も少ない年は 2019年 の1,623件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計12,402件)の平均値は2,480件、中央値は2,718件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.18であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 2,480
標準偏差 452
変動係数 0.18

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 1,623 -33.2 %
2018 年 2,428 -10.67 %
2017 年 2,718 -3.00 %

エレクトロルミネッセンス光源技術[3K107]の過去10年間(2011-01-01〜2021-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、エレクトロルミネッセンス光源技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、エレクトロルミネッセンス光源技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったエレクトロルミネッセンス光源技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。 現在は、IT x スタートアップ特化の特許事務所「IPTech特許業務法人」所属の弁理士。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedIn、またはIPTech特許業務法人からお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「エレクトロルミネッセンス光源技術」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「エレクトロルミネッセンス光源技術」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

エレクトロルミネッセンス光源技術 日本特許件数 推移

エレクトロルミネッセンス光源技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、エレクトロルミネッセンス光源技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析できます。 

特徴語 (重要度)

エレクトロルミネッセンス光源技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「25,802件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
テーマコード:
エレクトロルミネッセンス光源技術[3K107]
特許分析期間
2011-01-01〜2021-09-30
対象件数
25,802

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

技術テーマ「エレクトロルミネッセンス光源技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の294件、次に多いのは 株式会社ジャパンディスプレイ の80件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の4,686件、次に多いのは コニカミノルタ株式会社 の1,365件です。

上位企業 日本特許件数 推移

エレクトロルミネッセンス光源技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

株式会社半導体エネルギー研究所 の特許出願傾向

株式会社半導体エネルギー研究所 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 4,686件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計2,567件)の平均値は513件、中央値は568件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2016年 の692件、最も少ない年は 2019年 の267件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 513
標準偏差 164
変動係数 0.3
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 267 -30.1 %
2018 年 382 -32.7 %
2017 年 568 -17.92 %

セイコーエプソン株式会社 の特許出願傾向

セイコーエプソン株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 645件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計265件)の平均値は53.0件、中央値は43.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2011年 の120件、最も少ない年は 2019年 の42件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 53.0
標準偏差 19.5
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 42 -6.67 %
2018 年 45 +4.65 %
2017 年 43 0

コニカミノルタ株式会社 の特許出願傾向

コニカミノルタ株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 1,365件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計447件)の平均値は89.4件、中央値は41.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

出願件数が最も多い年は 2014年 の239件、最も少ない年は 2018年 の34件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 89.4
標準偏差 71.5
変動係数 0.8
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 34 0
2018 年 34 -17.07 %
2017 年 41 -66.4 %

ソニーグループ株式会社 の特許出願傾向

ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 335件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計53件)の平均値は10.6件、中央値は6.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2011年 の92件、最も少ない年は 2019年 の4件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 10.6
標準偏差 7.1
変動係数 0.7
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 4 -33.3 %
2018 年 6 -57.1 %
2017 年 14 +133 %

キヤノン株式会社 の特許出願傾向

キヤノン株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 469件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計127件)の平均値は25.4件、中央値は23.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2011年 の151件、最も少ない年は 2016年 の11件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 25.4
標準偏差 11.0
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 37 -5.13 %
2018 年 39 +129 %
2017 年 17 +54.5 %

重要特許情報   (日本)

エレクトロルミネッセンス光源技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、エレクトロルミネッセンス光源技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許5935199号「多環芳香族化合物」(無効審判請求日 2021-05-07)です。

直近の無効審判請求 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許5935199 多環芳香族化合物 2021-05-07

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許5935199号「多環芳香族化合物」(1回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5935199 多環芳香族化合物 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 36件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6825195号「有機電界発光素子」(異議申立日 2021-08-02)、次は 特許6819289号「高分子化合物およびそれを用いた発光素子」(異議申立日 2021-07-27)です。

直近の異議申立 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6825195 有機電界発光素子 2021-08-02
2 特許6819289 高分子化合物およびそれを用いた発光素子 2021-07-27
3 特許6811846 偏光素子、円偏光板および画像表示装置 2021-07-05
4 特許6792829 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 2021-06-02
5 特許6787503 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法 2021-05-18
6 特許6778353 偏光子および画像表示装置 2021-04-27
7 特許6758482 密封材組成物 2021-03-19
8 特許6739804 有機エレクトロルミネッセンス素子 2021-02-10
9 特許6716190 長尺位相差フィルムの製造方法 2020-12-16
10 特許6689434 感光性樹脂組成物、有機EL素子隔壁、及び有機EL素子 2020-10-14

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 113件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2021-120341号「無アルカリガラス要素による屈曲可能なガラス物品」(情報提供日 2021-09-10)、次は 特開2019-012698号「有機EL表示素子用封止剤」(情報提供日 2021-09-08)です。

直近の情報提供 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2021-120341 無アルカリガラス要素による屈曲可能なガラス物品 2021-09-10
2 特開2019-012698 有機EL表示素子用封止剤 2021-09-08
3 再公表2018/131553 有機EL表示素子用封止剤 2021-08-13
4 特開2019-163468 紫外線硬化性樹脂組成物、有機EL発光装置の製造方法及び有機EL発光装置 2021-07-06
5 特開2019-007001 粘着剤シート及び粘着剤層付フィルム 2021-07-05
6 特開2018-028573 フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 2021-06-18
7 特開2019-108498 繰り返し屈曲デバイス用粘着剤、粘着シート、繰り返し屈曲積層部材および繰り返し屈曲デバイス 2021-06-08
8 特開2018-159913 光学フィルムおよび画像表示装置 2021-06-07
9 特開2020-127020 有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置 2021-06-03
10 特開2021-073377 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 2021-06-02
11 特開2018-205605 着色感光性樹脂組成物、硬化物、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明 2021-06-02
12 特開2017-124623 積層フィルム 2021-05-31
13 特開2020-098917 多成分ホスト材料及びそれを含む有機電界発光デバイス 2021-05-21
14 特開2019-029355 有機EL表示素子用封止剤 2021-05-18
15 再公表2019/035412 有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器 2021-05-11
16 特開2019-099626 熱可塑性樹脂フィルムおよび積層体 2021-05-06
17 特開2018-159749 有機EL表示装置用赤色着色組成物、有機EL表示装置用カラーフィルタ及び有機EL表示装置 2021-04-30
18 特開2020-191287 電界発光素子 2021-04-22
19 特開2018-136483 光学フィルム及びその製造方法 2021-04-20
20 特開2017-183727 有機電界発光素子 2021-04-15

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 246件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 情報提供数が多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(12回)、次に多い特許は 特許6317544号「有機エレクトロルミネッセンス素子および電子機器」(8回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5880584 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 12
2 特許6317544 有機エレクトロルミネッセンス素子および電子機器 8
3 特開2014-071320 カラーフィルターの製造方法及び透明保護膜形成用樹脂組成物 6
4 特許6185481 エレクトロルミネッセンスデバイス、およびその製造 6
5 特許6424002 有機エレクトロルミネッセンス素子および有機エレクトロルミネッセンス素子用材料 4

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-10-01〜2021-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 219件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 再公表2018/131553号「有機EL表示素子用封止剤」(閲覧請求日 2021-09-21)、次は 特開2021-120341号「無アルカリガラス要素による屈曲可能なガラス物品」(閲覧請求日 2021-09-15)です。

直近の閲覧請求 (2018-10-01〜2021-09-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 再公表2018/131553 有機EL表示素子用封止剤 2021-09-21
2 特開2021-120341 無アルカリガラス要素による屈曲可能なガラス物品 2021-09-15
3 特開2019-012698 有機EL表示素子用封止剤 2021-09-14
4 特開2019-108498 繰り返し屈曲デバイス用粘着剤、粘着シート、繰り返し屈曲積層部材および繰り返し屈曲デバイス 2021-09-10
5 特開2019-029355 有機EL表示素子用封止剤 2021-09-06
6 特開2016-111065 有機電界発光素子 2021-08-26
7 特許6932420 フレキシブル画像表示装置用粘着剤組成物、フレキシブル画像表示装置用粘着剤層、フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 2021-08-23
8 特開2019-007001 粘着剤シート及び粘着剤層付フィルム 2021-08-18
9 特開2019-163468 紫外線硬化性樹脂組成物、有機EL発光装置の製造方法及び有機EL発光装置 2021-08-17
10 特許4379278 トランジスタアレイ基板及びディスプレイパネル 2021-08-03
11 再公表2018/186494 感光性樹脂組成物 2021-07-29
12 特開2021-073377 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 2021-07-14
13 特許5578345 蒸着装置における蒸発源及び蒸着装置 2021-07-13
14 特開2018-205605 着色感光性樹脂組成物、硬化物、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明 2021-07-13
15 特開2020-101807 電子デバイス内のガラス構造の内部コーティング 2021-07-09
16 特開2020-127020 有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置 2021-06-29
17 再公表2019/035412 有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器 2021-06-29
18 特開2017-183727 有機電界発光素子 2021-06-28
19 特開2018-028573 フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 2021-06-23
20 特開2018-159913 光学フィルムおよび画像表示装置 2021-06-17

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被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 676件 ありました。平均閲覧請求数は 1.9回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(16回)、次に多い特許は 特許6162384号「インク組成物及びそれを用いて透明導電体を作製する方法」(10回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5880584 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 16
2 特許6162384 インク組成物及びそれを用いて透明導電体を作製する方法 10
3 特許6317544 有機エレクトロルミネッセンス素子および電子機器 10
4 特許6338155 偏光板、画像表示装置、および画像表示装置における明所コントラストの改善方法 8
5 特許6696669 光学積層体及び表示装置 7

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-10-01〜2021-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 6,690件 ありました。平均被引用数は 3.4回 です。 被引用数が多い特許は 特開2012-134475号「酸化物半導体膜および半導体装置」(293回)、次に多い特許は 特許6227282号「半導体装置」(127回)です。

10年間(2011-10-01〜2021-09-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特開2012-134475 酸化物半導体膜および半導体装置 293
2 特許6227282 半導体装置 127
3 特開2013-015835 可撓性表示パネル及び該可撓性表示パネルを備える表示装置 97
4 特開2014-197522 発光装置及び電子機器 69
5 特許6050006 発光装置 61

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