最終更新日:2024/04/01

エレクトロルミネッセンス光源技術 (特許分析レポート・日本)

テーマコード「エレクトロルミネッセンス光源技術」の直近(2022-01-01〜2022-07-31)の特許出願件数は 609件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-07-31)の特許出願件数 664件 に比べて -55件(-8.3%) と弱含みに推移しています。

出願件数が最も多い年は 2014年 の3,467件、最も少ない年は 2022年 の891件です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計8,348件)の平均値は1,391件、中央値は1,273件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 1,391
標準偏差 805
変動係数 0.6

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 891 -24.81 %
2021 年 1,185 -12.93 %
2020 年 1,361 -33.1 %

エレクトロルミネッセンス光源技術[3K107]の過去10年間(2014-01-01〜2024-03-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

直近5年間の平均出願件数、直近3年間の出願件数推移を確認することで、「エレクトロルミネッセンス光源技術」の研究開発や知財活動の規模及び動向を簡易的に把握することができます。特許出願には費用がかかることを逆手に取り年間の平均出願件数から研究開発規模を推測したり、研究開発規模に対して知財取得費用が適切かといった視点でこれらの情報を確認することも有益です。なお、直近の1年については未公開の期間があるために、未公開の期間に出願されると予測される出願件数を補って動向を把握する必要があります。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、エレクトロルミネッセンス光源技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、エレクトロルミネッセンス光源技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったエレクトロルミネッセンス光源技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア
記事監修:佐藤 寿
【監修者】

Patent &Marketing運営 佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿 (監修者)

特許事務所における事務所実務経験と、ヤマハ発動機株式会社のグループ会社における知財部門の担当として企業知財での経験と、当該会社における企画部門での戦略立案担当としの経験を活かし、クライアント企業の『事業の勝ち』にこだわったサービスを提供しています。
また、Patent & Marketingでは特許やマーケティングリサーチに役立つリンク集などを提供しています。

記事監修:大瀬 佳之
【監修者】

パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士

大瀬 佳之 (監修者)

IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

生成AIを利用した特許読解アシスタント「サマリア」

特許文書の読解にストレスを感じている皆様へ。 弁理士が開発した「サマリア」は、特許文書読解の時間短縮と理解の深化を実現するAIアシスタントサービスです。 「サマリア」は用語解説、サマリ作成、独自分類付与、スクリーニング、発明評価など知財担当者に寄り添う様々な機能を提供します。 また、英語・中国語にも対応しています。

特許読解アシスタント「サマリア」の詳細は、以下をご覧ください。

特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア

クラウド型知財管理サービス「rootip」 (PR)

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外国特許分析レポート

「エレクトロルミネッセンス光源技術」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「エレクトロルミネッセンス光源技術」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

エレクトロルミネッセンス光源技術 日本特許件数 推移

エレクトロルミネッセンス光源技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

出願件数上位である「エレクトロルミネッセンス光源技術」の特許出願件数の推移から業界の動向を把握して、あなたの会社の研究開発で注力すべき領域や研究開発の方向性に関する洞察を得ることができます。例えば、出願件数の増加は、何らかの技術を利用した事業化が近づいたことで技術開発を強化していることを示すかもしれません。また、出願件数の減少は研究開発の優先順位の変更や、開発メンバーや知財取得費用といったリソースの制限を示すかもしれません。このようなトレンドから背景を予測し理解することで、今後の製品や技術計画・事業計画が見えてきます。
グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、エレクトロルミネッセンス光源技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析できます。 

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

特許出願とキーワードの関係性を俯瞰することにより、特定の業界や分野内のトレンドや関心分野を把握できます。件数の多い特許出願と関連したキーワードや特徴語は、コア技術に近い特定の技術又は開発課題を示し、今後生まれてくる技術革新や重要な投資テーマを示すかもしれません。出願の全体像を把握することで、出願件数上位で業界のトッププレイヤー又は技術分野である「エレクトロルミネッセンス光源技術」の注力領域からあなたの会社が注力すべき技術分野や開発テーマのヒントを得ることができます。
また、「出願人・権利者」で確認できる関連分野の企業等が、「エレクトロルミネッセンス光源技術」のどのような技術分野で関わっているかを確認することができます。例えば、他の企業等は「エレクトロルミネッセンス光源技術」と、競合企業、サプライヤ、顧客企業として関連する可能性があります。
特徴語 (重要度)

エレクトロルミネッセンス光源技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「20,821件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
テーマコード:
エレクトロルミネッセンス光源技術[3K107]
特許分析期間
2014-01-01〜2024-03-31
対象件数
20,821

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

技術テーマ「エレクトロルミネッセンス光源技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。

特許検索機能の紹介

出願人、出願日、類似特許検索などさまざな検索機能を利用することで競合分析なども短時間で行えます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

同業や競合企業が特許に注力している分野を知ることで、自社の戦略や製品開発の方向性を把握することができます。また、競合企業の特許出願件数の増減傾向を知ることで、競合関係の変化や動向を把握することができます。例えば直近10年間の出願件数の順位と直近3年間の出願件数の順位とを比較することで、順位の上下による業界内でのポジショニングの変動を把握することができます。このような情報をもとに、知財戦略において最も重要な自社の出願戦略を見直すことができます。なお、パテントインテグレーションレポートでは、国内及び主要国の企業や注目技術分野などの出願件数上位1000件までのテーマでレポートを作成しているので、ここに挙がっていない関連する他の企業や技術分野と比較することで、より有益な示唆を得ることもできます。

直近3年間(2022〜2024年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社ジャパンディスプレイ の88件、次に多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の81件です。

対象期間(2014〜2024年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の3,903件、次に多いのは 株式会社ジャパンディスプレイ の1,165件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

同業や競合企業の長期的な特許出願件数の推移から、長期トレンドと出願件数の山や谷を確認することができます。これにより、例えば研究開発の活発化傾向・減退化傾向、突発的な開発集中時期等を特定することができ、自社の特許出願や知財戦略に対する見直しを行うことができます。また、競合企業の製品や技術開発の傾向を知ることで、自社の新規開発や商品開発の位置づけを把握することができます。なお、このグラフにおいても直近の期間については未公開の期間が存在する可能性があるために、未公開の期間に出願されると予測される出願件数を補って動向を把握する必要があります。
グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 情報  (日本)

技術テーマ「エレクトロルミネッセンス光源技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

どのような企業と共同出願を行っているかを確認することで、「エレクトロルミネッセンス光源技術」とその企業の関係性を推測できます。共同出願の前提となる資本関係、共同開発関係、共同事業運営関係といった関係や、事業会社であるか研究機関であるかといった組織の属性を前提に、初期研究段階、事業化段階などの技術開発のステージを推測することもできます。また、共同出願を行っている企業が関連する分野でどのような地位を占めているか、特許出願件数の推移が好調であるかなども上位出願人であればその企業のパテントインテグレーションレポートで確認できます。新たなビジネスチャンスの探索やパートナーシップの構築など、事業戦略の検討に活用できす。

直近3年間(2022〜2024年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社ジャパンディスプレイ の88件、次に多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の81件です。

対象期間(2014〜2024年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の3,903件、次に多いのは 株式会社ジャパンディスプレイ の1,165件です。

上位企業 日本特許件数 推移

エレクトロルミネッセンス光源技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

共同出願を行っている企業グループ会社や共同で開発等を行う企業の出願件数推移を確認することで、長期トレンドと出願件数の山や谷を確認することができます。例えば、共同出願のピークは共同開発が集中的に行われた期間があることを推測でき、企業同士による継続的な共同出願は共同での事業化が行われていることを示します。このように企業間の連携や協力関係の深さ、開発進捗の状況、共通のテクノロジーや関心のある技術分野がわかります。また、グループ内の企業間の戦略変更や協力関係の変化などを把握できます。
グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

株式会社半導体エネルギー研究所 の特許出願傾向

株式会社半導体エネルギー研究所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 3,903件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計889件)の平均値は148件、中央値は46.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2016年 の816件、最も少ない年は 2021年 の19件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 148
標準偏差 163
変動係数 1.1
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 47 +147 %
2021 年 19 -57.8 %
2020 年 45 -85.3 %

セイコーエプソン株式会社 の特許出願傾向

セイコーエプソン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 404件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計146件)の平均値は24.3件、中央値は20.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

出願件数が最も多い年は 2015年 の92件、最も少ない年は 2022年 の13件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 24.3
標準偏差 16.9
変動係数 0.7
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 13 -23.53 %
2021 年 17 -29.17 %
2020 年 24 -48.9 %

コニカミノルタ株式会社 の特許出願傾向

コニカミノルタ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 704件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計85件)の平均値は14.2件、中央値は6.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

出願件数が最も多い年は 2014年 の239件、最も少ない年は 2022年 の2件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 14.2
標準偏差 15.3
変動係数 1.1
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 2 -50.0 %
2021 年 4 -50.0 %
2020 年 8 -78.4 %

ソニーグループ株式会社 の特許出願傾向

ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 126件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計35件)の平均値は5.8件、中央値は6.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の44件、最も少ない年は 2022年 の0件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 5.8
標準偏差 5.2
変動係数 0.9
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2021 年 2 -81.8 %
2020 年 11 +10.00 %
2019 年 10 -16.67 %

キヤノン株式会社 の特許出願傾向

キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 318件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計231件)の平均値は38.5件、中央値は42.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2021年 の53件、最も少ない年は 2016年 の11件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 38.5
標準偏差 14.2
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 42 -20.75 %
2021 年 53 +23.26 %
2020 年 43 -2.27 %

重要特許情報   (日本)

エレクトロルミネッセンス光源技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、エレクトロルミネッセンス光源技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

「エレクトロルミネッセンス光源技術」が保有する個々の特許出願に紐付けられた重要指標を検討することで、「エレクトロルミネッセンス光源技術」が保有する特許の有効性や価値を把握することができます。例えば、他の多数の特許により引用された特許は、自社の技術開発への貢献度が高く、その特許の技術分野における基本特許となる可能性があります。また、そのような特許は、他社出願の権利化を牽制することで競争的に技術開発が行われている注目技術に関する特許かもしれません。
一方、無効審判請求がなされた特許は他社の事業を阻害している可能性が特に高い重要な特許であるといえます。
また、情報提供又は異議申立がなされた特許出願は、無効審判請求ほど致命的ではないものの権利化が認められない第三者がいることから、「エレクトロルミネッセンス光源技術」の業界における注目特許であるといえます。
いずれにしてもこれらの重要特許の内容を確認することが、知財的なリスク管理の観点でも、ビジネス的に重要な技術を知る意味でも重要になります。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。
特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 8件 ありました。平均無効審判請求数は 1.2回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許7203763号「表示基板及びその製造方法、表示装置」(無効審判請求日 2023-07-31)、次は 特許6672194号「有機発光表示装置の画素配列構造」(無効審判請求日 2023-04-28)です。

直近の無効審判請求 (2021-04-01〜2024-03-31)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許7203763 表示基板及びその製造方法、表示装置 2023-07-31
2 特許6672194 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-04-28
3 特許6748268 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-04-28
4 特許6568156 発光素子、発光装置、照明装置および電子機器 2022-04-05
5 特許5420705 発光素子、発光装置、照明装置及び電子機器 2022-04-05
6 特許6734906 電子機器 2021-11-02
7 特許6323815 有機光電子素子およびこれを含む表示装置 2021-07-30
8 特許5935199 多環芳香族化合物 2021-05-07

3件の特許を表示する  

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 4件 ありました。平均無効審判請求数は 1.2回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6568156号「発光素子、発光装置、照明装置および電子機器」(2回)、次に多い特許は 特許6672194号「有機発光表示装置の画素配列構造」(1回)です。

10年間(2014-04-01〜2024-03-31) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6568156 発光素子、発光装置、照明装置および電子機器 2
2 特許6672194 有機発光表示装置の画素配列構造 1
3 特許5935199 多環芳香族化合物 1
4 特許7203763 表示基板及びその製造方法、表示装置 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 46件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7294146号「着色感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明」(異議申立日 2023-12-20)、次は 特許7263153号「感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法」(異議申立日 2023-10-24)です。

直近の異議申立 (2021-04-01〜2024-03-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許7294146 着色感光性樹脂組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明 2023-12-20
2 特許7263153 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法 2023-10-24
3 特許7259452 エレクトロルミネッセンス表示装置 2023-10-16
4 特許7259453 可撓性画像表示装置、及びそれに用いる円偏光板の製造方法 2023-10-16
5 特許7226459 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 2023-08-18
6 特許7203027 フォルダブル円偏光板および表示装置 2023-07-11
7 特許7178509 積層体及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置 2023-05-16
8 特許7173422 光学フィルム、偏光板、画像表示装置及び光学フィルムの選定方法 2023-05-15
9 特許7125683 蒸着マスクを製造するための金属板並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 2023-02-24
10 特許7120518 フォルダブルディスプレイ用保護フィルムおよびこれを含むフォルダブルディスプレイ装置 2023-02-17

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被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 102件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特許7065746号「有機EL表示素子用封止剤」(情報提供日 2024-03-06)、次は 特開2022-087332号「有機EL表示素子用封止剤」(情報提供日 2024-03-01)です。

直近の情報提供 (2021-04-01〜2024-03-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特許7065746 有機EL表示素子用封止剤 2024-03-06
2 特開2022-087332 有機EL表示素子用封止剤 2024-03-01
3 再公表2019/074104 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 2024-02-29
4 特開2023-106352 複数のホスト材料及びそれを含む有機エレクトロルミネッセントデバイス 2024-02-19
5 特開2022-037060 有機EL表示素子用封止剤及び有機EL表示素子用封止剤の製造方法 2024-02-15
6 特開2023-081813 精密メタルマスク及びその製造方法 2024-02-14
7 特開2023-135668 π共役系ポリマーの製造方法 2024-02-08
8 特許7464494 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス 2024-02-07
9 特許7464493 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス 2024-02-07
10 特表2023-540317 無機ピクセル封入バリアを有するOLEDパネルを製造する方法 2024-02-07
11 特開2022-058493 蒸着用マスク及びこれを用いたOLEDパネル 2024-01-29
12 特開2023-029649 有機EL表示素子用封止剤 2024-01-26
13 特開2021-166285 有機エレクトロルミネセント化合物、複数のホスト材料、及びそれらを含む有機エレクトロルミネセントデバイス 2024-01-24
14 特表2022-503940 ヘテロ環化合物、これを含む有機発光素子、有機発光素子の有機物層用組成物および有機発光素子の製造方法 2024-01-24
15 特表2023-539094 有機光電子素子用化合物、有機光電子素子用組成物、有機光電子素子および表示装置 2024-01-18
16 特開2022-019638 有機エレクトロルミネセント化合物、それを含む複数のホスト材料及び有機エレクトロルミネセントデバイス 2024-01-18
17 特表2022-528689 白色有機発光デバイス及びその製造方法 2024-01-05
18 特許5688182 フレキシブル有機エレクトロルミネッセンスデバイス及びその製造方法 2024-01-05
19 特表2023-553379 核形成抑制被膜及び下地金属被膜を用いた導電性堆積層のパターニング 2024-01-05
20 再公表2019/203123 有機EL表示素子用封止剤及びトップエミッション型有機EL表示素子 2023-11-29

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被情報提供数 上位特許

直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 229件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7336412号「有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置」(5回)、次に多い特許は 特許7051818号「感光性樹脂組成物」(5回)です。

10年間(2014-04-01〜2024-03-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許7336412 有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置 5
2 特許7051818 感光性樹脂組成物 5
3 特許6932420 フレキシブル画像表示装置用粘着剤組成物、フレキシブル画像表示装置用粘着剤層、フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 4
4 再公表2019/074104 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 4
5 特許6538637 リン光発光ダイオード中の単一トリフェニレン発色団 3

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 190件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2022-087332号「有機EL表示素子用封止剤」(閲覧請求日 2024-03-26)、次は 特許7065746号「有機EL表示素子用封止剤」(閲覧請求日 2024-03-26)です。

直近の閲覧請求 (2021-04-01〜2024-03-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2022-087332 有機EL表示素子用封止剤 2024-03-26
2 特許7065746 有機EL表示素子用封止剤 2024-03-26
3 特開2022-037060 有機EL表示素子用封止剤及び有機EL表示素子用封止剤の製造方法 2024-03-12
4 特開2023-106352 複数のホスト材料及びそれを含む有機エレクトロルミネッセントデバイス 2024-03-12
5 特開2022-039781 発光材料、有機無機ハイブリッド発光素子およびディスプレイ 2024-02-27
6 特開2021-166285 有機エレクトロルミネセント化合物、複数のホスト材料、及びそれらを含む有機エレクトロルミネセントデバイス 2024-02-16
7 特開2023-135668 π共役系ポリマーの製造方法 2024-02-15
8 特表2023-540317 無機ピクセル封入バリアを有するOLEDパネルを製造する方法 2024-02-15
9 特許6702393 電気光学装置、および電気光学装置の製造方法 2024-02-06
10 特許6702394 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電気光学装置製造用部材 2024-02-06
11 特表2022-528689 白色有機発光デバイス及びその製造方法 2024-02-05
12 特開2023-029649 有機EL表示素子用封止剤 2024-01-30
13 特開2022-019638 有機エレクトロルミネセント化合物、それを含む複数のホスト材料及び有機エレクトロルミネセントデバイス 2024-01-26
14 特表2023-553379 核形成抑制被膜及び下地金属被膜を用いた導電性堆積層のパターニング 2024-01-26
15 特表2023-539094 有機光電子素子用化合物、有機光電子素子用組成物、有機光電子素子および表示装置 2024-01-23
16 特許6851712 置換されたオレフィンの製造方法 2024-01-19
17 特表2023-534498 新規な複素環式化合物及びそれを含む有機発光素子 2024-01-10
18 特開2023-112128 有機EL表示素子用封止剤 2023-12-12
19 再公表2019/203123 有機EL表示素子用封止剤及びトップエミッション型有機EL表示素子 2023-12-05
20 特許7396900 表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスク 2023-11-24

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 417件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6696669号「光学積層体及び表示装置」(7回)、次に多い特許は 特許6934299号「多成分ホスト材料及びそれを含む有機電界発光デバイス」(7回)です。

10年間(2014-04-01〜2024-03-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6696669 光学積層体及び表示装置 7
2 特許6934299 多成分ホスト材料及びそれを含む有機電界発光デバイス 7
3 特許6432072 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 6
4 特許7051818 感光性樹脂組成物 6
5 特許6782418 有機エレクトロニクス材料及びその利用 5

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 5,202件 ありました。平均被引用数は 3.3回 です。 被引用数が多い特許は 特許6804823号「白金錯体およびデバイス」(84回)、次に多い特許は 特開2014-221807号「四配位白金錯体の合成およびそれらの発光デバイスへの応用」(74回)です。

10年間(2014-04-01〜2024-03-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6804823 白金錯体およびデバイス 84
2 特開2014-221807 四配位白金錯体の合成およびそれらの発光デバイスへの応用 74
3 特許6603445 改変された発光スペクトルを有する蛍光性四座配位金属錯体 53
4 特開2017-102443 光学積層体および該光学積層体を用いた有機エレクトロルミネセンス表示装置 50
5 特開2015-225104 表示装置 44

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主要メディアにおける掲載実績
2023-08-07   新聞記事
日経新聞の全国紙朝刊の記事「東芝、混乱の末の非公開化 15年で売上高6割減」にて、東芝の出願件数減少に関する記事において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
2022-12-26   新聞記事
毎日新聞の全国紙朝刊の記事「日産・ルノー、出資比率下げ交渉越年へ 知財がネックとなるワケは…」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
2022-11-09   新聞記事
読売新聞の全国紙朝刊の記事「ルノー・日産 協議難航…EV新会社 知財の扱い・資本見直し」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。

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