最終更新日:2022/08/09

JSR株式会社 (特許分析レポート・日本)

出願人・権利者「JSR株式会社」の直近(2020-01-01〜2020-11-30)の特許出願件数は 44件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-11-30)の特許出願件数 119件 に比べて -75件(-63.0%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2014年 の328件、最も少ない年は 2020年 の47件です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計768件)の平均値は154件、中央値は153件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 154
標準偏差 67.1
変動係数 0.4

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 47 -65.4 %
2019 年 136 -11.11 %
2018 年 153 -13.56 %

JSR株式会社の過去10年間(2012-01-01〜2022-07-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、JSR株式会社の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、JSR株式会社の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったJSR株式会社の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedInからお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「JSR株式会社」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「JSR株式会社」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

JSR株式会社 日本特許件数 推移

JSR株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、JSR株式会社においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析できます。 

特徴語 (重要度)

JSR株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「1,959件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
JSR株式会社
特許分析期間
2012-01-01〜2022-07-31
対象件数
1,959

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

JSR株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

特許検索機能の紹介

出願人、出願日、類似特許検索などさまざな検索機能を利用することで競合分析なども短時間で行えます。

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社日本触媒 の186件、次に多いのは 日本ゼオン株式会社 の184件です。

対象期間(2012〜2022年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 日本ゼオン株式会社 の3,250件、次に多いのは 株式会社日本触媒 の2,493件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業13社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 情報  (日本)

JSR株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。

上位共願人を確認することで、JSR株式会社がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。

また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、JSR株式会社のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

対象期間(2012〜2022年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、共願件数が最も多いのは JSRライフサイエンス株式会社 の71件、次に多いのは ディーエスエムアイピーアセッツビーブイ の4件です。

上位共願人 日本特許件数 推移

JSR株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

ディーエスエムアイピーアセッツビーブイ の特許共願傾向

ディーエスエムアイピーアセッツビーブイ の分析対象期間(2012〜2022年)の共願件数は 4件 です。

過去10年間の共願件数(2011〜2020年、計4件)の平均値は0.4件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は2.0であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2013年 の2件、最も少ない年は 2014年 の0件です。

過去10年間(2011〜2020年)の共願情報
指標
平均値 0.4
標準偏差 0.8
変動係数 2.0
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2013 年 2 0
2012 年 2 -
2011 年 0 -

学校法人神奈川大学 の特許共願傾向

学校法人神奈川大学 の分析対象期間(2012〜2022年)の共願件数は 3件 です。

過去10年間の共願件数(2011〜2020年、計8件)の平均値は0.8件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.9であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2012年 の2件、最も少ない年は 2014年 の0件です。

過去10年間(2011〜2020年)の共願情報
指標
平均値 0.8
標準偏差 1.5
変動係数 1.9
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2013 年 1 -50.0 %
2012 年 2 -60.0 %
2011 年 5 -

JSRライフサイエンス株式会社 の特許共願傾向

JSRライフサイエンス株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の共願件数は 71件 です。

過去5年間の共願件数(2016〜2020年、計42件)の平均値は8.4件、中央値は6.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.0であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の共願件数は減少傾向です。 共願件数が最も多い年は 2016年 の22件、最も少ない年は 2012年 の0件です。

過去5年間(2016〜2020年)の共願情報
指標
平均値 8.4
標準偏差 8.2
変動係数 1.0
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2019 年 1 -83.3 %
2018 年 6 -53.8 %
2017 年 13 -40.9 %

重要特許情報   (日本)

JSR株式会社 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、JSR株式会社が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2019-08-01〜2022-07-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 6件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6962449号「液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子」(異議申立日 2022-04-28)、次は 特許6828782号「蓄電デバイス用組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極、及び蓄電デバイス」(異議申立日 2021-08-10)です。

直近の異議申立 (2019-08-01〜2022-07-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6962449 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 2022-04-28
2 特許6828782 蓄電デバイス用組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極、及び蓄電デバイス 2021-08-10
3 特許6777629 分離方法、検出方法、シグナル測定方法、疾患の判定方法、薬効評価方法、キット、液状組成物及び検体希釈液 2021-04-28
4 特許6711104 レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 2020-12-07
5 特許6520091 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 2019-11-26
6 特許6508247 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール 2019-11-06

1件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2019-08-01〜2022-07-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 9件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 再公表2019/022069号「近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置」(情報提供日 2022-06-22)、次は 特許6711104号「レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法」(情報提供日 2021-07-07)です。

直近の情報提供 (2019-08-01〜2022-07-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 再公表2019/022069 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 2022-06-22
2 特許6711104 レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 2021-07-07
3 特許6969623 蓄電デバイス用組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極、保護膜用スラリー、及び蓄電デバイス 2021-06-14
4 特許6885079 変性共役ジエン系重合体の製造方法、重合体組成物、架橋重合体及びタイヤ 2020-12-03
5 特許7028241 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 2020-09-07
6 特許6851109 抗体を精製する方法及び担体を洗浄する方法 2020-05-18
7 特開2018-048042 シリカ系粒子の製造方法、シリカ系粒子、および化学機械研磨用組成物 2019-12-27
8 特許6969086 カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、表示素子および保護膜形成用樹脂組成物 2019-10-15
9 特許6682795 液晶配向膜の製造方法、液晶素子の製造方法及び光配向用重合体組成物 2019-08-20

4件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2012-08-01〜2022-07-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 46件 ありました。平均情報提供数は 2.5回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6003463号「固形燃料の製造方法」(8回)、次に多い特許は 特許6331392号「光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール」(6回)です。

10年間(2012-08-01〜2022-07-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6003463 固形燃料の製造方法 8
2 特許6331392 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール 6
3 特開2014-044431 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 6
4 特開2015-134929 電極用共重合体ラテックス並びにそれを含有する組成物およびその応用製品 4
5 特開2015-022956 蓄電デバイス用スラリー、蓄電デバイス電極、セパレーターおよび蓄電デバイス 4

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2019-08-01〜2022-07-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 14件 ありました。平均閲覧請求数は 2.6回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 再公表2019/022069号「近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置」(閲覧請求日 2022-07-04)、次は 特許5621275号「イオンプランテーション用フォトレジストパターン形成方法。」(閲覧請求日 2022-03-28)です。

直近の閲覧請求 (2019-08-01〜2022-07-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 再公表2019/022069 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 2022-07-04
2 特許5621275 イオンプランテーション用フォトレジストパターン形成方法。 2022-03-28
3 特許6885079 変性共役ジエン系重合体の製造方法、重合体組成物、架橋重合体及びタイヤ 2020-12-14
4 特許3860806 カラーフィルタ用着色層の形成方法 2020-11-05
5 再公表2015/008626 蓄電デバイス用バインダー組成物、蓄電デバイス用スラリー、蓄電デバイス電極、セパレーターおよび蓄電デバイス 2020-02-07
6 特許5540599 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子 2020-02-06
7 再公表2017/014283 水添共役ジエン系重合体及びその製造方法、重合体組成物、架橋重合体、並びにタイヤ 2020-01-30
8 特許6503064 水添共役ジエン系ゴム、ゴム組成物、架橋ゴム及びタイヤ 2020-01-30
9 再公表2017/014281 水添共役ジエン系重合体及びその製造方法、重合体組成物、架橋重合体、並びにタイヤ 2020-01-30
10 再公表2017/014282 水添共役ジエン系重合体及びその製造方法、重合体組成物、架橋重合体、並びにタイヤ 2020-01-30
11 特許3988495 水添変性重合体及びその製造方法並びにそれを含む組成物 2020-01-30
12 特許6004081 タイヤ用部材、及び、重合体組成物 2020-01-24
13 特許6686657 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、表示素子及び固体撮像素子 2019-11-01
14 特許4692540 レジスト下層膜用組成物およびその製造方法 2019-08-20

9件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2012-08-01〜2022-07-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 35件 ありました。平均閲覧請求数は 3.1回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特開2014-044431号「近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置」(8回)、次に多い特許は 特許6269914号「蓄電デバイス用電極、電極用スラリー、および蓄電デバイス」(8回)です。

10年間(2012-08-01〜2022-07-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特開2014-044431 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 8
2 特許6269914 蓄電デバイス用電極、電極用スラリー、および蓄電デバイス 8
3 特開2015-022956 蓄電デバイス用スラリー、蓄電デバイス電極、セパレーターおよび蓄電デバイス 6
4 特許6331392 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール 6
5 特許5871019 着色組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子 6

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2012-08-01〜2022-07-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 641件 ありました。平均被引用数は 3.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許6065596号「感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子」(37回)、次に多い特許は 特許6287369号「フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体」(34回)です。

10年間(2012-08-01〜2022-07-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6065596 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 37
2 特許6287369 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体 34
3 特許6060577 ネガ型レジストパターン形成方法 29
4 特許6171923 硬化性樹脂組成物、硬化膜、発光素子、波長変換フィルムおよび発光層の形成方法 25
5 特許6492688 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶表示素子 21

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