エレクトロルミネッセンス光源技術 (特許分析レポート・日本)

エレクトロルミネッセンス光源技術[テーマコード 3K107]の過去10年間(2011-01-01〜2021-06-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・分析サービスを提供する「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくことを目的として無料で提供するレポートサービスです。 最新の特許データ（日米欧・国際公開）に基づく特許分析レポートを提供しています。

エレクトロルミネッセンス光源技術の特許出願件数推移および、同業・競合企業との特許出願件数比較、エレクトロルミネッセンス光源技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったエレクトロルミネッセンス光源技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を提供しています。 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用ください。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン＆クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。 是非、「パテント・インテグレーション」を御活用いただき、ワンランク上の知財活動を実現してください。

エレクトロルミネッセンス光源技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、エレクトロルミネッセンス光源技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードすることができます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出することができます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

用語解説

被引用

他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。

無効審判請求

特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。

異議申立

第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。

情報提供

出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。

閲覧請求

第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-07-01〜2021-06-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 37件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6787503号「蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法」(異議申立日 2021-05-18)、次は 特許6778353号「偏光子および画像表示装置」(異議申立日 2021-04-27)です。

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-07-01〜2021-06-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 118件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2018-028573号「フレキシブル画像表示装置用積層体、及び、フレキシブル画像表示装置」(情報提供日 2021-06-18)、次は 特開2019-163468号「紫外線硬化性樹脂組成物、有機ＥＬ発光装置の製造方法及び有機ＥＬ発光装置」(情報提供日 2021-06-14)です。

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-07-01〜2021-06-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 249件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 情報提供数が多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(12回)、次に多い特許は 特許6317544号「有機エレクトロルミネッセンス素子および電子機器」(8回)です。

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-07-01〜2021-06-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 224件 ありました。平均閲覧請求数は 2.1回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2020-127020号「有機光電子素子用有機アロイ、有機光電子素子および表示装置」(閲覧請求日 2021-06-29)、次は 再公表2019/035412号「有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器」(閲覧請求日 2021-06-29)です。

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-07-01〜2021-06-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 704件 ありました。平均閲覧請求数は 2.0回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(16回)、次に多い特許は 特許6162384号「インク組成物及びそれを用いて透明導電体を作製する方法」(10回)です。

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-07-01〜2021-06-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 6,802件 ありました。平均被引用数は 3.4回 です。 被引用数が多い特許は 特開2012-134475号「酸化物半導体膜および半導体装置」(282回)、次に多い特許は 特許6227282号「半導体装置」(117回)です。