5F246 半導体の露光処理技術の特許動向
テーマコード「半導体の露光処理技術」の公開遅延を考慮した比較期間（2024-01-01〜2024-10-31）の特許出願件数は 199件 です。前年同期間（2023-01-01〜2023-10-31）の特許出願件数 257件 に比べて -58件(-22.6%) と大幅に減少しています。
出願件数が最も多い年は 2021年 の415件、最も少ない年は 2024年 の235件です（対象年: 2021、2022、2023、2024）。
過去4年間の出願件数(2021〜2024年、計1,325件)の平均値は331件、中央値は338件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.20であり、年ごとの出願件数は緩やかな変動が見られます。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 331 件 |
| 標準偏差 | 66.8 |
| 変動係数 | 0.20 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 54 件 | -77.0% |
| 2024 年 | 235 件 | -24.19% |
| 2023 年 | 310 件 | -15.07% |
半導体の露光処理技術[5F246]の過去6年間(2020〜2025)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較できます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ（日米欧・国際公開）に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、半導体の露光処理技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、半導体の露光処理技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)といった半導体の露光処理技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
【監修者】
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。
はじめに
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン＆クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
生成ＡＩを利用した特許読解アシスタント「サマリア」
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半導体の露光処理技術 日本特許件数 推移
半導体の露光処理技術 の過去 6年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
出願件数推移データ
| 年 | 件数 |
|---|---|
| 2021 | 415 |
| 2022 | 365 |
| 2023 | 310 |
| 2024 | 235 |
| 2025 | 54 |
検索集合 (分析対象)
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「1,379件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 なお、検索集合の件数（1,379件）とチャート上の出願件数合計は、検索式・期間定義の違いにより一致しない場合があります。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
半導体の露光処理技術[5F246]
直近の公報一覧
| 公報番号 | 発明の名称 | 書誌情報 | 技術テーマ |
|---|---|---|---|
| 1. 特許7913517 | レジストパターン形成方法 | ・出願人 日産化学株式会社 ・出願日 2022-04-25 ・公開日 2026-09-01 | 2H197, 2H225, 5F146, 5F246 |
| 2. 特開2026-138848 | 膜形成方法、膜形成装置及び物品の製造方法 | ・出願人 キヤノン株式会社 ・出願日 2025-02-19 ・公開日 2026-08-31 | 4F209, 5F146, 5F246 |
| 3. 特開2026-138898 | 基板処理装置および基板処理方法 | ・出願人 株式会社SCREENホールディングス ・出願日 2025-02-19 ・公開日 2026-08-31 | 5F043, 5F146, 5F246 |
| 4. 特開2026-138327 | 異物除去装置、異物除去方法、物品製造方法、インプリント装置およびモールド | ・出願人 キヤノン株式会社 ・出願日 2025-02-18 ・公開日 2026-08-28 | 4F209, 5F146, 5F246 |
| 5. 特開2026-138328 | パターン形成方法、および物品製造方法 | ・出願人 キヤノン株式会社 ・出願日 2025-02-18 ・公開日 2026-08-28 | 5F058, 5F146, 5F246 |
| 6. 特開2026-137293 | 基板処理装置および基板処理装置の設置方法 | ・出願人 株式会社SCREENホールディングス ・出願日 2025-02-17 ・公開日 2026-08-27 | 5F131, 5F146, 5F246 |
| 7. 特開2026-136746 | 作業支援方法および作業支援システム | ・出願人 株式会社SCREENホールディングス ・出願日 2025-02-14 ・公開日 2026-08-26 | 5B050, 5F146, 5F246 |
| 8. 特開2026-137083 | チャンバーの流れ場安定化とチャンバーの清浄度向上のためのスピンコートチャンバー構造 | ・出願人 大連理工大学 ・出願日 2026-02-10 ・公開日 2026-08-26 | 2H225, 4F042, 5F246 |
| 9. 特開2026-136659 | 基板処理装置 | ・出願人 芝浦メカトロニクス株式会社 ・出願日 2025-02-14 ・公開日 2026-08-26 | 5F043, 5F146, 5F246 |
| 10. 特開2026-135588 | レジスト下層膜形成用組成物 | ・出願人 日産化学株式会社 ・出願日 2025-02-13 ・公開日 2026-08-25 | 2H197, 2H225, 5F146, 5F246 |
| 11. 特開2026-134626 | 塗布装置および基板処理装置 | ・出願人 株式会社SCREENホールディングス ・出願日 2025-02-10 ・公開日 2026-08-21 | 4F041, 4F042, 5F146, 5F246 |
| 12. 特開2026-133135 | 成形装置、および物品製造方法 | ・出願人 キヤノン株式会社 ・出願日 2025-02-06 ・公開日 2026-08-19 | 4F209, 5F146, 5F246 |
| 13. 特開2026-133677 | フォトレジスト下層組成物 | ・出願人 デュポンスペシャルティマテリアルズコリアリミテッド ・出願日 2023-11-21 ・公開日 2026-08-19 | 2H197, 2H225, 4J100, 5F246 |
| 14. 特開2026-132581 | 基板処理方法、基板処理装置およびプログラム | ・出願人 東京エレクトロン株式会社 ・出願日 2025-02-05 ・公開日 2026-08-18 | 5F146, 5F157, 5F246 |
| 15. 特許7907021 | 配管洗浄方法及び基板処理システム | ・出願人 東京エレクトロン株式会社 ・出願日 2024-03-21 ・公開日 2026-08-18 | 4F042, 5F146, 5F246 |
同業・競合企業 情報 (日本)
{'ja': '技術テーマ「半導体の露光処理技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。', 'en': "The patent information of the higher applicant in the technical theme 半導体の露光処理技術 is shown below. By comparing the number of patents of each company, you can check the research and development status of each company's past and present technical themes and the position of each company in the technical theme. Patents have a time lag of about 18 months from filing to publication."}
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2023〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の195件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の117件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 195 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 117 件 |
| 株式会社SCREENホールディングス | 62 件 |
| 信越化学工業株式会社 | 36 件 |
| キオクシア株式会社 | 17 件 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 14 件 |
対象期間(2020〜2025年)の特許出願傾向
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2020〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の525件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の342件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 525 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 342 件 |
| 株式会社SCREENホールディングス | 195 件 |
| キオクシア株式会社 | 73 件 |
| 信越化学工業株式会社 | 66 件 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 45 件 |
同業・競合企業 日本特許件数 ランキング
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業・競合企業 日本特許件数 推移
同業6社 の 過去6年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
ランキングデータ
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 525 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 342 |
| 株式会社SCREENホールディングス | 195 |
| キオクシア株式会社 | 73 |
| 信越化学工業株式会社 | 66 |
| アプライドマテリアルズインコーポレイテッド | 45 |
上位企業 情報 (日本)
{'ja': '技術テーマ「半導体の露光処理技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。', 'en': "The patent information of the higher applicant in the technical theme 半導体の露光処理技術 is shown below. By comparing the number of patents of each company, you can check the research and development status of each company's past and present technical themes and the position of each company in the technical theme. Patents have a time lag of about 18 months from filing to publication."}
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2023〜2025年)の特許出願傾向
上位出願人のうち、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の195件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の117件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 195 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 117 件 |
| 株式会社SCREENホールディングス | 62 件 |
対象期間(2020〜2025年)の特許出願傾向
上位出願人のうち、対象期間(2020〜2025年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の525件、次に多いのは 東京エレクトロン株式会社 の342件です。
| 名前・名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 525 件 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 342 件 |
| 株式会社SCREENホールディングス | 195 件 |
上位企業 日本特許件数 ランキング
半導体の露光処理技術 の過去6年間の 上位出願人3社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ランキングデータ
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 525 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 342 |
| 株式会社SCREENホールディングス | 195 |
上位企業 日本特許件数 推移
半導体の露光処理技術 の過去6年間の 上位出願人3社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
ランキングデータ
| 名称 | 件数 |
|---|---|
| キヤノン株式会社 | 525 |
| 東京エレクトロン株式会社 | 342 |
| 株式会社SCREENホールディングス | 195 |
上位企業 詳細
キヤノン株式会社 の特許出願傾向
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 525件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計511件)の平均値は102件、中央値は101件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.13であり、年ごとの出願件数は緩やかな変動が見られます。
出願件数が最も多い年は 2021年 の121件、最も少ない年は 2024年 の81件です（対象年: 2020、2021、2022、2023、2024）。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 102 件 |
| 標準偏差 | 13.0 |
| 変動係数 | 0.13 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 14 件 | -82.7% |
| 2024 年 | 81 件 | -19.00% |
| 2023 年 | 100 件 | -0.99% |
東京エレクトロン株式会社 の特許出願傾向
東京エレクトロン株式会社 の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 342件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計330件)の平均値は66.0件、中央値は62.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.23であり、年ごとの出願件数は緩やかな変動が見られます。
出願件数が最も多い年は 2020年 の91件、最も少ない年は 2024年 の45件です（対象年: 2020、2021、2022、2023、2024）。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 66.0 件 |
| 標準偏差 | 15.2 |
| 変動係数 | 0.23 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 12 件 | -73.3% |
| 2024 年 | 45 件 | -25.00% |
| 2023 年 | 60 件 | -3.23% |
株式会社SCREENホールディングス の特許出願傾向
株式会社SCREENホールディングス の分析対象期間(2020〜2025年)の出願件数は 195件 です。
過去5年間の出願件数(2020〜2024年、計188件)の平均値は37.6件、中央値は37.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.26であり、年ごとの出願件数はばらつきが大きいです。
出願件数が最も多い年は 2020年 の52件、最も少ない年は 2024年 の25件です（対象年: 2020、2021、2022、2023、2024）。
| 指標 | 値 |
|---|---|
| 平均値 | 37.6 件 |
| 標準偏差 | 9.6 |
| 変動係数 | 0.26 |
| 年 | 件数 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2025 年 | 7 件 | -72.0% |
| 2024 年 | 25 件 | -16.67% |
| 2023 年 | 30 件 | -18.92% |
メディア(新聞、雑誌等)への特許情報提供
『パテント・インテグレーション レポート』は、知的財産権の専門家である弁理士が運営する「パテント・インテグレーション株式会社」が提供するウェブサービスです。 最新の特許データに基づき、様々な企業、技術分野の技術動向情報を提供する国内最大規模の特許レポートサービスです。
本ウェブサービスは、知的財産権への関心有無に関わらず、多くの方々に知財情報を身近に感じて頂き、活用いただくことを目的としています。
弊社では、新聞、雑誌、ウェブメディア等の様々なメディアの各種記事において活用できる各種特許情報の提供を積極的に行っております。 提供可能な特許情報の内容についてはお気軽に『お問い合わせフォーム』からお問い合わせください。
主要メディアにおける掲載実績
- 2023-08-07 新聞記事
- 日経新聞の全国紙朝刊の記事「東芝、混乱の末の非公開化 15年で売上高6割減」にて、東芝の出願件数減少に関する記事において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-12-26 新聞記事
- 毎日新聞の全国紙朝刊の記事「日産・ルノー、出資比率下げ交渉越年へ 知財がネックとなるワケは…」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
- 2022-11-09 新聞記事
- 読売新聞の全国紙朝刊の記事「ルノー・日産 協議難航…ＥＶ新会社 知財の扱い・資本見直し」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
コンテンツについて
データ、文書、図表類に関する権利は全て「統合特許検索・分析サービス パテント・インテグレーション」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「パテント・インテグレーション レポート, URL: https://patent-i.com/」を明記の上、ご利用ください。
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