最終更新日:2023/11/06

エレクトロルミネッセンス光源技術 (特許分析レポート・日本)

テーマコード「エレクトロルミネッセンス光源技術」の直近(2022-01-01〜2022-02-28)の特許出願件数は 137件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-02-28)の特許出願件数 176件 に比べて -39件(-22.2%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2014年 の3,431件、最も少ない年は 2021年 の1,050件です。

過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計10,457件)の平均値は1,743件、中央値は1,620件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2017〜2022年)の出願情報
指標
平均値 1,743
標準偏差 861
変動係数 0.5

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2021 年 1,050 -18.10 %
2020 年 1,282 -34.5 %
2019 年 1,957 -26.59 %

エレクトロルミネッセンス光源技術[3K107]の過去10年間(2013-01-01〜2023-10-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

直近5年間の平均出願件数、直近3年間の出願件数推移を確認することで、「エレクトロルミネッセンス光源技術」の研究開発や知財活動の規模及び動向を簡易的に把握することができます。特許出願には費用がかかることを逆手に取り年間の平均出願件数から研究開発規模を推測したり、研究開発規模に対して知財取得費用が適切かといった視点でこれらの情報を確認することも有益です。なお、直近の1年については未公開の期間があるために、未公開の期間に出願されると予測される出願件数を補って動向を把握する必要があります。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、エレクトロルミネッセンス光源技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、エレクトロルミネッセンス光源技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったエレクトロルミネッセンス光源技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア
記事監修:佐藤 寿
【監修者】

Patent &Marketing運営 佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿 (監修者)

特許事務所における事務所実務経験と、ヤマハ発動機株式会社のグループ会社における知財部門の担当として企業知財での経験と、当該会社における企画部門での戦略立案担当としの経験を活かし、クライアント企業の『事業の勝ち』にこだわったサービスを提供しています。
また、Patent & Marketingでは特許やマーケティングリサーチに役立つリンク集などを提供しています。

記事監修:大瀬 佳之
【監修者】

パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士

大瀬 佳之 (監修者)

IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

特許文書の読解をサポートする読解支援AIアシスタント「サマリア(Summaria)」を新たに発表しました。 「サマリア」は、最新の人工知能技術を用いて、弁理士、知財担当者、研究開発者、エンジニアの方々の難解な特許文書の読解作業を手助けするサービスです。 例えば、先行技術調査、拒絶理由対応、クリアランス・係争対応など幅広い業務で活用することができます。 サービスは無料でご利用いただくことができます。 無料トライアルは「こちら」から。

特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア

外国特許分析レポート

「エレクトロルミネッセンス光源技術」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「エレクトロルミネッセンス光源技術」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

エレクトロルミネッセンス光源技術 日本特許件数 推移

エレクトロルミネッセンス光源技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

出願件数上位である「エレクトロルミネッセンス光源技術」の特許出願件数の推移から業界の動向を把握して、あなたの会社の研究開発で注力すべき領域や研究開発の方向性に関する洞察を得ることができます。例えば、出願件数の増加は、何らかの技術を利用した事業化が近づいたことで技術開発を強化していることを示すかもしれません。また、出願件数の減少は研究開発の優先順位の変更や、開発メンバーや知財取得費用といったリソースの制限を示すかもしれません。このようなトレンドから背景を予測し理解することで、今後の製品や技術計画・事業計画が見えてきます。
グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、エレクトロルミネッセンス光源技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析できます。 

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

特許出願とキーワードの関係性を俯瞰することにより、特定の業界や分野内のトレンドや関心分野を把握できます。件数の多い特許出願と関連したキーワードや特徴語は、コア技術に近い特定の技術又は開発課題を示し、今後生まれてくる技術革新や重要な投資テーマを示すかもしれません。出願の全体像を把握することで、出願件数上位で業界のトッププレイヤー又は技術分野である「エレクトロルミネッセンス光源技術」の注力領域からあなたの会社が注力すべき技術分野や開発テーマのヒントを得ることができます。
また、「出願人・権利者」で確認できる関連分野の企業等が、「エレクトロルミネッセンス光源技術」のどのような技術分野で関わっているかを確認することができます。例えば、他の企業等は「エレクトロルミネッセンス光源技術」と、競合企業、サプライヤ、顧客企業として関連する可能性があります。
特徴語 (重要度)

エレクトロルミネッセンス光源技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「23,314件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
テーマコード:
エレクトロルミネッセンス光源技術[3K107]
特許分析期間
2013-01-01〜2023-10-31
対象件数
23,314

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 詳細   (日本)

株式会社半導体エネルギー研究所 の特許出願傾向

株式会社半導体エネルギー研究所 の分析対象期間(2013〜2023年)の出願件数は 4,363件 です。

過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計1,481件)の平均値は247件、中央値は166件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.0であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2019〜2022年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2016年 の795件、最も少ない年は 2021年 の16件です。

過去5年間(2017〜2022年)の出願情報
指標
平均値 247
標準偏差 241
変動係数 1.0
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2021 年 16 -55.6 %
2020 年 36 -87.3 %
2019 年 284 -34.1 %

セイコーエプソン株式会社 の特許出願傾向

セイコーエプソン株式会社 の分析対象期間(2013〜2023年)の出願件数は 474件 です。

過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計185件)の平均値は30.8件、中央値は34.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2015年 の92件、最も少ない年は 2021年 の17件です。

過去5年間(2017〜2022年)の出願情報
指標
平均値 30.8
標準偏差 15.2
変動係数 0.5
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2021 年 17 -29.17 %
2020 年 24 -48.9 %
2019 年 47 +4.44 %

コニカミノルタ株式会社 の特許出願傾向

コニカミノルタ株式会社 の分析対象期間(2013〜2023年)の出願件数は 933件 です。

過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計119件)の平均値は19.8件、中央値は19.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2019〜2022年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の239件、最も少ない年は 2021年 の4件です。

過去5年間(2017〜2022年)の出願情報
指標
平均値 19.8
標準偏差 17.3
変動係数 0.9
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2021 年 4 0
2020 年 4 -88.9 %
2019 年 36 +5.88 %

ソニーグループ株式会社 の特許出願傾向

ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2013〜2023年)の出願件数は 193件 です。

過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計44件)の平均値は7.3件、中央値は8.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

出願件数が最も多い年は 2013年 の74件、最も少ない年は 2021年 の2件です。

過去5年間(2017〜2022年)の出願情報
指標
平均値 7.3
標準偏差 5.2
変動係数 0.7
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2021 年 2 -66.7 %
2020 年 6 -40.0 %
2019 年 10 -9.09 %

キヤノン株式会社 の特許出願傾向

キヤノン株式会社 の分析対象期間(2013〜2023年)の出願件数は 335件 です。

過去5年間の出願件数(2017〜2022年、計215件)の平均値は35.8件、中央値は41.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2019〜2022年)の出願件数は増加傾向です。 出願件数が最も多い年は 2021年 の53件、最も少ない年は 2016年 の11件です。

過去5年間(2017〜2022年)の出願情報
指標
平均値 35.8
標準偏差 12.9
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2021 年 53 +23.26 %
2020 年 43 +2.38 %
2019 年 42 +5.00 %

重要特許情報   (日本)

エレクトロルミネッセンス光源技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、エレクトロルミネッセンス光源技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

「エレクトロルミネッセンス光源技術」が保有する個々の特許出願に紐付けられた重要指標を検討することで、「エレクトロルミネッセンス光源技術」が保有する特許の有効性や価値を把握することができます。例えば、他の多数の特許により引用された特許は、自社の技術開発への貢献度が高く、その特許の技術分野における基本特許となる可能性があります。また、そのような特許は、他社出願の権利化を牽制することで競争的に技術開発が行われている注目技術に関する特許かもしれません。
一方、無効審判請求がなされた特許は他社の事業を阻害している可能性が特に高い重要な特許であるといえます。
また、情報提供又は異議申立がなされた特許出願は、無効審判請求ほど致命的ではないものの権利化が認められない第三者がいることから、「エレクトロルミネッセンス光源技術」の業界における注目特許であるといえます。
いずれにしてもこれらの重要特許の内容を確認することが、知財的なリスク管理の観点でも、ビジネス的に重要な技術を知る意味でも重要になります。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。
特許読解支援アシスタント・サマリア
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被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2020-11-01〜2023-10-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 8件 ありました。平均無効審判請求数は 1.2回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許7203763号「表示基板及びその製造方法、表示装置」(無効審判請求日 2023-07-31)、次は 特許6672194号「有機発光表示装置の画素配列構造」(無効審判請求日 2023-04-28)です。

直近の無効審判請求 (2020-11-01〜2023-10-31)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許7203763 表示基板及びその製造方法、表示装置 2023-07-31
2 特許6672194 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-04-28
3 特許6748268 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-04-28
4 特許6568156 発光素子、発光装置、照明装置および電子機器 2022-04-05
5 特許5420705 発光素子、発光装置、照明装置及び電子機器 2022-04-05
6 特許6734906 電子機器 2021-11-02
7 特許6323815 有機光電子素子およびこれを含む表示装置 2021-07-30
8 特許5935199 多環芳香族化合物 2021-05-07

3件の特許を表示する  

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2013-11-01〜2023-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 4件 ありました。平均無効審判請求数は 1.2回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6568156号「発光素子、発光装置、照明装置および電子機器」(2回)、次に多い特許は 特許6672194号「有機発光表示装置の画素配列構造」(1回)です。

10年間(2013-11-01〜2023-10-31) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6568156 発光素子、発光装置、照明装置および電子機器 2
2 特許6672194 有機発光表示装置の画素配列構造 1
3 特許5935199 多環芳香族化合物 1
4 特許7203763 表示基板及びその製造方法、表示装置 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2020-11-01〜2023-10-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 47件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7226459号「メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法」(異議申立日 2023-08-18)、次は 特許7203027号「フォルダブル円偏光板および表示装置」(異議申立日 2023-07-11)です。

直近の異議申立 (2020-11-01〜2023-10-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許7226459 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 2023-08-18
2 特許7203027 フォルダブル円偏光板および表示装置 2023-07-11
3 特許7178509 積層体及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置 2023-05-16
4 特許7173422 光学フィルム、偏光板、画像表示装置及び光学フィルムの選定方法 2023-05-15
5 特許7125683 蒸着マスクを製造するための金属板並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 2023-02-24
6 特許7120518 フォルダブルディスプレイ用保護フィルムおよびこれを含むフォルダブルディスプレイ装置 2023-02-17
7 特許7114664 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 2023-02-02
8 特許7119424 光学フィルムおよび画像表示装置 2023-02-01
9 特許7099512 蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法 2023-01-11
10 特許7075214 金属基板およびこれを用いた蒸着用マスク 2022-11-17

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2020-11-01〜2023-10-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 92件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2023-001066号「有機発光素子封止用組成物、およびこれから製造される有機層を含む有機発光表示装置」(情報提供日 2023-09-28)、次は 特許7357665号「有機発光化合物及びそれを含む有機発光素子」(情報提供日 2023-09-07)です。

直近の情報提供 (2020-11-01〜2023-10-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2023-001066 有機発光素子封止用組成物、およびこれから製造される有機層を含む有機発光表示装置 2023-09-28
2 特許7357665 有機発光化合物及びそれを含む有機発光素子 2023-09-07
3 特開2022-087332 有機EL表示素子用封止剤 2023-08-31
4 特開2019-191571 位相差層付き偏光板および有機EL表示装置 2023-08-24
5 特開2019-191570 位相差層付き偏光板および有機EL表示装置 2023-08-24
6 特開2022-133275 積層体および画像表示装置 2023-08-09
7 再公表2019/074104 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 2023-08-03
8 特開2022-058493 蒸着用マスク及びこれを用いたOLEDパネル 2023-07-28
9 特開2023-081813 精密メタルマスク及びその製造方法 2023-07-20
10 特開2022-130400 両面粘着シート、画像表示装置構成用部材を有する積層体、積層体形成キット及び両面粘着シートの使用 2023-06-16
11 特許7329628 偏光板及び表示装置 2023-06-13
12 特表2022-504957 複数の発光材料及びこれを含む有機エレクトロルミネセントデバイス 2023-06-08
13 特許7336412 有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置 2023-06-06
14 再公表2019/212022 組成物、および有機電界発光素子の製造方法 2023-05-22
15 特開2021-026086 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 2023-05-17
16 特開2023-024361 有機発光素子の封止材用熱硬化性液状組成物 2023-04-20
17 特許7366896 偏光子および画像表示装置 2023-04-19
18 特開2020-056024 紫外線硬化性樹脂組成物、発光装置の製造方法及び発光装置 2023-04-14
19 特表2022-504349 有機エレクトロルミネセント化合物及びそれを含む有機エレクトロルミネセントデバイス 2023-04-04
20 特開2020-204010 粘着フィルム、フォルダブルデバイス、および、ローラブルデバイス 2023-03-29

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被情報提供数 上位特許

直近10年間(2013-11-01〜2023-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 229件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 情報提供数が多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(6回)、次に多い特許は 特許7336412号「有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置」(5回)です。

10年間(2013-11-01〜2023-10-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5880584 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 6
2 特許7336412 有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置 5
3 特許7051818 感光性樹脂組成物 5
4 特許6932420 フレキシブル画像表示装置用粘着剤組成物、フレキシブル画像表示装置用粘着剤層、フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置 4
5 特許6538637 リン光発光ダイオード中の単一トリフェニレン発色団 3

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2020-11-01〜2023-10-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 180件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特許4122949号「電気光学装置、アクティブマトリクス基板及び電子機器」(閲覧請求日 2023-10-19)、次は 特開2019-191571号「位相差層付き偏光板および有機EL表示装置」(閲覧請求日 2023-09-27)です。

直近の閲覧請求 (2020-11-01〜2023-10-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特許4122949 電気光学装置、アクティブマトリクス基板及び電子機器 2023-10-19
2 特開2019-191571 位相差層付き偏光板および有機EL表示装置 2023-09-27
3 特開2019-191570 位相差層付き偏光板および有機EL表示装置 2023-09-27
4 特開2021-140077 ブラックマトリクス基板及び表示装置、ブラックマトリクス基板の製造方法 2023-09-14
5 特開2021-051235 感光性樹脂組成物、硬化物、及び画像表示装置 2023-09-13
6 特開2022-133275 積層体および画像表示装置 2023-09-08
7 特開2022-087332 有機EL表示素子用封止剤 2023-09-05
8 特許7357186 電極接続素子、これを備える発光装置及び発光装置の製造方法 2023-08-02
9 特開2022-082964 表示装置 2023-07-31
10 特開2022-130400 両面粘着シート、画像表示装置構成用部材を有する積層体、積層体形成キット及び両面粘着シートの使用 2023-06-20
11 再公表2019/212022 組成物、および有機電界発光素子の製造方法 2023-06-14
12 特開2022-137055 ポリエステルフィルムとその用途 2023-06-08
13 特開2021-026086 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 2023-06-07
14 特許7146861 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-06-06
15 特許6770543 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-06-06
16 特許6672194 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-06-06
17 特許6748268 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-06-06
18 特開2022-177199 ディスプレイ 2023-06-06
19 特許6301610 有機発光表示装置の画素配列構造 2023-06-06
20 特許7278362 有機発光表示装置の画素配列構造および有機発光表示装置 2023-06-06

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被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2013-11-01〜2023-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 441件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(9回)、次に多い特許は 特許6696669号「光学積層体及び表示装置」(7回)です。

10年間(2013-11-01〜2023-10-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5880584 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 9
2 特許6696669 光学積層体及び表示装置 7
3 特許6934299 多成分ホスト材料及びそれを含む有機電界発光デバイス 7
4 特許6432072 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 6
5 特許7051818 感光性樹脂組成物 6

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2013-11-01〜2023-10-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 5,433件 ありました。平均被引用数は 3.3回 です。 被引用数が多い特許は 特許6804823号「白金錯体およびデバイス」(77回)、次に多い特許は 特開2014-221807号「四配位白金錯体の合成およびそれらの発光デバイスへの応用」(68回)です。

10年間(2013-11-01〜2023-10-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6804823 白金錯体およびデバイス 77
2 特開2014-221807 四配位白金錯体の合成およびそれらの発光デバイスへの応用 68
3 特開2014-197181 表示装置 58
4 特許6603445 改変された発光スペクトルを有する蛍光性四座配位金属錯体 46
5 特開2017-102443 光学積層体および該光学積層体を用いた有機エレクトロルミネセンス表示装置 45

メディア(新聞、雑誌等)への特許情報提供

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主要メディアにおける掲載実績
2023-08-07   新聞記事
日経新聞の全国紙朝刊の記事「東芝、混乱の末の非公開化 15年で売上高6割減」にて、東芝の出願件数減少に関する記事において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
2022-12-26   新聞記事
毎日新聞の全国紙朝刊の記事「日産・ルノー、出資比率下げ交渉越年へ 知財がネックとなるワケは…」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
2022-11-09   新聞記事
読売新聞の全国紙朝刊の記事「ルノー・日産 協議難航…EV新会社 知財の扱い・資本見直し」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。

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