最終更新日:2022/06/21

エーテル (特許分析レポート・日本)

技術分野「エーテル」の直近(2020-01-01〜2020-10-31)の特許出願件数は 1,309件 です。前年同期間(2019-01-01〜2019-10-31)の特許出願件数 2,219件 に比べて -910件(-41.0%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2012年 の3,551件、最も少ない年は 2020年 の1,505件です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計14,037件)の平均値は2,807件、中央値は3,139件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.24であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 2,807
標準偏差 683
変動係数 0.24

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 1,505 -45.7 %
2019 年 2,771 -11.72 %
2018 年 3,139 -2.45 %

エーテルの過去10年間(2012-01-01〜2022-06-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、エーテルの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、エーテルの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったエーテルの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之 (弁理士)      

東京大学博士課程にて物理学を研究後、精密機器メーカー、大手自動車会社中央研究所にて知財分析、技術動向調査等に従事。

スタートアップ企業、新規事業における、発明相談、特許出願、知財戦略などが専門。 オンライン講座のUdemyにて初心者向けの「特許講座」を運営。 ご連絡は、TwitterのDM、LinkedInからお気軽に。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

外国特許分析レポート

「エーテル」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「エーテル」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

エーテル 日本特許件数 推移

エーテル の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「28,117件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
技術分野:
エーテル
特許分析期間
2012-01-01〜2022-06-30
対象件数
28,117

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

エーテルと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2020〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の103件、次に多いのは 東レ株式会社 の31件です。

直近3年間(2020〜2022年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
信越化学工業株式会社 103
東レ株式会社 31
花王株式会社 26
DIC株式会社 24
AGC株式会社 22
三井化学株式会社 12
富士フイルム株式会社 11

対象期間(2012〜2022年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2012〜2022年)において、出願件数が最も多いのは 信越化学工業株式会社 の741件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の588件です。

対象期間(2012〜2022年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
信越化学工業株式会社 741
富士フイルム株式会社 588
AGC株式会社 475
東レ株式会社 367
花王株式会社 346
DIC株式会社 303
三井化学株式会社 140

上位企業 日本特許件数 推移

エーテル の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

花王株式会社 の特許出願傾向

花王株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 346件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計165件)の平均値は33.0件、中央値は35.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.19であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

出願件数が最も多い年は 2013年 の68件、最も少ない年は 2020年 の22件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 33.0
標準偏差 6.4
変動係数 0.19
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 22 -46.3 %
2019 年 41 +32.3 %
2018 年 31 -13.89 %

富士フイルム株式会社 の特許出願傾向

富士フイルム株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 588件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計234件)の平均値は46.8件、中央値は46.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の115件、最も少ない年は 2020年 の10件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 46.8
標準偏差 21.3
変動係数 0.5
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 10 -78.3 %
2019 年 46 -31.3 %
2018 年 67 +59.5 %

東レ株式会社 の特許出願傾向

東レ株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 367件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計189件)の平均値は37.8件、中央値は41.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.23であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

出願件数が最も多い年は 2013年 の52件、最も少ない年は 2020年 の24件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 37.8
標準偏差 8.6
変動係数 0.23
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 24 -48.9 %
2019 年 47 +46.9 %
2018 年 32 -21.95 %

信越化学工業株式会社 の特許出願傾向

信越化学工業株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 741件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計385件)の平均値は77.0件、中央値は74.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.12であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

出願件数が最も多い年は 2019年 の93件、最も少ない年は 2013年 の66件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 77.0
標準偏差 8.9
変動係数 0.12
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 72 -22.58 %
2019 年 93 +38.8 %
2018 年 67 -15.19 %

AGC株式会社 の特許出願傾向

AGC株式会社 の分析対象期間(2012〜2022年)の出願件数は 475件 です。

過去5年間の出願件数(2016〜2020年、計242件)の平均値は48.4件、中央値は45.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2018〜2020年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2016年 の72件、最も少ない年は 2020年 の20件です。

過去5年間(2016〜2020年)の出願情報
指標
平均値 48.4
標準偏差 19.8
変動係数 0.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2020 年 20 -44.4 %
2019 年 36 -47.8 %
2018 年 69 +53.3 %

重要特許情報   (日本)

エーテル の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、エーテルが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2019-07-01〜2022-06-30)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 3件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6692856号「RNA依存性標的DNA修飾およびRNA依存性転写調節のための方法および組成物」(無効審判請求日 2022-02-25)、次は 特許6743078号「保護性通気性材料および保護性通気性材料を製造するための方法」(無効審判請求日 2021-05-19)です。

直近の無効審判請求 (2019-07-01〜2022-06-30)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許6692856 RNA依存性標的DNA修飾およびRNA依存性転写調節のための方法および組成物 2022-02-25
2 特許6743078 保護性通気性材料および保護性通気性材料を製造するための方法 2021-05-19
3 特許5754860 ワクチンアジュバントの製造の間の親水性濾過 2021-01-26

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2012-07-01〜2022-06-30)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 3件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6692856号「RNA依存性標的DNA修飾およびRNA依存性転写調節のための方法および組成物」(1回)、次に多い特許は 特許6743078号「保護性通気性材料および保護性通気性材料を製造するための方法」(1回)です。

10年間(2012-07-01〜2022-06-30) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6692856 RNA依存性標的DNA修飾およびRNA依存性転写調節のための方法および組成物 1
2 特許6743078 保護性通気性材料および保護性通気性材料を製造するための方法 1
3 特許5891575 シリコーン・ベースの界面活性剤を含むアルコール含有量の高い発泡性組成物 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2019-07-01〜2022-06-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 88件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6952777号「電解質組成物、電解質膜、電極、電池及び電解質組成物の評価方法」(異議申立日 2022-04-19)、次は 特許6952954号「ヒドロキシ置換芳香族化合物の梱包方法」(異議申立日 2022-03-16)です。

直近の異議申立 (2019-07-01〜2022-06-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6952777 電解質組成物、電解質膜、電極、電池及び電解質組成物の評価方法 2022-04-19
2 特許6952954 ヒドロキシ置換芳香族化合物の梱包方法 2022-03-16
3 特許6935028 硬化性組成物 2022-03-15
4 特許6905160 デバイス用硬化性接着シート 2022-01-18
5 特許6903903 積層体 2022-01-14
6 特許6904317 立体造形物の製造装置及び立体造形物の製造方法 2022-01-14
7 特許6903832 ポリウレタン水分散体およびコーティング剤 2022-01-12
8 特許6898170 吸血性害虫の行動停止方法 2022-01-05
9 特許6893247 半二次電池および二次電池 2021-12-20
10 特許6890724 放射冷却装置及び放射冷却方法 2021-12-20

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2019-07-01〜2022-06-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 317件 ありました。平均情報提供数は 1.6回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特表2020-513351号「プラスチック複合材製のコア部材およびその製造方法」(情報提供日 2022-05-25)、次は 特開2021-102602号「一価または多価フェノールのグリシジルエーテルの生成物、エポキシ樹脂組成物、および一価または多価フェノールのグリシジルエーテルの生成物を製造する方法」(情報提供日 2022-05-20)です。

直近の情報提供 (2019-07-01〜2022-06-30)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特表2020-513351 プラスチック複合材製のコア部材およびその製造方法 2022-05-25
2 特開2021-102602 一価または多価フェノールのグリシジルエーテルの生成物、エポキシ樹脂組成物、および一価または多価フェノールのグリシジルエーテルの生成物を製造する方法 2022-05-20
3 特開2020-183456 2液型コーティング組成物 2022-05-18
4 特開2020-183455 2液型コーティング組成物 2022-05-18
5 特許7092846 プライマー層組成物、これを用いた二次電池パウチフィルム、及びその製造方法 2022-05-10
6 特表2020-502163 固体脂肪性物質とゲル化ポリマーとを含む化粧用組成物 2022-05-05
7 特表2020-500222 セルロース系表面のバイオベース誘導体化のための方法 2022-04-28
8 特開2020-100704 CIP用脱臭剤組成物 2022-04-27
9 特開2020-164583 ポリオルガノシロキサン及びその製造方法、並びに塗料用組成物 2022-04-26
10 特表2020-503198 堆肥化可能な被覆を含む被覆基材及びそれを製造する方法 2022-04-26
11 特表2020-525624 金属表面を洗浄するための、ポリオキシアルキレン非イオン性界面活性剤の混合物を含有する洗浄溶液 2022-04-20
12 特開2020-178645 ケーキ類用組成物及び該ケーキ類用組成物を用いたケーキ類、並びにケーキ類の日持ち向上方法 2022-04-20
13 特開2019-203066 リキッドインキ組成物 2022-04-19
14 再公表2019/198406 積層ポリエステルフィルムおよびその製造方法 2022-04-15
15 特開2021-098197 抗微生物硬化物の固着方法および抗微生物部材の製造方法 2022-04-08
16 特開2019-143057 光硬化性組成物およびディスプレイ 2022-04-06
17 特開2019-156981 プリプレグ、繊維強化複合材料、及びそれらの製造方法 2022-04-05
18 特表2021-512848 水中油型乳化化粧料 2022-04-04
19 特開2019-183377 繊維用集束剤、繊維束、繊維製品、プリプレグ及び成形体 2022-04-01
20 特開2020-193227 外用組成物 2022-03-31

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2012-07-01〜2022-06-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 676件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6073823号「粘着剤、粘着シート、粘着シートの製造方法、および画像表示装置」(12回)、次に多い特許は 特許6681654号「多層粘着シート」(8回)です。

10年間(2012-07-01〜2022-06-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6073823 粘着剤、粘着シート、粘着シートの製造方法、および画像表示装置 12
2 特許6681654 多層粘着シート 8
3 特許6266492 エポキシシロキサン樹脂組成物を用いたハードコーティング膜及びその製造方法 8
4 特許6250528 二酸化塩素発生剤 8
5 特許6642295 ポリカーボネート樹脂成形材料 7

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2019-07-01〜2022-06-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 470件 ありました。平均閲覧請求数は 2.0回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特表2021-524941号「反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置」(閲覧請求日 2022-05-24)、次は 特表2019-521237号「潤滑組成物のための脂肪族四面体ボレート化合物」(閲覧請求日 2022-05-23)です。

直近の閲覧請求 (2019-07-01〜2022-06-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特表2021-524941 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置 2022-05-24
2 特表2019-521237 潤滑組成物のための脂肪族四面体ボレート化合物 2022-05-23
3 特開2022-061541 防汚性膜形成用液組成物 2022-05-23
4 特開2022-084332 エアフィルタ及びその製造方法 2022-05-23
5 特開2022-084333 油水分離フィルタ及びその製造方法 2022-05-23
6 特表2020-525624 金属表面を洗浄するための、ポリオキシアルキレン非イオン性界面活性剤の混合物を含有する洗浄溶液 2022-05-18
7 特表2022-520884 発光ベンゾチアゾールを含む発光材料、セキュリティ機能部を含む物品、及び発光ベンゾチアゾールを含む発光粒子を形成する方法 2022-05-17
8 特開2019-143057 光硬化性組成物およびディスプレイ 2022-05-11
9 特開2021-098197 抗微生物硬化物の固着方法および抗微生物部材の製造方法 2022-05-11
10 特開2020-164583 ポリオルガノシロキサン及びその製造方法、並びに塗料用組成物 2022-05-11
11 特表2020-503198 堆肥化可能な被覆を含む被覆基材及びそれを製造する方法 2022-05-09
12 特表2021-512848 水中油型乳化化粧料 2022-05-06
13 特表2020-524271 ナノポアシーケンサー 2022-04-28
14 特開2019-203066 リキッドインキ組成物 2022-04-26
15 特開2019-172667 9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレンの結晶多形及びその製造方法 2022-04-22
16 特開2021-105218 広分布な粒度分布を持つ銀ナノ粒子の製造方法及び銀ナノ粒子 2022-04-20
17 特表2018-530523 がんの放射線療法と免疫療法の組合せのための生体材料 2022-04-19
18 再公表2019/022069 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 2022-04-19
19 特開2021-152179 膜形成用液組成物 2022-04-14
20 特開2022-052008 防汚性膜形成用液組成物 2022-04-14

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被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2012-07-01〜2022-06-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 1,029件 ありました。平均閲覧請求数は 2.2回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6254850号「化粧料組成物含浸用ウレタンフォーム」(30回)、次に多い特許は 特許6407064号「両親媒性ポリマーを含む水中油型エマルジョン」(25回)です。

10年間(2012-07-01〜2022-06-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6254850 化粧料組成物含浸用ウレタンフォーム 30
2 特許6407064 両親媒性ポリマーを含む水中油型エマルジョン 25
3 特許6274628 炭素蒸着アルカリ金属ホスホシリケートカソード材料、及び二つの乾燥高エネルギーミリングステップを含むそれの製造方法 20
4 特許6889248 塗料 17
5 特開2017-088844 硬化性組成物、硬化物及び積層体 16

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2012-07-01〜2022-06-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 6,638件 ありました。平均被引用数は 2.8回 です。 被引用数が多い特許は 特許5947198号「蓄電デバイス用負極材および蓄電デバイス用電極の製造方法」(44回)、次に多い特許は 特許6343605号「RNA依存性標的DNA修飾およびRNA依存性転写調節のための方法および組成物」(44回)です。

10年間(2012-07-01〜2022-06-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許5947198 蓄電デバイス用負極材および蓄電デバイス用電極の製造方法 44
2 特許6343605 RNA依存性標的DNA修飾およびRNA依存性転写調節のための方法および組成物 44
3 特許6038912 シロリムスを制御放出するためのシロリムスコーティングされたカテーテルバルーンを有するバルーンカテーテル 37
4 特許5887244 パターン形成用自己組織化組成物、それを用いたブロックコポリマーの自己組織化によるパターン形成方法、及び自己組織化パターン、並びに電子デバイスの製造方法 36
5 特許6200203 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法 36

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