本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「付加系重合体、後処理、化学変成技術」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
テーマコード「付加系重合体、後処理、化学変成技術」の直近(2023-01-01〜2023-01-31)の特許出願件数は 50件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-01-31)の特許出願件数 101件 に比べて -51件(-50.5%) と大幅に減少しています。
出願件数が最も多い年は 2016年 の2,160件、最も少ない年は 2022年 の1,281件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計9,184件)の平均値は1,531件、中央値は1,624件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,531 件 |
標準偏差 | 532 |
変動係数 | 0.3 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1,281 件 | -11.72 % |
2021 年 | 1,451 件 | -19.21 % |
2020 年 | 1,796 件 | -11.35 % |
付加系重合体、後処理、化学変成技術[4J100]の過去10年間(2014-01-01〜2024-09-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、付加系重合体、後処理、化学変成技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、付加系重合体、後処理、化学変成技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった付加系重合体、後処理、化学変成技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
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付加系重合体、後処理、化学変成技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、付加系重合体、後処理、化学変成技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
付加系重合体、後処理、化学変成技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「17,682件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
技術テーマ「付加系重合体、後処理、化学変成技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の256件、次に多いのは 三井化学株式会社 の97件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
住友化学株式会社 | 256 件 |
三井化学株式会社 | 97 件 |
三菱ケミカル株式会社 | 81 件 |
信越化学工業株式会社 | 79 件 |
旭化成株式会社 | 48 件 |
株式会社日本触媒 | 44 件 |
JSR株式会社 | 16 件 |
株式会社クラレ | 16 件 |
富士フイルム株式会社 | 14 件 |
日本ゼオン株式会社 | 9 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の892件、次に多いのは 株式会社日本触媒 の608件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
住友化学株式会社 | 892 件 |
株式会社日本触媒 | 608 件 |
富士フイルム株式会社 | 585 件 |
三井化学株式会社 | 521 件 |
日本ゼオン株式会社 | 488 件 |
信越化学工業株式会社 | 446 件 |
三菱ケミカル株式会社 | 429 件 |
株式会社クラレ | 421 件 |
旭化成株式会社 | 395 件 |
JSR株式会社 | 330 件 |
三菱化学株式会社 | 3 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
技術テーマ「付加系重合体、後処理、化学変成技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位出願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の256件、次に多いのは 三井化学株式会社 の97件です。
上位出願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の892件、次に多いのは 株式会社日本触媒 の608件です。
付加系重合体、後処理、化学変成技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
付加系重合体、後処理、化学変成技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
三井化学株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 521件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計338件)の平均値は56.3件、中央値は56.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.23であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2018年 の70件、最も少ない年は 2014年 の33件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 56.3 件 |
標準偏差 | 12.8 |
変動係数 | 0.23 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 59 件 | +9.26 % |
2021 年 | 54 件 | -22.86 % |
2020 年 | 70 件 | +32.1 % |
住友化学株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 892件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計577件)の平均値は96.2件、中央値は104件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.22であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2020年 の115件、最も少ない年は 2014年 の49件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 96.2 件 |
標準偏差 | 20.8 |
変動係数 | 0.22 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 115 件 | +15.00 % |
2021 年 | 100 件 | -13.04 % |
2020 年 | 115 件 | +43.8 % |
JSR株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 330件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計98件)の平均値は16.3件、中央値は18.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の85件、最も少ない年は 2022年 の9件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 16.3 件 |
標準偏差 | 6.8 |
変動係数 | 0.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 9 件 | -43.8 % |
2021 年 | 16 件 | -20.00 % |
2020 年 | 20 件 | -13.04 % |
株式会社日本触媒 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 608件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計262件)の平均値は43.7件、中央値は50.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の96件、最も少ない年は 2022年 の31件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 43.7 件 |
標準偏差 | 16.5 |
変動係数 | 0.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 31 件 | -40.4 % |
2021 年 | 52 件 | +6.12 % |
2020 年 | 49 件 | -14.04 % |
富士フイルム株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 585件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計264件)の平均値は44.0件、中央値は48.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の93件、最も少ない年は 2022年 の13件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 44.0 件 |
標準偏差 | 28.8 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 13 件 | -73.5 % |
2021 年 | 49 件 | +2.08 % |
2020 年 | 48 件 | -36.0 % |
付加系重合体、後処理、化学変成技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、付加系重合体、後処理、化学変成技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-10-01〜2024-09-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 64件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7432776号「発光素子封止用樹脂組成物、光源装置及び光源装置の製造方法」(異議申立日 2024-08-09)、次は 特許7449713号「硬化性樹脂組成物、硬化物及び電子部品」(異議申立日 2024-07-19)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7432776 | 発光素子封止用樹脂組成物、光源装置及び光源装置の製造方法 | 2024-08-09 |
2 | 特許7449713 | 硬化性樹脂組成物、硬化物及び電子部品 | 2024-07-19 |
3 | 特許7467915 | 成形材料及び成形体 | 2024-05-27 |
4 | 特許7375658 | 樹脂組成物 | 2024-05-08 |
5 | 特許7380804 | 樹脂組成物、ペレット、電力ケーブル、および電力ケーブルの製造方法 | 2024-05-08 |
6 | 特許7364703 | 長鎖分岐プロピレンポリマー組成物 | 2024-04-17 |
7 | 特許7352428 | 吸収性樹脂粒子及びその製造方法 | 2024-03-28 |
8 | 特許7353441 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、ハードコート積層フィルム、及びガラス外貼り用フィルム | 2024-03-28 |
9 | 特許7354335 | 重合体粒子 | 2024-03-28 |
10 | 特許7332982 | 炭素原子間の不飽和結合によるプラズマ硬化性化合物を含む段差基板被覆膜形成組成物 | 2024-02-22 |
直近3年間(2021-10-01〜2024-09-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 209件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-169275号「分散液」(情報提供日 2024-09-06)、次は 特開2022-016991号「吸水剤」(情報提供日 2024-09-04)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-169275 | 分散液 | 2024-09-06 |
2 | 特開2022-016991 | 吸水剤 | 2024-09-04 |
3 | 特開2023-046712 | 変性ポリオレフィン | 2024-08-09 |
4 | 特許7558864 | 粘着剤組成物及び粘着シート | 2024-08-09 |
5 | 特表2023-525072 | 二重反応性コーティング組成物、その製造及びその使用 | 2024-08-05 |
6 | 特開2023-029998 | 新規エマルション及びこのエマルションを用いた塗料用組成物 | 2024-07-29 |
7 | 特開2022-074994 | 劣化が抑制された凝集処理剤 | 2024-07-16 |
8 | 特表2023-510818 | 超低粘度エチレン-ブテン共重合体およびそれを含むホットメルト接着剤用組成物 | 2024-07-10 |
9 | 特開2024-050739 | 中空粒子及びその製造方法 | 2024-07-05 |
10 | 特開2021-190428 | 有機発光素子封止用組成物およびこれにより製造された有機層を含む有機発光表示装置 | 2024-07-02 |
11 | 特開2021-006625 | 熱膨張性マイクロカプセル、成形用樹脂組成物及び発泡成形体 | 2024-06-28 |
12 | 特許7517182 | 中空樹脂粒子の製造方法 | 2024-06-28 |
13 | 特開2022-020525 | 高分子凝集剤組成物及びそれを用いる汚泥処理方法 | 2024-06-25 |
14 | 再公表2020/085413 | 光反応性組成物 | 2024-06-25 |
15 | 特開2023-023224 | 感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその製造方法、並びに表示素子 | 2024-06-12 |
16 | 特開2021-103228 | 感光性組成物 | 2024-06-11 |
17 | 特開2022-080874 | 紙力増強剤および紙 | 2024-06-08 |
18 | 特開2021-160343 | 積層フィルム | 2024-06-04 |
19 | 特表2023-540289 | 高吸水性樹脂およびその製造方法 | 2024-05-31 |
20 | 特開2022-111181 | 表面処理剤 | 2024-05-30 |
直近10年間(2014-10-01〜2024-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 487件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 再公表2015/098980号「光学用熱可塑性樹脂、および成形体」(7回)、次に多い特許は 特開2023-029998号「新規エマルション及びこのエマルションを用いた塗料用組成物」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 再公表2015/098980 | 光学用熱可塑性樹脂、および成形体 | 7 回 |
2 | 特開2023-029998 | 新規エマルション及びこのエマルションを用いた塗料用組成物 | 6 回 |
3 | 特許7255544 | 離型層、離型層を備える成形体および離型剤 | 5 回 |
4 | 特開2019-073583 | 有機微粒子及びその製造方法 | 4 回 |
5 | 特許6979268 | シーラー用樹脂エマルション | 4 回 |
直近3年間(2021-10-01〜2024-09-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 264件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2022-016991号「吸水剤」(閲覧請求日 2024-09-10)、次は 特表2022-512446号「オレフィン重合のための複素環-複素環系IV族遷移金属触媒」(閲覧請求日 2024-09-09)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-016991 | 吸水剤 | 2024-09-10 |
2 | 特表2022-512446 | オレフィン重合のための複素環-複素環系IV族遷移金属触媒 | 2024-09-09 |
3 | 特表2023-533105 | 電解質用二官能性イオン液体 | 2024-08-29 |
4 | 特許7558864 | 粘着剤組成物及び粘着シート | 2024-08-26 |
5 | 特開2021-026229 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2024-08-23 |
6 | 特開2023-029998 | 新規エマルション及びこのエマルションを用いた塗料用組成物 | 2024-08-09 |
7 | 特開2021-161410 | ハイブリッド光硬化組成物 | 2024-08-07 |
8 | 特開2022-167558 | ジビニルベンジルフルオレン化合物及びその製造方法、それから得られる硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂硬化物、光学物品及び撮像装置 | 2024-08-02 |
9 | 特許7534321 | 三官能性長鎖分岐ポリオレフィン | 2024-07-31 |
10 | 特開2021-103228 | 感光性組成物 | 2024-07-31 |
11 | 特開2021-006625 | 熱膨張性マイクロカプセル、成形用樹脂組成物及び発泡成形体 | 2024-07-23 |
12 | 特開2022-074994 | 劣化が抑制された凝集処理剤 | 2024-07-19 |
13 | 特開2023-094103 | 熱可塑性樹脂の製造方法 | 2024-07-11 |
14 | 特開2024-050739 | 中空粒子及びその製造方法 | 2024-07-11 |
15 | 特開2024-032869 | 硬化膜の製造方法、およびその使用 | 2024-07-04 |
16 | 特許7517182 | 中空樹脂粒子の製造方法 | 2024-07-04 |
17 | 再公表2020/085413 | 光反応性組成物 | 2024-07-02 |
18 | 特開2022-020525 | 高分子凝集剤組成物及びそれを用いる汚泥処理方法 | 2024-07-01 |
19 | 特開2022-111181 | 表面処理剤 | 2024-07-01 |
20 | 特開2024-073474 | 多環芳香族含有ポリマーを含むレジスト下層膜形成用組成物 | 2024-06-20 |
直近10年間(2014-10-01〜2024-09-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 573件 ありました。平均閲覧請求数は 1.5回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特開2019-073583号「有機微粒子及びその製造方法」(8回)、次に多い特許は 特許7329353号「ビニル重合体微粒子並びにそれを用いたマスターバッチ及び樹脂フィルム」(8回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特開2019-073583 | 有機微粒子及びその製造方法 | 8 回 |
2 | 特許7329353 | ビニル重合体微粒子並びにそれを用いたマスターバッチ及び樹脂フィルム | 8 回 |
3 | 特開2015-146038 | 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜 | 7 回 |
4 | 特許6693127 | ビニル重合体粉体の製造方法 | 7 回 |
5 | 特許7217146 | 新規エマルション及びこのエマルションを用いた塗料用組成物 | 7 回 |
直近10年間(2014-10-01〜2024-09-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,964件 ありました。平均被引用数は 2.7回 です。 被引用数が多い特許は 特許6702264号「レジスト材料及びパターン形成方法」(36回)、次に多い特許は 特許6531723号「レジスト材料及びパターン形成方法」(29回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6702264 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 36 回 |
2 | 特許6531723 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 29 回 |
3 | 特開2017-197690 | 共重合体及び成形体の製造方法 | 28 回 |
4 | 特許6995534 | 可溶性多官能ビニル芳香族共重合体、その製造方法、硬化性樹脂組成物及びその硬化物 | 26 回 |
5 | 特許6364361 | 光増感化学増幅型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法、並びに、半導体デバイス、リソグラフィ用マスク及びナノインプリント用テンプレートの製造方法 | 26 回 |
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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