本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
テーマコード「ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術」の直近(2023-01-01〜2023-03-31)の特許出願件数は 154件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-03-31)の特許出願件数 183件 に比べて -29件(-15.8%) と減少傾向で推移しています。
出願件数が最も多い年は 2016年 の1,404件、最も少ない年は 2022年 の783件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計5,243件)の平均値は874件、中央値は885件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.26であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 874 件 |
標準偏差 | 226 |
変動係数 | 0.26 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 783 件 | -6.12 % |
2021 年 | 834 件 | -10.90 % |
2020 年 | 936 件 | -9.91 % |
ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術[2H197]の過去10年間(2014-01-01〜2024-11-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったホトレジスト感材への露光・位置合せ技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
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ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「10,233件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
技術テーマ「ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の394件、次に多いのは キヤノン株式会社 の167件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
住友化学株式会社 | 394 件 |
キヤノン株式会社 | 167 件 |
信越化学工業株式会社 | 126 件 |
エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 73 件 |
東京応化工業株式会社 | 72 件 |
富士フイルム株式会社 | 13 件 |
株式会社ニコン | 7 件 |
株式会社東芝 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは エーエスエムエルネザーランズビーブイ の1,010件、次に多いのは キヤノン株式会社 の1,005件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 1,010 件 |
キヤノン株式会社 | 1,005 件 |
住友化学株式会社 | 984 件 |
株式会社ニコン | 849 件 |
富士フイルム株式会社 | 505 件 |
信越化学工業株式会社 | 451 件 |
東京応化工業株式会社 | 388 件 |
株式会社東芝 | 25 件 |
株式会社日立製作所 | 3 件 |
富士通株式会社 | 1 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
技術テーマ「ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位出願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の167件、次に多いのは エーエスエムエルネザーランズビーブイ の73件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 167 件 |
エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 73 件 |
富士フイルム株式会社 | 13 件 |
株式会社ニコン | 7 件 |
株式会社東芝 | 1 件 |
上位出願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは エーエスエムエルネザーランズビーブイ の1,010件、次に多いのは キヤノン株式会社 の1,005件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 1,010 件 |
キヤノン株式会社 | 1,005 件 |
株式会社ニコン | 849 件 |
富士フイルム株式会社 | 505 件 |
株式会社東芝 | 25 件 |
株式会社日立製作所 | 3 件 |
富士通株式会社 | 1 件 |
ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社ニコン の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 849件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計192件)の平均値は32.0件、中央値は15.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の180件、最も少ない年は 2022年 の6件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 32.0 件 |
標準偏差 | 39.0 |
変動係数 | 1.2 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 6 件 | -60.0 % |
2021 年 | 15 件 | -6.25 % |
2020 年 | 16 件 | -59.0 % |
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 1,005件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計619件)の平均値は103件、中央値は108件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.23であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2021年 の134件、最も少ない年は 2015年 の79件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 103 件 |
標準偏差 | 23.7 |
変動係数 | 0.23 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 109 件 | -18.66 % |
2021 年 | 134 件 | +25.23 % |
2020 年 | 107 件 | -9.32 % |
エーエスエムエルネザーランズビーブイ の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 1,010件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計472件)の平均値は78.7件、中央値は77.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2018年 の161件、最も少ない年は 2021年 の67件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 78.7 件 |
標準偏差 | 47.0 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 73 件 | +8.96 % |
2021 年 | 67 件 | -17.28 % |
2020 年 | 81 件 | -10.00 % |
富士フイルム株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 505件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計281件)の平均値は46.8件、中央値は61.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2019年 の78件、最も少ない年は 2022年 の9件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 46.8 件 |
標準偏差 | 29.1 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 9 件 | -86.6 % |
2021 年 | 67 件 | +8.06 % |
2020 年 | 62 件 | -20.51 % |
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 3件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計2件)の平均値は0.3件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.4であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の1件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.3 件 |
標準偏差 | 0.5 |
変動係数 | 1.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2020 年 | 1 件 | 0 |
2019 年 | 1 件 | - |
2018 年 | 0 件 | - |
ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、ホトレジスト感材への露光・位置合せ技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-12-01〜2024-11-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 8件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7468805号「露光方法、蒸着マスクの製造方法、および、露光装置」(異議申立日 2024-10-16)、次は 特許7453260号「硬化性樹脂組成物、樹脂膜、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、及び、半導体デバイス」(異議申立日 2024-09-09)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7468805 | 露光方法、蒸着マスクの製造方法、および、露光装置 | 2024-10-16 |
2 | 特許7453260 | 硬化性樹脂組成物、樹脂膜、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、及び、半導体デバイス | 2024-09-09 |
3 | 特許7263153 | 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法 | 2023-10-24 |
4 | 特許7196389 | 半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法 | 2023-06-27 |
5 | 特許6974799 | 膜密度が向上したレジスト下層膜を形成するための組成物 | 2022-06-01 |
6 | 特許6954498 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版及び露光方法、並びに半導体装置又は液晶表示板の製造方法 | 2022-04-25 |
7 | 特許6931707 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜の製造方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 | 2022-03-07 |
8 | 特許6879348 | 感光性エレメント、積層体、永久マスクレジスト及びその製造方法並びに半導体パッケージの製造方法 | 2021-12-02 |
直近3年間(2021-12-01〜2024-11-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 20件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特許7601043号「感光性樹脂組成物」(情報提供日 2024-08-23)、次は 特開2024-033515号「感光性ペースト、配線パターンの形成方法、電子部品の製造方法および電子部品」(情報提供日 2024-07-10)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7601043 | 感光性樹脂組成物 | 2024-08-23 |
2 | 特開2024-033515 | 感光性ペースト、配線パターンの形成方法、電子部品の製造方法および電子部品 | 2024-07-10 |
3 | 特許7534352 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2024-06-07 |
4 | 特許7603383 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2024-05-14 |
5 | 特許7558988 | 樹脂組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、及び、半導体デバイス | 2024-03-21 |
6 | 特開2023-081813 | 精密メタルマスク及びその製造方法 | 2024-02-14 |
7 | 特表2023-508199 | ウェハクランプの硬いバールの製造および改修 | 2024-01-31 |
8 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023-12-28 |
9 | 特開2021-107912 | EUVリソグラフィ用途のための鎖切断レジスト組成物 | 2023-12-11 |
10 | 特許7600631 | テーブル装置 | 2023-12-06 |
11 | 特表2023-512777 | 深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置 | 2023-06-20 |
12 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-04-21 |
13 | 特許7375548 | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム | 2023-02-28 |
14 | 特許7357505 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2022-12-26 |
15 | 特許7313136 | 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 | 2022-10-04 |
16 | 特許7263153 | 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法 | 2022-08-01 |
17 | 特許7171655 | 光酸発生剤を含む反射防止コーティング組成物を使用するパターンの形成方法 | 2022-07-27 |
18 | 特開2022-013302 | 感光性組成物、硬化物、硬化膜の製造方法、及び樹脂 | 2022-05-17 |
19 | 特許7051818 | 感光性樹脂組成物 | 2022-02-07 |
20 | 特許7366521 | 半導体装置、及びその製造方法 | 2022-01-26 |
直近10年間(2014-12-01〜2024-11-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 52件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7067470号「感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品」(5回)、次に多い特許は 特許7051818号「感光性樹脂組成物」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7067470 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品 | 5 回 |
2 | 特許7051818 | 感光性樹脂組成物 | 5 回 |
3 | 特許6860500 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 | 3 回 |
4 | 特許7357505 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 3 回 |
5 | 特許7040887 | シームレス缶用水なし平版及びその製造方法 | 2 回 |
直近3年間(2021-12-01〜2024-11-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 39件 ありました。平均閲覧請求数は 1.8回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特表2023-535619号「光学デバイスを含む投影対物系」(閲覧請求日 2024-10-25)、次は 特許7601043号「感光性樹脂組成物」(閲覧請求日 2024-09-27)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特表2023-535619 | 光学デバイスを含む投影対物系 | 2024-10-25 |
2 | 特許7601043 | 感光性樹脂組成物 | 2024-09-27 |
3 | 特許7603383 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2024-08-23 |
4 | 特開2024-033515 | 感光性ペースト、配線パターンの形成方法、電子部品の製造方法および電子部品 | 2024-08-02 |
5 | 特許7534352 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2024-07-08 |
6 | 特表2023-502837 | レジストパターン間置換液、およびそれを用いたレジストパターンの製造方法 | 2024-07-04 |
7 | 特開2024-073474 | 多環芳香族含有ポリマーを含むレジスト下層膜形成用組成物 | 2024-06-20 |
8 | 特許7558988 | 樹脂組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、及び、半導体デバイス | 2024-04-03 |
9 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024-02-05 |
10 | 特開2021-107912 | EUVリソグラフィ用途のための鎖切断レジスト組成物 | 2023-12-20 |
11 | 特許7507042 | 水素希釈装置および水素希釈方法 | 2023-11-22 |
12 | 特許4414866 | 紫外線露光機 | 2023-11-16 |
13 | 特表2023-512777 | 深紫外線放射を使用して製作される電気光学装置 | 2023-08-22 |
14 | 特許7461294 | 透過型メタサーフェスレンズ統合 | 2023-07-03 |
15 | 特許4401308 | 露光装置 | 2023-06-08 |
16 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-05-23 |
17 | 特許4244156 | 投影露光装置 | 2023-05-10 |
18 | 特許4450739 | 露光装置 | 2023-05-10 |
19 | 特許7326812 | ブラックマトリクス、カラーフィルタ、表示装置およびブラックマトリクスの製造方法 | 2023-05-01 |
20 | 特許7375548 | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム | 2023-03-10 |
直近10年間(2014-12-01〜2024-11-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 146件 ありました。平均閲覧請求数は 1.3回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許7067470号「感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品」(11回)、次に多い特許は 特許6860500号「感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置」(7回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7067470 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品 | 11 回 |
2 | 特許6860500 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 | 7 回 |
3 | 特許6781864 | ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 | 6 回 |
4 | 特許7051818 | 感光性樹脂組成物 | 6 回 |
5 | 特開2018-182126 | パターン形成用シート、パターン製造装置およびパターン製造方法 | 4 回 |
直近10年間(2014-12-01〜2024-11-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 2,145件 ありました。平均被引用数は 2.7回 です。 被引用数が多い特許は 特許6784670号「有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物および対応する方法」(52回)、次に多い特許は 特許6805244号「有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成」(51回)です。
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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