最終更新日:2021/04/04

光起電力装置技術 (特許分析レポート・日本)

光起電力装置技術[テーマコード 5F151]の過去10年間(2011-01-01〜2021-03-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・分析サービスを提供する「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくことを目的として無料で提供するレポートサービスです。 特許検索・分析サービス「パテント・インテグレーション」が保有する日米欧・国際公開からなる最新の特許データに基づく特許分析レポートを提供しています。

光起電力装置技術の特許出願件数推移および、同業・競合企業との特許出願件数比較、光起電力装置技術の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった光起電力装置技術の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を提供しています。 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。 是非、「パテント・インテグレーション」を御活用いただき、ワンランク上の知財活動を実現してください。

外国特許分析レポート

「光起電力装置技術」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで各国の特許出願動向を短時間で確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

光起電力装置技術の特許出願概要   (日本)

テーマコード「光起電力装置技術」の直近(2019-01-01〜2019-09-30)の特許出願件数は 419件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-09-30)の特許出願件数 672件 に比べて -253件(-37.6%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2012年 の3,653件、最も少ない年は 2019年 の446件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計5,526件)の平均値は1,105件、中央値は1,094件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 1,105
標準偏差 441
変動係数 0.4

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 446 -48.7 %
2018 年 869 -20.57 %
2017 年 1,094 -20.15 %

光起電力装置技術 日本特許件数 推移

光起電力装置技術 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、光起電力装置技術においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解することができます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認することができます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握することができます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認することができます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認することができます。 IPランドスケープの各社の知財戦略の仮説検討に最適です。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析することができます。 

特徴語 (重要度)

光起電力装置技術 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「17,700件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
テーマコード:
光起電力装置技術[テーマコード 5F151]
特許分析期間
2011-01-01〜2021-03-31
対象件数
17,700

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位企業 情報  (日本)

技術テーマ「光起電力装置技術」における上位出願人の特許情報を以下に示します。各企業の特許件数を比較することで、過去および現在の各社の技術テーマにおける研究開発状況や、技術テーマにおける各社の位置付けを確認することができます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、直近3年間(2019〜2021年)において、出願件数が最も多いのは 株式会社カネカ の35件、次に多いのは パナソニック株式会社 の25件です。

直近3年間(2019〜2021年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
株式会社カネカ 35
パナソニック株式会社 25
三菱電機株式会社 16

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向

上位出願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、出願件数が最も多いのは シャープ株式会社 の1,008件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の638件です。

対象期間(2011〜2021年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
シャープ株式会社 1,008
三菱電機株式会社 638
京セラ株式会社 598

上位企業 日本特許件数 推移

光起電力装置技術 の過去20年間の 上位出願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

シャープ株式会社 の特許出願傾向

シャープ株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 1,008件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計174件)の平均値は34.8件、中央値は21.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の380件、最も少ない年は 2019年 の6件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 34.8
標準偏差 25.2
変動係数 0.7
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 6 -68.4 %
2018 年 19 -9.52 %
2017 年 21 -61.1 %

キヤノン株式会社 の特許出願傾向

キヤノン株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 9件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計8件)の平均値は1.6件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

出願件数が最も多い年は 2016年 の5件、最も少ない年は 2012年 の0件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 1.6
標準偏差 2.1
変動係数 1.3
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2016 年 5 +66.7 %
2015 年 3 -
2014 年 0 -

三洋電機株式会社 の特許出願傾向

三洋電機株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 105件 です。

過去10年間の出願件数(2010〜2019年、計221件)の平均値は22.1件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.8であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

出願件数が最も多い年は 2011年 の85件、最も少ない年は 2014年 の0件です。

過去10年間(2010〜2019年)の出願情報
指標
平均値 22.1
標準偏差 40.0
変動係数 1.8
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2013 年 7 -46.2 %
2012 年 13 -84.7 %
2011 年 85 -26.72 %

京セラ株式会社 の特許出願傾向

京セラ株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 598件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計139件)の平均値は27.8件、中央値は26.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2011年 の136件、最も少ない年は 2019年 の7件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 27.8
標準偏差 16.8
変動係数 0.6
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 7 -56.2 %
2018 年 16 -38.5 %
2017 年 26 -23.53 %

三菱電機株式会社 の特許出願傾向

三菱電機株式会社 の分析対象期間(2011〜2021年)の出願件数は 638件 です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計170件)の平均値は34.0件、中央値は33.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2012年 の165件、最も少ない年は 2019年 の15件です。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 34.0
標準偏差 15.6
変動係数 0.5
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 15 -21.05 %
2018 年 19 -42.4 %
2017 年 33 -31.2 %

重要特許情報   (日本)

光起電力装置技術 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、光起電力装置技術が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードすることができます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出することができます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被無効審判請求 特許

被無効審判請求数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 2件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許5480448号「鉛−テルル−リチウム−酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用」(1回)、次に多い特許は 特許5279937号「太陽光発電装置、太陽光発電パネル載置架台、太陽光発電装置の施工方法、太陽光発電パネル載置架台の施工方法」(1回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 無効審判請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5480448 鉛−テルル−リチウム−酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用 1
2 特許5279937 太陽光発電装置、太陽光発電パネル載置架台、太陽光発電装置の施工方法、太陽光発電パネル載置架台の施工方法 1

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-04-01〜2021-03-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 8件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6734412号「金属ハロゲン化物ペロブスカイト及び不動態化剤を含む光起電力デバイス」(異議申立日 2021-02-05)、次は 特許6660930号「光電子素子」(異議申立日 2020-09-11)です。

直近の異議申立 (2018-04-01〜2021-03-31)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6734412 金属ハロゲン化物ペロブスカイト及び不動態化剤を含む光起電力デバイス 2021-02-05
2 特許6660930 光電子素子 2020-09-11
3 特許6455099 太陽電池ユニット及び太陽電池ユニットの製造方法 2019-07-05
4 特許6426855 エチレンポリマー、モノペルオキシカーボネートおよびt−アルキルヒドロペルオキシドを含む硬化性組成物 2019-05-21
5 特許6329068 パネル支持装置 2018-11-21
6 特許6309269 有機電子装置を調製するための配合物および方法 2018-09-21
7 特許6297554 ソーラーパネルをコーティングする方法 2018-09-19
8 特許6272690 両面セパレータ付き封止用シート、及び、半導体装置の製造方法 2018-07-13

3件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-04-01〜2021-03-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 19件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2019-045422号「アーク検出装置」(情報提供日 2020-12-03)、次は 再公表2017/110953号「成膜方法」(情報提供日 2020-11-27)です。

直近の情報提供 (2018-04-01〜2021-03-31)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2019-045422 アーク検出装置 2020-12-03
2 再公表2017/110953 成膜方法 2020-11-27
3 特開2020-129670 赤外線反射シート 2020-10-21
4 特表2018-511929 低粒子含有量をもつ調合物 2020-07-31
5 特開2018-010955 太陽電池モジュール用の裏面保護シート及びそれを用いてなる太陽電池モジュール 2020-07-21
6 特許6814445 太陽光発電パネル、舗装構造体および壁面構造体 2020-07-07
7 特許6754576 積層フィルム 2020-04-28
8 特表2019-532958 有機エレクトロルミネッセンスデバイスのための材料 2020-03-02
9 特開2017-101145 接着剤組成物、封止シート、及び封止体 2020-01-30
10 特開2018-142597 太陽電池モジュール 2019-11-29
11 特開2017-078136 エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、これを用いたシート成形物、太陽電池封止材、太陽電池モジュール、及びエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂の製造方法 2019-11-15
12 特許6743377 離型フィルム付粘着物品の製造方法、及び光学装置構成用積層体の製造方法 2019-10-11
13 特開2018-125381 太陽電池モジュール 2019-10-11
14 特許6664352 重合体、組成物、塗膜、積層体、バックシート及び太陽電池モジュール 2019-10-11
15 特許6720544 太陽光発電量予測方法及び太陽光発電量予測装置、並びに太陽光発電量予測システム 2019-03-22
16 特開2018-069449 未加硫シリコーンゴム積層体 2018-12-13
17 特表2016-527857 太陽電池アセンブリ 2018-11-20
18 特許6554703 システム 2018-08-20
19 特許6457390 電極の製造における銀ナノ粒子及び球形の銀ミクロ粒子を含む導電性ペースト 2018-05-07

14件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 155件 ありました。平均情報提供数は 2.5回 です。 情報提供数が多い特許は 特許5616853号「太陽電池用電極線材」(12回)、次に多い特許は 特許6329068号「パネル支持装置」(10回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5616853 太陽電池用電極線材 12
2 特許6329068 パネル支持装置 10
3 特許5951971 ポリエステルフィルム及びその製造方法、太陽電池用バックシート、及び太陽電池モジュール 10
4 特開2012-238908 太陽電池裏面封止用シート 8
5 特許5782112 鉛およびテルル酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用 8

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-04-01〜2021-03-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 60件 ありました。平均閲覧請求数は 3.3回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2019-045422号「アーク検出装置」(閲覧請求日 2021-01-14)、次は 特表2018-535385号「パネル保守システム」(閲覧請求日 2020-12-28)です。

直近の閲覧請求 (2018-04-01〜2021-03-31)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2019-045422 アーク検出装置 2021-01-14
2 特表2018-535385 パネル保守システム 2020-12-28
3 特開2020-129670 赤外線反射シート 2020-11-11
4 特許6642841 こけら葺き状太陽電池モジュール 2020-10-28
5 特許6554703 システム 2020-10-28
6 特許6263186 光電子素子 2020-10-02
7 特表2018-511929 低粒子含有量をもつ調合物 2020-08-05
8 特許6814445 太陽光発電パネル、舗装構造体および壁面構造体 2020-07-31
9 特開2018-010955 太陽電池モジュール用の裏面保護シート及びそれを用いてなる太陽電池モジュール 2020-07-28
10 特許6754576 積層フィルム 2020-06-12
11 特許6600893 知能太陽エネルギー街灯システム 2020-03-26
12 特許6141423 フラーレン誘導体、及びn型半導体材料 2020-03-05
13 特開2017-101145 接着剤組成物、封止シート、及び封止体 2020-02-25
14 特許5778388 ポリオレフィンコポリマーを含む電子装置モジュール 2020-02-20
15 特許6487469 太陽光パネル洗浄装置および太陽光パネル洗浄方法 2020-02-07
16 特許6392866 結晶シリコン太陽電池の表面テクスチャ構造及びその製造方法 2020-01-30
17 特許6624187 太陽電池用封止シート 2019-12-26
18 特開2017-078136 エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、これを用いたシート成形物、太陽電池封止材、太陽電池モジュール、及びエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂の製造方法 2019-12-04
19 特開2018-142597 太陽電池モジュール 2019-12-03
20 特許6743377 離型フィルム付粘着物品の製造方法、及び光学装置構成用積層体の製造方法 2019-11-05

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 437件 ありました。平均閲覧請求数は 2.5回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許5616853号「太陽電池用電極線材」(42回)、次に多い特許は 特許5782112号「鉛およびテルル酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用」(14回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許5616853 太陽電池用電極線材 42
2 特許5782112 鉛およびテルル酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用 14
3 特許5480448 鉛−テルル−リチウム−酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用 8
4 特許6329068 パネル支持装置 8
5 特許6309269 有機電子装置を調製するための配合物および方法 8

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-04-01〜2021-03-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 4,720件 ありました。平均被引用数は 2.0回 です。 被引用数が多い特許は 特許6263186号「光電子素子」(15回)、次に多い特許は 特許5908468号「グラファイト剥離によってグラフェンを形成する方法」(15回)です。

10年間(2011-04-01〜2021-03-31) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6263186 光電子素子 15
2 特許5908468 グラファイト剥離によってグラフェンを形成する方法 15
3 特開2012-216535 金属ナノワイヤー含有透明導電膜及びその塗布液 14
4 特開2015-058758 構造物点検システム 14
5 特許5940922 自然エネルギー量予測装置 14

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