最終更新日:2022/06/21

付加系重合体、後処理、化学変成技術 (特許分析レポート・日本)

テーマコード「付加系重合体、後処理、化学変成技術」の直近(2020-01-01〜2020-09-30)の特許出願件数は 951件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-09-30)の特許出願件数 1,342件 に比べて -391件(-29.1%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2012年 の2,329件、最も少ない年は 2020年 の1,148件です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計9,085件)の平均値は1,817件、中央値は1,983件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.19であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 1,817
標準偏差 344
変動係数 0.19

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 1,148 -37.8 %
2019 年 1,846 -6.91 %
2018 年 1,983 -1.83 %

付加系重合体、後処理、化学変成技術[4J100]の過去10年間(2012-01-01〜2022-05-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、付加系重合体、後処理、化学変成技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、付加系重合体、後処理、化学変成技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった付加系重合体、後処理、化学変成技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedInからお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「付加系重合体、後処理、化学変成技術」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「付加系重合体、後処理、化学変成技術」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

付加系重合体、後処理、化学変成技術 日本特許件数 推移

付加系重合体、後処理、化学変成技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、付加系重合体、後処理、化学変成技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析できます。 

特徴語 (重要度)

付加系重合体、後処理、化学変成技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「17,937件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
テーマコード:
付加系重合体、後処理、化学変成技術[4J100]
特許分析期間
2012-01-01〜2022-05-31
対象件数
17,937

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

技術テーマ「付加系重合体、後処理、化学変成技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の185件、次に多いのは 三井化学株式会社 の59件です。

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
住友化学株式会社 185
三井化学株式会社 59
株式会社日本触媒 34
株式会社クラレ 27
富士フイルム株式会社 18
JSR株式会社 14

対象期間(2012〜2022年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の897件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の731件です。

対象期間(2012〜2022年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
住友化学株式会社 897
富士フイルム株式会社 731
株式会社日本触媒 628
株式会社クラレ 450
JSR株式会社 432
三井化学株式会社 429
三菱化学株式会社 23

上位企業 日本特許件数 推移

付加系重合体、後処理、化学変成技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

三井化学株式会社 の特許出願傾向

三井化学株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 429件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計272件)の平均値は54.4件、中央値は52.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.11であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

出願件数が最も多い年は 2018年 の66件、最も少ない年は 2014年 の33件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 54.4
標準偏差 5.9
変動係数 0.11
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 53 +1.92 %
2019 年 52 -21.21 %
2018 年 66 +29.41 %

住友化学株式会社 の特許出願傾向

住友化学株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 897件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計408件)の平均値は81.6件、中央値は77.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.21であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は増加傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の198件、最も少ない年は 2014年 の48件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 81.6
標準偏差 17.1
変動係数 0.21
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 108 +47.9 %
2019 年 73 +25.86 %
2018 年 58 -24.68 %

JSR株式会社 の特許出願傾向

JSR株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 432件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計158件)の平均値は31.6件、中央値は32.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

出願件数が最も多い年は 2014年 の85件、最も少ない年は 2020年 の11件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 31.6
標準偏差 13.9
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 11 -65.6 %
2019 年 32 +23.08 %
2018 年 26 -25.71 %

株式会社日本触媒 の特許出願傾向

株式会社日本触媒 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 628件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計304件)の平均値は60.8件、中央値は58.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の95件、最も少ない年は 2020年 の31件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 60.8
標準偏差 18.6
変動係数 0.3
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 31 -45.6 %
2019 年 57 -1.72 %
2018 年 58 -17.14 %

富士フイルム株式会社 の特許出願傾向

富士フイルム株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 731件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計299件)の平均値は59.8件、中央値は70.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の130件、最も少ない年は 2020年 の18件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 59.8
標準偏差 22.0
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 18 -74.3 %
2019 年 70 -6.67 %
2018 年 75 +29.31 %

重要特許情報   (日本)

付加系重合体、後処理、化学変成技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、付加系重合体、後処理、化学変成技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 69件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6944610号「非水電解質二次電池電極用バインダー」(異議申立日 2022-04-04)、次は 特許6943270号「熱硬化性接着シート、およびその利用」(異議申立日 2022-03-25)です。

直近の異議申立 (2019-06-01〜2022-05-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6944610 非水電解質二次電池電極用バインダー 2022-04-04
2 特許6943270 熱硬化性接着シート、およびその利用 2022-03-25
3 特許6922865 硬化性組成物、その製造方法、及びそれを用いた物品 2022-02-17
4 特許6915046 非水電解質二次電池電極用バインダー 2022-02-04
5 特許6908205 紙力増強剤、紙および紙の製造方法 2022-01-18
6 特許6888139 二次電池用結着剤 2021-12-16
7 特許6892041 汚泥脱水剤及び汚泥脱水方法 2021-12-08
8 特許6884898 研磨用組成物 2021-12-07
9 特許6880201 環化重合性モノマーを含有する3Dプリント用インク 2021-12-02
10 特許6874682 非水電解質二次電池用の正極材料 2021-11-19

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 248件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2020-128538号「離型層、離型層を備える成形体および離型剤」(情報提供日 2022-05-24)、次は 特表2021-518453号「高固形分、無界面活性剤フルオロポリマー」(情報提供日 2022-05-02)です。

直近の情報提供 (2019-06-01〜2022-05-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2020-128538 離型層、離型層を備える成形体および離型剤 2022-05-24
2 特表2021-518453 高固形分、無界面活性剤フルオロポリマー 2022-05-02
3 特開2020-055978 樹脂組成物 2022-04-27
4 再公表2020/054416 ビニル系樹脂粒子及びその製造方法 2022-04-15
5 特開2020-105358 プロピレン系重合体を含む延伸フィルム 2022-04-15
6 特開2019-189786 メタクリル系樹脂、成形品、車両用部材及びメタクリル系樹脂の製造方法 2022-04-14
7 特表2021-517930 高吸水性樹脂の製造方法 2022-04-14
8 特開2019-143057 光硬化性組成物およびディスプレイ 2022-04-06
9 特開2019-160690 電極用バインダー、電極合剤、エネルギーデバイス用電極及びエネルギーデバイス 2022-04-06
10 特開2019-160691 電極用バインダー、電極合剤、エネルギーデバイス用電極及びエネルギーデバイス 2022-04-06
11 特開2021-155645 バイオマス(メタ)アクリル共重合体、それを含むコーティング剤及びインク組成物、並びにこれらの製造方法 2022-04-06
12 再公表2020/045514 製紙用添加剤、紙及び紙の製造方法 2022-04-05
13 再公表2019/017240 フォームラバーの製造方法 2022-04-01
14 特開2019-173220 紙コーティング用(メタ)アクリル樹脂エマルション、膜、及び積層体 2022-04-01
15 特開2019-077855 (メタ)アクリル系樹脂組成物、ならびにそれを用いた成形品およびフィルム 2022-03-29
16 特開2019-214652 アクリル系ポリマーの製造方法 2022-03-16
17 特開2020-084134 プロピレン系樹脂組成物および成形体 2022-03-16
18 特開2020-189913 スチレン系樹脂組成物およびその製造方法 2022-03-15
19 特許7051582 メタクリル系樹脂組成物及び成形体 2022-03-10
20 特開2017-101230 メタクリル系樹脂、メタクリル系樹脂組成物、フィルム 2022-03-07

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 498件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 情報提供数が多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(12回)、次に多い特許は 特許6313974号「架橋アクリル系樹脂粒子及びその製造方法、樹脂組成物並びに包装物品」(8回)です。

10年間(2012-06-01〜2022-05-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5880584 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 12
2 特許6313974 架橋アクリル系樹脂粒子及びその製造方法、樹脂組成物並びに包装物品 8
3 再公表2015/098980 光学用熱可塑性樹脂、および成形体 7
4 特許6964229 水性エマルション、その製造方法及びこれを用いた水性コーティング剤フィルム 7
5 特許6111257 高充填あるいは繊維フリーの衛生物品用の高吸収性ポリマー 6

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2019-06-01〜2022-05-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 291件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2020-055978号「樹脂組成物」(閲覧請求日 2022-05-24)、次は 再公表2019/074099号「吸水性樹脂及び吸収性物品」(閲覧請求日 2022-05-12)です。

直近の閲覧請求 (2019-06-01〜2022-05-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2020-055978 樹脂組成物 2022-05-24
2 再公表2019/074099 吸水性樹脂及び吸収性物品 2022-05-12
3 特開2019-143057 光硬化性組成物およびディスプレイ 2022-05-11
4 特開2019-173220 紙コーティング用(メタ)アクリル樹脂エマルション、膜、及び積層体 2022-05-10
5 特開2021-155645 バイオマス(メタ)アクリル共重合体、それを含むコーティング剤及びインク組成物、並びにこれらの製造方法 2022-05-06
6 特開2019-160690 電極用バインダー、電極合剤、エネルギーデバイス用電極及びエネルギーデバイス 2022-04-27
7 特開2019-160691 電極用バインダー、電極合剤、エネルギーデバイス用電極及びエネルギーデバイス 2022-04-27
8 特許6880201 環化重合性モノマーを含有する3Dプリント用インク 2022-04-26
9 特開2021-119058 環化重合性モノマーを含有する3Dプリント用インク 2022-04-26
10 再公表2020/054416 ビニル系樹脂粒子及びその製造方法 2022-04-22
11 特開2019-189786 メタクリル系樹脂、成形品、車両用部材及びメタクリル系樹脂の製造方法 2022-04-21
12 特開2019-077855 (メタ)アクリル系樹脂組成物、ならびにそれを用いた成形品およびフィルム 2022-04-20
13 特表2021-517930 高吸水性樹脂の製造方法 2022-04-20
14 再公表2019/017240 フォームラバーの製造方法 2022-04-12
15 再公表2020/045514 製紙用添加剤、紙及び紙の製造方法 2022-04-08
16 特開2020-145073 電極用バインダー、電極合剤、エネルギーデバイス用電極及びエネルギーデバイス 2022-03-31
17 特許5621275 イオンプランテーション用フォトレジストパターン形成方法。 2022-03-28
18 特開2019-189861 ビニル重合体微粒子並びにそれを用いたマスターバッチ及び樹脂フィルム 2022-03-25
19 特開2021-176963 樹脂及びレジスト組成物 2022-03-22
20 特表2019-534908 織物布地の仕上げのためのフッ素を含まない水性分散液 2022-03-22

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被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 616件 ありました。平均閲覧請求数は 2.1回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6313974号「架橋アクリル系樹脂粒子及びその製造方法、樹脂組成物並びに包装物品」(22回)、次に多い特許は 特許5880584号「化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法」(16回)です。

10年間(2012-06-01〜2022-05-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6313974 架橋アクリル系樹脂粒子及びその製造方法、樹脂組成物並びに包装物品 22
2 特許5880584 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 16
3 特開2015-146038 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜 14
4 特許6430098 タッチパネル電極の保護膜用感光性透明材 12
5 特許5561410 共役ジエンゴム組成物 10

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2012-06-01〜2022-05-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 4,415件 ありました。平均被引用数は 2.8回 です。 被引用数が多い特許は 特許6287369号「フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体」(34回)、次に多い特許は 特許6060577号「ネガ型レジストパターン形成方法」(29回)です。

10年間(2012-06-01〜2022-05-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6287369 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体 34
2 特許6060577 ネガ型レジストパターン形成方法 29
3 特許5908393 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス 27
4 特開2013-033249 偏光素子、円偏光板及びそれらの製造方法 26
5 特許6364361 光増感化学増幅型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法、並びに、半導体デバイス、リソグラフィ用マスク及びナノインプリント用テンプレートの製造方法 25

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