本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「放射線を利用した材料分析技術」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
テーマコード「放射線を利用した材料分析技術」の直近(2023-01-01〜2023-05-31)の特許出願件数は 136件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-05-31)の特許出願件数 125件 に比べて +11件(8.8%) と堅調に推移しています。
出願件数が最も多い年は 2018年 の584件、最も少ない年は 2023年 の194件です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計1,860件)の平均値は310件、中央値は356件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 310 件 |
標準偏差 | 160 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2023 年 | 194 件 | -38.4 % |
2022 年 | 315 件 | -20.65 % |
2021 年 | 397 件 | -2.46 % |
放射線を利用した材料分析技術[2G001]の過去10年間(2015-01-01〜2025-01-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、放射線を利用した材料分析技術の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、放射線を利用した材料分析技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった放射線を利用した材料分析技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
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放射線を利用した材料分析技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、放射線を利用した材料分析技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
放射線を利用した材料分析技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「3,956件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
技術テーマ「放射線を利用した材料分析技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社リガク の13件、次に多いのは 株式会社イシダ の13件です。
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2015〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社島津製作所 の224件、次に多いのは 株式会社リガク の174件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社島津製作所 | 224 件 |
株式会社リガク | 174 件 |
株式会社イシダ | 124 件 |
日本電子株式会社 | 90 件 |
株式会社日立ハイテク | 87 件 |
株式会社東芝 | 54 件 |
株式会社日立製作所 | 53 件 |
キヤノン株式会社 | 52 件 |
アンリツインフィビス株式会社 | 37 件 |
富士通株式会社 | 22 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
技術テーマ「放射線を利用した材料分析技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位出願人のうち、直近3年間(2023〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社リガク の13件、次に多いのは 株式会社島津製作所 の12件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社リガク | 13 件 |
株式会社島津製作所 | 12 件 |
株式会社東芝 | 4 件 |
日本電子株式会社 | 3 件 |
株式会社日立ハイテク | 1 件 |
上位出願人のうち、対象期間(2015〜2025年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社島津製作所 の224件、次に多いのは 株式会社リガク の174件です。
放射線を利用した材料分析技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
放射線を利用した材料分析技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社島津製作所 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 224件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計110件)の平均値は18.3件、中央値は18.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2019年 の39件、最も少ない年は 2023年 の11件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 18.3 件 |
標準偏差 | 11.8 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2023 年 | 11 件 | -21.43 % |
2022 年 | 14 件 | -36.4 % |
2021 年 | 22 件 | -4.35 % |
株式会社東芝 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 54件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計25件)の平均値は4.2件、中央値は3.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2021〜2024年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2020年 の10件、最も少ない年は 2021年 の3件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 4.2 件 |
標準偏差 | 3.0 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2023 年 | 4 件 | -20.00 % |
2022 年 | 5 件 | +66.7 % |
2021 年 | 3 件 | -70.0 % |
株式会社日立製作所 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 53件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計22件)の平均値は3.7件、中央値は4.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2021〜2024年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2017年 の11件、最も少ない年は 2023年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 3.7 件 |
標準偏差 | 3.0 |
変動係数 | 0.8 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 3 件 | -50.0 % |
2021 年 | 6 件 | -25.00 % |
2020 年 | 8 件 | +60.0 % |
株式会社リガク の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 174件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計101件)の平均値は16.8件、中央値は15.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2021〜2024年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2019年 の34件、最も少ない年は 2023年 の12件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 16.8 件 |
標準偏差 | 10.3 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2023 年 | 12 件 | 0 |
2022 年 | 12 件 | -36.8 % |
2021 年 | 19 件 | -17.39 % |
日本電子株式会社 の分析対象期間(2015〜2025年)の出願件数は 90件 です。
過去5年間の出願件数(2019〜2024年、計41件)の平均値は6.8件、中央値は7.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2018年 の18件、最も少ない年は 2023年 の2件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 6.8 件 |
標準偏差 | 4.6 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2023 年 | 2 件 | -60.0 % |
2022 年 | 5 件 | -64.3 % |
2021 年 | 14 件 | +40.0 % |
放射線を利用した材料分析技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、放射線を利用した材料分析技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2022-02-01〜2025-01-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 10件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7412028号「検査選別装置及び選別装置」(異議申立日 2024-07-10)、次は 特許7330453号「X線検査システム、破袋システムおよび破砕システム」(異議申立日 2024-01-23)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7412028 | 検査選別装置及び選別装置 | 2024-07-10 |
2 | 特許7330453 | X線検査システム、破袋システムおよび破砕システム | 2024-01-23 |
3 | 特許7250330 | 検査装置及び学習装置 | 2023-09-28 |
4 | 特許7243940 | X線透過部材 | 2023-09-20 |
5 | 特許7264917 | X線導管の製造方法 | 2023-09-13 |
6 | 特許7197506 | シリコンドリフト型放射線検出素子、シリコンドリフト型放射線検出器及び放射線検出装置 | 2023-06-26 |
7 | 特許7112179 | 半導体封止材用球状シリカ質粉末、およびその製造方法 | 2023-02-02 |
8 | 特許7079966 | X線検出装置 | 2022-11-21 |
9 | 特許6979185 | X線検査装置 | 2022-06-01 |
10 | 特許6937413 | ガラス板合紙用木材パルプ及びその使用、ガラス板用合紙、それを用いた積層体、ガラス板の保護方法、並びにガラス板合紙用木材パルプ又はガラス板用合紙の検査方法 | 2022-03-18 |
直近3年間(2022-02-01〜2025-01-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 18件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-046237号「検査装置、および、検査システム」(情報提供日 2024-10-28)、次は 特開2022-161735号「X線回折測定装置及びX線回折測定ロボット」(情報提供日 2024-09-04)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-046237 | 検査装置、および、検査システム | 2024-10-28 |
2 | 特開2022-161735 | X線回折測定装置及びX線回折測定ロボット | 2024-09-04 |
3 | 特許7610467 | 金属疲労評価装置、該方法および該プログラム | 2024-09-04 |
4 | 特開2022-058178 | 試料の製造方法、及び試料の観察方法 | 2024-05-15 |
5 | 特許7628283 | 検査選別装置、検査装置及び選別装置 | 2024-01-29 |
6 | 特開2023-153248 | X線検査装置 | 2024-01-11 |
7 | 特開2019-164088 | X線検査装置 | 2023-12-27 |
8 | 特許7373840 | 検査装置 | 2023-12-14 |
9 | 特開2023-137174 | 電磁波検査装置 | 2023-11-15 |
10 | 特開2023-137175 | 電磁波検査装置 | 2023-10-20 |
11 | 特開2023-056656 | X線検査装置及びプログラム | 2023-08-22 |
12 | 特開2022-151592 | 検査選別装置 | 2023-06-23 |
13 | 特許7500487 | X線検査装置 | 2023-04-25 |
14 | 特開2020-046270 | 包装及び検査システム | 2022-12-26 |
15 | 特開2020-183876 | 特徴点認識システムおよびワーク処理システム | 2022-12-08 |
16 | 特許7112179 | 半導体封止材用球状シリカ質粉末、およびその製造方法 | 2022-05-17 |
17 | 特許7252938 | 収束X線イメージング形成装置及び方法 | 2022-04-11 |
18 | 特許7488692 | 核物質測定装置 | 2022-03-23 |
直近10年間(2015-02-01〜2025-01-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 32件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7112179号「半導体封止材用球状シリカ質粉末、およびその製造方法」(3回)、次に多い特許は 特許6588332号「物品検査システム」(2回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7112179 | 半導体封止材用球状シリカ質粉末、およびその製造方法 | 3 回 |
2 | 特許6588332 | 物品検査システム | 2 回 |
3 | 特開2019-164088 | X線検査装置 | 2 回 |
4 | 特開2023-153248 | X線検査装置 | 2 回 |
5 | 特許7628283 | 検査選別装置、検査装置及び選別装置 | 2 回 |
直近3年間(2022-02-01〜2025-01-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 22件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2022-046237号「検査装置、および、検査システム」(閲覧請求日 2024-11-13)、次は 特許7610467号「金属疲労評価装置、該方法および該プログラム」(閲覧請求日 2024-09-10)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-046237 | 検査装置、および、検査システム | 2024-11-13 |
2 | 特許7610467 | 金属疲労評価装置、該方法および該プログラム | 2024-09-10 |
3 | 特開2024-180355 | 加速された高解像度工業用放射線撮影 | 2024-07-17 |
4 | 特開2022-058178 | 試料の製造方法、及び試料の観察方法 | 2024-06-04 |
5 | 特開2023-011409 | 解析方法 | 2024-03-18 |
6 | 特許7476039 | 半導体装置の検査装置、及び、半導体装置の検査方法 | 2024-03-18 |
7 | 特開2023-069471 | 撮像装置、及び、画像生成方法 | 2024-03-18 |
8 | 特開2023-153248 | X線検査装置 | 2024-01-23 |
9 | 特開2019-164088 | X線検査装置 | 2024-01-16 |
10 | 特許7373840 | 検査装置 | 2023-12-22 |
11 | 特開2023-137174 | 電磁波検査装置 | 2023-11-27 |
12 | 特開2023-137175 | 電磁波検査装置 | 2023-10-24 |
13 | 特許7576827 | 非晶質炭素膜の細胞凝集機能を判定する検査方法。 | 2023-10-24 |
14 | 特開2023-056656 | X線検査装置及びプログラム | 2023-09-22 |
15 | 特開2022-151592 | 検査選別装置 | 2023-07-20 |
16 | 特開2020-046270 | 包装及び検査システム | 2023-01-25 |
17 | 特開2020-183876 | 特徴点認識システムおよびワーク処理システム | 2022-12-19 |
18 | 特許7198457 | インテリアCT位相イメージングX線顕微鏡装置 | 2022-09-16 |
19 | 特許7079966 | X線検出装置 | 2022-07-25 |
20 | 特許7112179 | 半導体封止材用球状シリカ質粉末、およびその製造方法 | 2022-05-26 |
直近10年間(2015-02-01〜2025-01-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 53件 ありました。平均閲覧請求数は 1.2回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許7112179号「半導体封止材用球状シリカ質粉末、およびその製造方法」(3回)、次に多い特許は 特開2017-214590号「繊維強化樹脂材料、成形品、繊維強化樹脂材料の製造方法及び製造装置、並びに繊維束群の検査装置」(2回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7112179 | 半導体封止材用球状シリカ質粉末、およびその製造方法 | 3 回 |
2 | 特開2017-214590 | 繊維強化樹脂材料、成形品、繊維強化樹脂材料の製造方法及び製造装置、並びに繊維束群の検査装置 | 2 回 |
3 | 再公表2017/006849 | 防汚性繊維構造物 | 2 回 |
4 | 特許6613637 | 高分子材料の内部構造の応答特性を評価する方法 | 2 回 |
5 | 特開2019-164088 | X線検査装置 | 2 回 |
直近10年間(2015-02-01〜2025-01-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 986件 ありました。平均被引用数は 2.3回 です。 被引用数が多い特許は 特許7211722号「計測用X線CT装置」(24回)、次に多い特許は 特許6668278号「試料観察装置および試料観察方法」(22回)です。
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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