本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「窒化シリコン」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「窒化シリコン」の直近(2023-01-01〜2023-02-28)の特許出願件数は 7件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-02-28)の特許出願件数 13件 に比べて -6件(-46.2%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 Si3N4 」、「 けい素窒化物 」、「 ケイ素窒化物 」、「 シリコン窒化物 」、「 窒化けい素 」、「 窒化シリコン 」、「 窒化珪素 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の341件、最も少ない年は 2022年 の122件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計1,012件)の平均値は169件、中央値は155件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 169 件 |
標準偏差 | 80.6 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 122 件 | -20.78 % |
2021 年 | 154 件 | -1.28 % |
2020 年 | 156 件 | -32.5 % |
窒化シリコンの過去10年間(2014-01-01〜2024-10-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、窒化シリコンの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、窒化シリコンの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった窒化シリコンの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
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近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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窒化シリコン の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「2,245件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
窒化シリコンと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは ルネサスエレクトロニクス株式会社 の12件、次に多いのは キヤノン株式会社 の9件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 12 件 |
キヤノン株式会社 | 9 件 |
株式会社半導体エネルギー研究所 | 5 件 |
株式会社東芝 | 5 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 2 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 2 件 |
富士通株式会社 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の319件、次に多いのは ルネサスエレクトロニクス株式会社 の197件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社半導体エネルギー研究所 | 319 件 |
ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 197 件 |
キヤノン株式会社 | 135 件 |
株式会社東芝 | 80 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 53 件 |
シャープ株式会社 | 22 件 |
富士通株式会社 | 15 件 |
ソニーグループ株式会社 | 14 件 |
株式会社日立製作所 | 9 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 5 件 |
日本電気株式会社 | 4 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
窒化シリコンと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは ルネサスエレクトロニクス株式会社 の12件、次に多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の5件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 12 件 |
株式会社半導体エネルギー研究所 | 5 件 |
株式会社東芝 | 5 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 2 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社半導体エネルギー研究所 の319件、次に多いのは ルネサスエレクトロニクス株式会社 の197件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社半導体エネルギー研究所 | 319 件 |
ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 197 件 |
株式会社東芝 | 80 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 53 件 |
ソニーグループ株式会社 | 14 件 |
株式会社日立製作所 | 9 件 |
日本電気株式会社 | 4 件 |
窒化シリコン の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
窒化シリコン の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社半導体エネルギー研究所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 319件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計82件)の平均値は13.7件、中央値は4.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の83件、最も少ない年は 2022年 の1件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 13.7 件 |
標準偏差 | 15.8 |
変動係数 | 1.2 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1 件 | 0 |
2021 年 | 1 件 | -80.0 % |
2020 年 | 5 件 | -83.3 % |
ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 14件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計3件)の平均値は0.5件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.5であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の6件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.5 件 |
標準偏差 | 0.8 |
変動係数 | 1.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2021 年 | 2 件 | - |
2020 年 | 0 件 | - |
2019 年 | 0 件 | -100 % |
日本電気株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 4件 です。
過去10年間の出願件数(2013〜2023年、計8件)の平均値は0.7件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.7であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2017年 の2件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.7 件 |
標準偏差 | 1.2 |
変動係数 | 1.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2017 年 | 2 件 | +100 % |
2016 年 | 1 件 | - |
2015 年 | 0 件 | -100 % |
ルネサスエレクトロニクス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 197件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計48件)の平均値は8.0件、中央値は5.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の43件、最も少ない年は 2021年 の4件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 8.0 件 |
標準偏差 | 6.4 |
変動係数 | 0.8 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 10 件 | +150 % |
2021 年 | 4 件 | -42.9 % |
2020 年 | 7 件 | +75.0 % |
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 9件 です。
過去10年間の出願件数(2013〜2023年、計12件)の平均値は1.1件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.5であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2017年 の5件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1.1 件 |
標準偏差 | 1.7 |
変動係数 | 1.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2017 年 | 5 件 | +400 % |
2016 年 | 1 件 | - |
2015 年 | 0 件 | -100 % |
窒化シリコン の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、窒化シリコンが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 2件 ありました。平均情報提供数は 1.0回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特表2023-508199号「ウェハクランプの硬いバールの製造および改修」(情報提供日 2024-01-31)、次は 特表2023-512777号「深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置」(情報提供日 2023-06-20)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特表2023-508199 | ウェハクランプの硬いバールの製造および改修 | 2024-01-31 |
2 | 特表2023-512777 | 深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置 | 2023-06-20 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 2件 ありました。平均情報提供数は 1.0回 です。 情報提供数が多い特許は 特表2023-508199号「ウェハクランプの硬いバールの製造および改修」(1回)、次に多い特許は 特表2023-512777号「深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特表2023-508199 | ウェハクランプの硬いバールの製造および改修 | 1 回 |
2 | 特表2023-512777 | 深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置 | 1 回 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 10件 ありました。平均閲覧請求数は 1.0回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特許7174188号「太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール」(閲覧請求日 2024-09-03)、次は 特許7082235号「太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール」(閲覧請求日 2024-09-03)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7174188 | 太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール | 2024-09-03 |
2 | 特許7082235 | 太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール | 2024-09-03 |
3 | 特許7331232 | 太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール | 2024-09-03 |
4 | 特許6702394 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電気光学装置製造用部材 | 2024-02-06 |
5 | 特許5524194 | トレンチ処理およびポリシリコンドーピング領域を持つ裏面コンタクト型太陽電池用の構造 | 2024-01-30 |
6 | 特許6148319 | ポリシリコンドープ領域を有するバックコンタクト型太陽電池のトレンチプロセス及び構造 | 2024-01-30 |
7 | 特許5860101 | ポリシリコンドープ領域を有するバックコンタクト型太陽電池のトレンチプロセス及び構造 | 2024-01-30 |
8 | 特表2023-512777 | 深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置 | 2023-08-22 |
9 | 特表2020-504441 | 太陽電池の製造 | 2023-02-17 |
10 | 特許7330675 | 多レベル回折光学素子の薄膜コーティング | 2022-08-17 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 13件 ありました。平均閲覧請求数は 1.0回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特表2020-504441号「太陽電池の製造」(1回)、次に多い特許は 特許6389003号「体液中の物質を検出するシステム及び方法」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特表2020-504441 | 太陽電池の製造 | 1 回 |
2 | 特許6389003 | 体液中の物質を検出するシステム及び方法 | 1 回 |
3 | 特許6006892 | 半導体装置 | 1 回 |
4 | 特表2023-512777 | 深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置 | 1 回 |
5 | 特許7174188 | 太陽電池及びその製造方法、太陽電池モジュール | 1 回 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 565件 ありました。平均被引用数は 3.3回 です。 被引用数が多い特許は 特許6320282号「エッチング方法」(113回)、次に多い特許は 特許6478596号「表示装置の作製方法」(46回)です。
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