JSR株式会社 (特許分析レポート・日本)
本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』（以下、「JSR株式会社」と略します）に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
出願人・権利者「JSR株式会社」の直近(2023-01-01〜2023-08-31)の特許出願件数は 40件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-08-31)の特許出願件数 38件 に比べて +2件(5.3%) と堅調に推移しています。
出願件数が最も多い年は 2020年 の98件、最も少ない年は 2023年 の47件です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計438件)の平均値は73.0件、中央値は69.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 73.0 件 |
| 標準偏差 | 40.1 |
| 変動係数 | 0.5 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023 年 | 47 件 | -20.34 % |
| 2022 年 | 59 件 | -25.32 % |
| 2021 年 | 79 件 | -19.39 % |
JSR株式会社の過去5年間(2020-01-01〜2025-04-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ（日米欧・国際公開）に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、JSR株式会社の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、JSR株式会社の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったJSR株式会社の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
【監修者】
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。
はじめに
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン＆クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。
生成ＡＩを利用した特許読解アシスタント「サマリア」
特許文書の読解にストレスを感じている皆様へ。 弁理士が開発した「サマリア」は、特許文書読解の時間短縮と理解の深化を実現するＡＩアシスタントサービスです。 「サマリア」は用語解説、サマリ作成、独自分類付与、スクリーニング、発明評価など知財担当者に寄り添う様々な機能を提供します。 また、英語・中国語にも対応しています。
特許読解アシスタント「サマリア」の詳細は、以下をご覧ください。
JSR株式会社 日本特許件数 推移
JSR株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パテント・ランドスケープ ({{ld.d.db_name|country_map}})
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、JSR株式会社においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
また、「出願人・権利者」で確認できる関連分野の企業等が、「JSR株式会社」のどのような技術分野で関わっているかを確認することができます。例えば、他の企業等は「JSR株式会社」と、競合企業、サプライヤ、顧客企業として関連する可能性があります。
特徴語 (重要度)
JSR株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
検索集合 (分析対象)
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「297件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
JSR株式会社
同業・競合企業 情報 (日本)
JSR株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2023〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社日本触媒 の120件、次に多いのは 日本ゼオン株式会社 の68件です。
対象期間(2020〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2020〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社日本触媒 の635件、次に多いのは 日本ゼオン株式会社 の549件です。
同業・競合企業 日本特許件数 ランキング
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業・競合企業 日本特許件数 推移
同業3社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
上位共願人 情報 (日本)
JSR株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。
上位共願人を確認することで、JSR株式会社がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。
また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、JSR株式会社のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人 日本特許件数 ランキング
JSR株式会社 の過去20年間の 上位共願人2社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人 日本特許件数 推移
JSR株式会社 の過去20年間の 上位共願人2社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
上位共願人 詳細 (日本)
重要特許情報 (日本)
JSR株式会社 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、JSR株式会社が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
一方、無効審判請求がなされた特許は他社の事業を阻害している可能性が特に高い重要な特許であるといえます。
また、情報提供又は異議申立がなされた特許出願は、無効審判請求ほど致命的ではないものの権利化が認められない第三者がいることから、「JSR株式会社」の業界における注目特許であるといえます。
いずれにしてもこれらの重要特許の内容を確認することが、知財的なリスク管理の観点でも、ビジネス的に重要な技術を知る意味でも重要になります。
用語解説
- 被引用
- 他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
- 無効審判請求
- 特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
- 異議申立
- 第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
- 情報提供
- 出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
- 閲覧請求
- 第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。
被異議申立 特許
直近の 被異議申立特許 一覧
直近3年間(2022-05-01〜2025-04-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 4件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7226336号「パターン形成方法」(異議申立日 2023-08-21)、次は 特許7196389号「半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法」(異議申立日 2023-06-27)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特許7226336 | パターン形成方法 | 2023-08-21 |
| 2 | 特許7196389 | 半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法 | 2023-06-27 |
| 3 | 特許7135328 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2023-03-13 |
被情報提供 特許
直近の 被情報提供特許 一覧
直近3年間(2022-05-01〜2025-04-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 4件 ありました。平均情報提供数は 2.0回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2023-023224号「感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその製造方法、並びに表示素子」(情報提供日 2024-06-12)、次は 特許7517208号「液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法」(情報提供日 2024-02-19)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2023-023224 | 感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその製造方法、並びに表示素子 | 2024-06-12 |
| 2 | 特許7517208 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 | 2024-02-19 |
| 3 | 特許7616162 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 | 2024-02-07 |
被情報提供数 上位特許
直近5年間(2020-05-01〜2025-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 2件 ありました。平均情報提供数は 1.0回 です。 情報提供数が多い特許は 特開2023-023224号「感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその製造方法、並びに表示素子」(1回)、次に多い特許は 特許7517208号「液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法」(1回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2023-023224 | 感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその製造方法、並びに表示素子 | 1 回 |
| 2 | 特許7517208 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 | 1 回 |
被閲覧請求 特許
直近の 被閲覧請求特許 一覧
直近3年間(2022-05-01〜2025-04-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 5件 ありました。平均閲覧請求数は 1.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-131106号「液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子」(閲覧請求日 2024-11-01)、次は 特許7517208号「液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法」(閲覧請求日 2024-03-28)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2023-131106 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2024-11-01 |
| 2 | 特許7517208 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 | 2024-03-28 |
| 3 | 特許7196389 | 半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法 | 2023-03-03 |
被閲覧請求数 上位特許
直近5年間(2020-05-01〜2025-04-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 2件 ありました。平均閲覧請求数は 1.5回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特開2023-131106号「液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子」(2回)、次に多い特許は 特許7517208号「液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法」(1回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2023-131106 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2 回 |
| 2 | 特許7517208 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 | 1 回 |
被引用 特許
被引用数 上位特許
直近5年間(2020-05-01〜2025-04-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 16件 ありました。平均被引用数は 1.4回 です。 被引用数が多い特許は 特開2023-074267号「ウェアラブル装置及び検出方法」(4回)、次に多い特許は 特許7530572号「感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び単量体化合物の製造方法」(3回)です。
| - | 特許番号 | 発明の名称 | # |
|---|---|---|---|
| 1 | 特開2023-074267 | ウェアラブル装置及び検出方法 | 4 回 |
| 2 | 特許7530572 | 感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び単量体化合物の製造方法 | 3 回 |
| 3 | 特許7509080 | 感放射線性組成物、硬化膜の製造方法、半導体素子及び表示素子 | 2 回 |
メディア(新聞、雑誌等)への特許情報提供
『パテント・インテグレーション レポート』は、知的財産権の専門家である弁理士が運営する「パテント・インテグレーション株式会社」が提供するウェブサービスです。 最新の特許データに基づき、様々な企業、技術分野の技術動向情報を提供する国内最大規模の特許レポートサービスです。
本ウェブサービスは、知的財産権への関心有無に関わらず、多くの方々に知財情報を身近に感じて頂き、活用いただくことを目的としています。
弊社では、新聞、雑誌、ウェブメディア等の様々なメディアの各種記事において活用できる各種特許情報の提供を積極的に行っております。 提供可能な特許情報の内容についてはお気軽に『お問い合わせフォーム』からお問い合わせください。
主要メディアにおける掲載実績
- 2023-08-07 新聞記事
- 日経新聞の全国紙朝刊の記事「東芝、混乱の末の非公開化 15年で売上高6割減」にて、東芝の出願件数減少に関する記事において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-12-26 新聞記事
- 毎日新聞の全国紙朝刊の記事「日産・ルノー、出資比率下げ交渉越年へ 知財がネックとなるワケは…」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-11-09 新聞記事
- 読売新聞の全国紙朝刊の記事「ルノー・日産 協議難航…ＥＶ新会社 知財の扱い・資本見直し」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
コンテンツについて
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「特許から見たSDGsグローバル企業ランキング」に掲載されているグローバル特許出願状況やランキング情報、母集団検索式を利用された上で生じるいかなる損害・損失についても当社・株式会社イーパテントでは対応いたしかねます。「関連する特許レポートはありません」となっているターゲットは現時点で未対応（特許情報分析からのアプローチでは難しいと判断）です。
特許出願状況やランキング情報の引用
特許出願状況やランキング情報を引用いただく点は問題ありませんが、その際は引用元として「出所：株式会社イーパテント」を明記いただくようにお願いいたします。
各種グラフはイメージデータとなっておりますが、テキストデータでの提供はいたしかねますので、ご了承ください。
各ゴール・ターゲットの対象範囲について
- SDGsの各ゴールやターゲットの説明文を基に、当社・イーパテントの過去の経験等に基づき対象となるテクノロジーの範囲を設定しております（場合によっては社会課題そのもので検索してる場合もあります）。そのため、本「特許から見たSDGsグローバル企業ランキング」で100%カバーできていない可能性もありますので、ご注意ください。
- 各ゴール・ターゲットには母集団検索式を明示しております（データベース：パテント・インテグレーション）。こちらの母集団検索式をそのままご利用いただいても、また母集団検索式をご自身で改良いただく点も問題ありませんが、上述の通り本母集団検索式を利用されて生じるいかなる損害・損失についても対応いたしかねますのでご了承ください。
- 対象としているのは特許と実用新案で、公開・登録のいずれも含んでおります（意匠・デザイン特許は除外）。カウント単位はパテントファミリー数ではなく出願件数となります。
出願人・権利者名義の名寄せ・名義統制について
- 企業ランキングについては「パテント・インテグレーション」により算出した結果を基に、日本組織は日本語、その他企業は英語（一部日本語にしているものもあります）にしております。
- 企業名は出願当時の社名の場合もありますが、「パテント・インテグレーション」で算出した結果をそのまま利用しております。
- 企業名（＝特許情報では出願人・権利者名）の名前には揺らぎがある関係上、トップ10内に同一企業が2回以上登場するケースもあります。2つ以上に分割されている場合、これらの出願件数を単純に合算すればその企業の出願件数になるわけではありませんのでご留意ください。
なお、個人の氏名等の個人情報等の削除をご希望の場合は「削除申請フォーム」より必要事項を記載し、送信してください。 その他、本サービスについてお気づきの点がございましたら、「お問い合わせ」よりお気軽にお知らせください。
クレジット表記
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安心・安全への取り組み
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント