2H195 写真製版における原稿準備・マスク技術の特許動向
テーマコード「写真製版における原稿準備・マスク技術」の公開遅延を考慮した比較期間（2024-01-01〜2024-10-31）の特許出願件数は 134件 です。前年同期間（2023-01-01〜2023-10-31）の特許出願件数 149件 に比べて -15件(-10.1%) と減少傾向で推移しています。
出願件数が最も多い年は 2022年 の229件、最も少ない年は 2024年 の159件です（対象年: 2021、2022、2023、2024）。
過去4年間の出願件数(2021〜2024年、計782件)の平均値は196件、中央値は197件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.16であり、年ごとの出願件数は緩やかな変動が見られます。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 196 件 |
| 標準偏差 | 32.2 |
| 変動係数 | 0.16 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 47 件 | -70.4% |
| 2024 年 | 159 件 | -5.36% |
| 2023 年 | 168 件 | -26.64% |
写真製版における原稿準備・マスク技術[2H195]の過去6年間(2020〜2025)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較できます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ（日米欧・国際公開）に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、写真製版における原稿準備・マスク技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、写真製版における原稿準備・マスク技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)といった写真製版における原稿準備・マスク技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
はじめに
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン＆クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
写真製版における原稿準備・マスク技術 日本特許件数 推移
写真製版における原稿準備・マスク技術 の過去 6年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
写真製版における原稿準備・マスク技術 日本特許 出願件数推移（単位: 件）
| 年 | 件数 |
|---|---|
| 2021 | 226 |
| 2022 | 229 |
| 2023 | 168 |
| 2024 | 159 |
| 2025 | 47 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
出願件数の推移をどう読むか
出願件数上位である「写真製版における原稿準備・マスク技術」の特許出願件数の推移から業界の動向を把握して、あなたの会社の研究開発で注力すべき領域や研究開発の方向性に関する洞察を得ることができます。
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パテント・ランドスケープ
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、写真製版における原稿準備・マスク技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ランドスケープの読み方
特許出願とキーワードの関係性を俯瞰することにより、特定の業界や分野内のトレンドや関心分野を把握できます。
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また、「出願人・権利者」で確認できる関連分野の企業等が、「写真製版における原稿準備・マスク技術」のどのような技術分野で関わっているかを確認することができます。例えば、他の企業等は「写真製版における原稿準備・マスク技術」と、競合企業、サプライヤ、顧客企業として関連する可能性があります。
特徴語 (重要度)
写真製版における原稿準備・マスク技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
写真製版における原稿準備・マスク技術 特徴語（上位15語）
| 特徴語 | 重要度 |
|---|---|
| マスク | 100.0 |
| 基板 | 88.62 |
| 膜 | 53.18 |
| 領域 | 48.82 |
| パターン | 41.53 |
| 光 | 36.72 |
| 露光 | 31.53 |
| 位置 | 29.27 |
| 精度 | 22.71 |
| 反射 | 21.79 |
| 表面 | 20.91 |
| 修正 | 18.58 |
| フォト | 18.05 |
| レジスト | 17.18 |
| 転写 | 14.93 |
検索集合 (分析対象)
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「829件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 なお、検索集合の件数（829件）とチャート上の出願件数合計は、検索式・期間定義の違いにより一致しない場合があります。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
写真製版における原稿準備・マスク技術[2H195]
直近の公報一覧
| 公報番号 | 発明の名称 | 書誌情報 | 技術テーマ |
|---|---|---|---|
| 1. 特開2026-147942 | ペリクルケース | ・出願人 三井化学株式会社 ・出願日 2025-03-07 ・公開日 2026-09-17 | 2H195 |
| 2. 特開2026-145948 | リソグラフィマスクの欠陥を修復する方法および装置 | ・出願人 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー ・出願日 2021-07-14 ・公開日 2026-09-15 | 2H195 |
| 3. 特開2026-146001 | 重合性単量体、高分子化合物、化学増幅型レジスト組成物、フォトマスクブランク、及びレジストパターンの形成方法 | ・出願人 信越化学工業株式会社 ・出願日 2021-05-13 ・公開日 2026-09-15 | 2H195, 2H197, 2H225, 4H006, 4J100 |
| 4. 特開2026-146103 | ナノファイバーフィルム移動方法 | ・出願人 リンテックオブアメリカインク ・出願日 2021-09-16 ・公開日 2026-09-15 | 2H195, 4G146 |
| 5. 特開2026-146207 | ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク | ・出願人 AGC株式会社 ・出願日 2020-05-20 ・公開日 2026-09-15 | 2H195, 2H197 |
| 6. 特開2026-144369 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | ・出願人 信越化学工業株式会社 ・出願日 2025-02-28 ・公開日 2026-09-09 | 2H195, 2H197, 2H225, 4J100 |
| 7. 特開2026-142163 | 反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク | ・出願人 テクセンドフォトマスク株式会社 ・出願日 2025-02-26 ・公開日 2026-09-07 | 2H195 |
| 8. 特表2026-530136 | レチクルを支持するためのベースプレートならびに関連するシステムおよび方法 | ・出願人 インテグリス・インコーポレーテッド ・出願日 2024-06-04 ・公開日 2026-09-04 | 2G051, 2H195 |
| 9. 特許7914822 | フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 | ・出願人 株式会社エスケーエレクトロニクス ・出願日 2025-05-21 ・公開日 2026-09-02 | 2H195 |
| 10. 特表2026-529823 | 他の層を考慮した第１の層に対するマスク画像最適化 | ・出願人 ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド ・出願日 2024-08-23 ・公開日 2026-09-02 | 2H195, 2H197, 5B146 |
| 11. 特開2026-139813 | 反射型マスクブランクおよびその製造方法 | ・出願人 AGC株式会社 ・出願日 2022-07-06 ・公開日 2026-09-01 | 2H195 |
| 12. 特開2026-137756 | 多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランク及びその製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 | ・出願人 HOYA株式会社 ・出願日 2022-02-24 ・公開日 2026-08-27 | 2H195 |
| 13. 特開2026-137188 | フォトマスク及び露光方法 | ・出願人 キオクシア株式会社 ・出願日 2025-02-17 ・公開日 2026-08-27 | 2H195, 2H197 |
| 14. 特開2026-137577 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、および半導体装置の製造方法 | ・出願人 HOYA株式会社 ・出願日 2025-02-17 ・公開日 2026-08-27 | 2H195 |
| 15. 特開2026-137673 | サンプルあるいは基板 | ・出願人 株式会社ホロン ・出願日 2025-02-17 ・公開日 2026-08-27 | 2H195, 5C101 |
同業・競合企業 情報 (日本)
{'ja': '技術テーマ「写真製版における原稿準備・マスク技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。', 'en': "The patent information of the higher applicant in the technical theme 写真製版における原稿準備・マスク技術 is shown below. By comparing the number of patents of each company, you can check the research and development status of each company's past and present technical themes and the position of each company in the technical theme. Patents have a time lag of about 18 months from filing to publication."}
直近3年間(2023〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは AGC株式会社 の47件、次に多いのは カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー の39件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| AGC株式会社 | 47 件 |
| カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 39 件 |
| 信越化学工業株式会社 | 36 件 |
| HOYA株式会社 | 24 件 |
| テクセンドフォトマスク株式会社 | 16 件 |
| エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 13 件 |
対象期間(2020〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2020〜2025年)において、出願件数が最も多いのは HOYA株式会社 の122件、次に多いのは 信越化学工業株式会社 の112件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| HOYA株式会社 | 122 件 |
| 信越化学工業株式会社 | 112 件 |
| AGC株式会社 | 98 件 |
| カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 89 件 |
| テクセンドフォトマスク株式会社 | 49 件 |
| エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 44 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
競合企業との比較のポイント
同業や競合企業が特許に注力している分野を知ることで、自社の戦略や製品開発の方向性を把握することができます。
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同業・競合企業 日本特許件数 ランキング
同業・競合企業 日本特許件数 推移
同業6社 の 過去6年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
同業・競合企業 出願件数ランキング
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| HOYA株式会社 | 122 |
| 信越化学工業株式会社 | 112 |
| AGC株式会社 | 98 |
| カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 89 |
| テクセンドフォトマスク株式会社 | 49 |
| エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 44 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
競合企業の長期推移をどう読むか
同業や競合企業の長期的な特許出願件数の推移から、長期トレンドと出願件数の山や谷を確認することができます。
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上位企業 情報 (日本)
{'ja': '技術テーマ「写真製版における原稿準備・マスク技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。', 'en': "The patent information of the higher applicant in the technical theme 写真製版における原稿準備・マスク技術 is shown below. By comparing the number of patents of each company, you can check the research and development status of each company's past and present technical themes and the position of each company in the technical theme. Patents have a time lag of about 18 months from filing to publication."}
直近3年間(2023〜2025年)の特許出願傾向
上位出願人のうち、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは AGC株式会社 の47件、次に多いのは カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー の39件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| AGC株式会社 | 47 件 |
| カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 39 件 |
| 信越化学工業株式会社 | 36 件 |
対象期間(2020〜2025年)の特許出願傾向
上位出願人のうち、対象期間(2020〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の112件、次に多いのは AGC株式会社 の98件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| 信越化学工業株式会社 | 112 件 |
| AGC株式会社 | 98 件 |
| カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 89 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
競合企業との比較のポイント
同業や競合企業が特許に注力している分野を知ることで、自社の戦略や製品開発の方向性を把握することができます。
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上位企業 日本特許件数 ランキング
写真製版における原稿準備・マスク技術 の過去6年間の 上位出願人3社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
上位共願人 出願件数ランキング
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| HOYA株式会社 | 122 |
| 信越化学工業株式会社 | 112 |
| AGC株式会社 | 98 |
上位企業 日本特許件数 推移
写真製版における原稿準備・マスク技術 の過去6年間の 上位出願人3社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
上位共願人 出願件数ランキング
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| HOYA株式会社 | 122 |
| 信越化学工業株式会社 | 112 |
| AGC株式会社 | 98 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
競合企業の長期推移をどう読むか
同業や競合企業の長期的な特許出願件数の推移から、長期トレンドと出願件数の山や谷を確認することができます。
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上位企業 詳細
AGC株式会社 の特許出願傾向
AGC株式会社 の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 98件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計96件)の平均値は19.2件、中央値は20.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.27であり、年ごとの出願件数はばらつきが大きいです。
公開遅延を考慮した直近3年間（2023〜2025年）の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2023年 の25件、最も少ない年は 2020年 の10件です（対象年: 2020、2021、2022、2023、2024）。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 19.2 件 |
| 標準偏差 | 5.2 |
| 変動係数 | 0.27 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 2 件 | -90.0% |
| 2024 年 | 20 件 | -20.00% |
| 2023 年 | 25 件 | +8.70% |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー の特許出願傾向
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 89件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計84件)の平均値は16.8件、中央値は15.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.21であり、年ごとの出願件数は緩やかな変動が見られます。
公開遅延を考慮した直近3年間（2023〜2025年）の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2021年 の21件、最も少ない年は 2023年 の13件です（対象年: 2020、2021、2022、2023、2024）。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 16.8 件 |
| 標準偏差 | 3.5 |
| 変動係数 | 0.21 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 5 件 | -76.2% |
| 2024 年 | 21 件 | +61.5% |
| 2023 年 | 13 件 | -13.33% |
信越化学工業株式会社 の特許出願傾向
信越化学工業株式会社 の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 112件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計104件)の平均値は20.8件、中央値は23.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数はばらつきが大きいです。
公開遅延を考慮した直近3年間（2023〜2025年）の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2020年 の28件、最も少ない年は 2023年 の5件です（対象年: 2020、2021、2022、2023、2024）。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 20.8 件 |
| 標準偏差 | 8.2 |
| 変動係数 | 0.4 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 8 件 | -65.2% |
| 2024 年 | 23 件 | +360% |
| 2023 年 | 5 件 | -80.8% |
メディア(新聞、雑誌等)への特許情報提供
『パテント・インテグレーション レポート』は、知的財産権の専門家である弁理士が運営する「パテント・インテグレーション株式会社」が提供するウェブサービスです。 最新の特許データに基づき、様々な企業、技術分野の技術動向情報を提供する国内最大規模の特許レポートサービスです。
本ウェブサービスは、知的財産権への関心有無に関わらず、多くの方々に知財情報を身近に感じて頂き、活用いただくことを目的としています。
弊社では、新聞、雑誌、ウェブメディア等の様々なメディアの各種記事において活用できる各種特許情報の提供を積極的に行っております。 提供可能な特許情報の内容についてはお気軽に『お問い合わせフォーム』からお問い合わせください。
主要メディアにおける掲載実績
- 2023-08-07 新聞記事
- 日経新聞の全国紙朝刊の記事「東芝、混乱の末の非公開化 15年で売上高6割減」にて、東芝の出願件数減少に関する記事において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-12-26 新聞記事
- 毎日新聞の全国紙朝刊の記事「日産・ルノー、出資比率下げ交渉越年へ 知財がネックとなるワケは…」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-11-09 新聞記事
- 読売新聞の全国紙朝刊の記事「ルノー・日産 協議難航…ＥＶ新会社 知財の扱い・資本見直し」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
コンテンツについて
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
特許事務所での実務に加え、ヤマハ発動機のグループ会社で企業知財と戦略立案を経験。知財と事業の両面から企業を支援しています。
平均出願件数の読み方
直近５年間の平均出願件数、直近３年間の出願件数推移を確認することで、「写真製版における原稿準備・マスク技術」の研究開発や知財活動の規模及び動向を簡易的に把握することができます。
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