APPLIED MATERIALS INC 特許分析・IPランドスケープ(PCT特許)

最終更新日：2021/04/04

APPLIED MATERIALS INC (特許分析レポート・PCT)

APPLIED MATERIALS INCの過去10年間(2011-01-01〜2021-03-31)の特許検索結果[特許データベース PCT]を対象とした最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・分析サービスを提供する「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくことを目的として無料で提供するレポートサービスです。特許検索・分析サービス「パテント・インテグレーション」が保有する日米欧・国際公開からなる最新の特許データに基づく特許分析レポートを提供しています。

APPLIED MATERIALS INCの特許出願件数推移および、同業・競合企業との特許出願件数比較、APPLIED MATERIALS INCの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったAPPLIED MATERIALS INCの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を提供しています。 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

目次
外国特許分析レポート
APPLIED MATERIALS INCの特許出願概要
- 特許出願件数推移
- パテント・ランドスケープ
検索集合 (検索式・分析対象)
同業・競合企業情報
- 同業・競合企業特許件数推移
検索集合(分析対象)
上位共願人情報
- 上位共願人特許件数推移
- 上位共願人詳細
重要特許情報
- 被引用特許
コンテンツについて

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。知財情報を活用したオープン＆クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。是非、「パテント・インテグレーション」を御活用いただき、ワンランク上の知財活動を実現してください。

外国特許分析レポート

「APPLIED MATERIALS INC」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。クリックすることで各国の特許出願動向を短時間で確認することができます。

各国の特許出願動向
国名	出願人・権利者名
日本	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
米国	APPLIED MATERIALS INC
欧州	APPLIED MATERIALS INC
PCT	APPLIED MATERIALS INC

APPLIED MATERIALS INCの特許出願概要 (PCT)

出願人・権利者「APPLIED MATERIALS INC」の直近(2019-01-01〜2019-09-30)の特許出願件数は 416件です。前年同期間(2018-01-01〜2018-09-30)の特許出願件数 344件に比べて +72件(20.9%) と大幅に増加しています。

出願件数が最も多い年は 2019年の565件、最も少ない年は 2012年の307件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計2,084件)の平均値は417件、中央値は414件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.20であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標	値
平均値	417 件
標準偏差	83.1
変動係数	0.20

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は増加傾向です。

直近3年間の出願傾向
年	件数	前年比
2019 年	565 件	+32.3 %
2018 年	427 件	+3.14 %
2017 年	414 件	+26.99 %

APPLIED MATERIALS INC PCT特許件数推移

APPLIED MATERIALS INC の過去 20年間の特許出願件数推移(PCT)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、APPLIED MATERIALS INCにおいてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解することができます。出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認することができます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握することができます。特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認することができます。また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認することができます。 IPランドスケープの各社の知財戦略の仮説検討に最適です。リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析することができます。

{{titem.label}}

特徴語 (重要度)

APPLIED MATERIALS INC の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「3,883件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース

国際出願

特許検索式

出願人・権利者：
APPLIED MATERIALS INC

特許分析期間

2011-01-01〜2021-03-31

対象件数

3,883 件

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位共願人情報 (PCT)

APPLIED MATERIALS INCの上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。

上位共願人を確認することで、APPLIED MATERIALS INCがどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考情報とすることができます。

また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、APPLIED MATERIALS INCのアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認することができます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査することができます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、共願件数が最も多いのは APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD の4件、次に多いのは LINDENBERG RALPH の4件です。

直近3年間(2019〜2021年)の特許共願傾向
名前・名称	件数
APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD	4 件
LINDENBERG RALPH	4 件
BANGERT STEFAN	1 件

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、共願件数が最も多いのは BANGERT STEFAN の55件、次に多いのは LINDENBERG RALPH の48件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向
名前・名称	件数
BANGERT STEFAN	55 件
LINDENBERG RALPH	48 件
APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD	21 件

上位共願人 PCT特許件数推移

APPLIED MATERIALS INC の過去20年間の上位共願人6社のPCT特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

上位共願人詳細 (PCT)

WHITE JOHN M の特許共願傾向

WHITE JOHN M の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 20件です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計9件)の平均値は1.8件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2017年の5件、最も少ない年は 2014年の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標	値
平均値	1.8 件
標準偏差	2.2
変動係数	1.2

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2017 年	5 件	+25.00 %
2016 年	4 件	-
2015 年	0 件	-

APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD の特許共願傾向

APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 21件です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計9件)の平均値は1.8件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2018年の5件、最も少ない年は 2013年の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標	値
平均値	1.8 件
標準偏差	1.9
変動係数	1.1

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2019 年	1 件	-80.0 %
2018 年	5 件	-
2017 年	0 件	-

BANGERT STEFAN の特許共願傾向

BANGERT STEFAN の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 55件です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計36件)の平均値は7.2件、中央値は8.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2018年の12件、最も少ない年は 2012年の1件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標	値
平均値	7.2 件
標準偏差	3.5
変動係数	0.5

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2019 年	1 件	-91.7 %
2018 年	12 件	+71.4 %
2017 年	7 件	-12.50 %

CHOI SOO YOUNG の特許共願傾向

CHOI SOO YOUNG の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 14件です。

過去10年間の共願件数(2010〜2019年、計20件)の平均値は2.0件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2013年の5件、最も少ない年は 2014年の0件です。

過去10年間(2010〜2019年)の共願情報
指標	値
平均値	2.0 件
標準偏差	2.5
変動係数	1.2

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2013 年	5 件	0
2012 年	5 件	+25.00 %
2011 年	4 件	-33.3 %

LINDENBERG RALPH の特許共願傾向

LINDENBERG RALPH の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 48件です。

過去5年間の共願件数(2015〜2019年、計29件)の平均値は5.8件、中央値は4.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の共願件数は減少傾向です。共願件数が最も多い年は 2017年の13件、最も少ない年は 2012年の2件です。

過去5年間(2015〜2019年)の共願情報
指標	値
平均値	5.8 件
標準偏差	4.2
変動係数	0.7

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2019 年	4 件	-50.0 %
2018 年	8 件	-38.5 %
2017 年	13 件	+550 %

重要特許情報 (PCT)

APPLIED MATERIALS INC のPCT特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、APPLIED MATERIALS INCが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードすることができます。他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出することができます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。

用語解説

被引用: 他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求: 特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立: 第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供: 出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求: 第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被引用特許

被引用数上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上引用された特許は 505件ありました。平均被引用数は 4.2回です。被引用数が多い特許は WO2014/107290号「(EN) SILICON NITRIDE GAPFILL IMPLEMENTING HIGH DENSITY PLASMA」(131回)、次に多い特許は WO2012/125656号「(EN) METHODS FOR ETCH OF SIN FILMS」(107回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 被引用数上位特許
-	特許番号	発明の名称	回数
1	WO2014/107290	(EN) SILICON NITRIDE GAPFILL IMPLEMENTING HIGH DENSITY PLASMA	131 回
2	WO2012/125656	(EN) METHODS FOR ETCH OF SIN FILMS	107 回
3	WO2011/149638	(EN) SELECTIVE ETCH FOR SILICON FILMS (FR) GRAVURE SÉLECTIVE POUR DES FILMS DE SILICIUM	91 回
4	WO2012/125654	(EN) METHODS FOR ETCH OF METAL AND METAL-OXIDE FILMS	75 回
5	WO2012/148568	(EN) METHOD AND APPARATUS FOR SUBSTRATE TRANSFER AND RADICAL CONFINEMENT	72 回

コンテンツについて

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