本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「セイコーエプソン株式会社」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
出願人・権利者「セイコーエプソン株式会社」の直近(2023-01-01〜2023-03-31)の特許出願件数は 736件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-03-31)の特許出願件数 791件 に比べて -55件(-7.0%) と弱含みに推移しています。
出願件数が最も多い年は 2014年 の4,151件、最も少ない年は 2021年 の1,827件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計11,418件)の平均値は1,903件、中央値は1,982件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.24であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,903 件 |
標準偏差 | 464 |
変動係数 | 0.24 |
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1,987 件 | +8.76 % |
2021 年 | 1,827 件 | -7.63 % |
2020 年 | 1,978 件 | -16.19 % |
セイコーエプソン株式会社の過去10年間(2014-01-01〜2024-11-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、セイコーエプソン株式会社の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、セイコーエプソン株式会社の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったセイコーエプソン株式会社の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
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近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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「セイコーエプソン株式会社」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「セイコーエプソン株式会社」の各国における特許出願動向を確認できます。
国名 | 出願人・権利者名 |
---|---|
日本 | セイコーエプソン株式会社 |
米国 | SEIKO EPSON CORPORATION |
欧州 | SEIKO EPSON CORPORATION |
PCT | SEIKO EPSON CORPORATION |
セイコーエプソン株式会社 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、セイコーエプソン株式会社においてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
セイコーエプソン株式会社 の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「25,634件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
セイコーエプソン株式会社と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の7,415件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の2,943件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 7,415 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 2,943 件 |
株式会社リコー | 2,124 件 |
ブラザー工業株式会社 | 1,437 件 |
大日本印刷株式会社 | 1,150 件 |
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 1,039 件 |
コニカミノルタ株式会社 | 896 件 |
富士フイルム株式会社 | 865 件 |
カシオ計算機株式会社 | 622 件 |
東芝テック株式会社 | 491 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の62,807件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の25,634件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 62,807 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 25,634 件 |
株式会社リコー | 23,095 件 |
コニカミノルタ株式会社 | 15,255 件 |
大日本印刷株式会社 | 15,070 件 |
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 13,770 件 |
富士フイルム株式会社 | 13,210 件 |
ブラザー工業株式会社 | 11,534 件 |
カシオ計算機株式会社 | 6,734 件 |
東芝テック株式会社 | 5,697 件 |
株式会社東芝 | 589 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業12社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
セイコーエプソン株式会社の上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。
上位共願人を確認することで、セイコーエプソン株式会社がどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。
また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、セイコーエプソン株式会社のアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、共願件数が最も多いのは 株式会社キングジム の71件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
株式会社キングジム | 71 件 |
セイコーエプソン株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
セイコーエプソン株式会社 の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
株式会社キングジム の分析対象期間(2014〜2024年)の共願件数は 71件 です。
過去5年間の共願件数(2018〜2023年、計26件)の平均値は4.3件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.8であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。
共願件数が最も多い年は 2014年 の23件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 4.3 件 |
標準偏差 | 7.7 |
変動係数 | 1.8 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2019 年 | 5 件 | -76.2 % |
2018 年 | 21 件 | +200 % |
2017 年 | 7 件 | +75.0 % |
セイコーエプソン株式会社 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、セイコーエプソン株式会社が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-12-01〜2024-11-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 8件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7286999号「圧電素子、液体吐出ヘッド、およびプリンター」(異議申立日 2023-12-04)、次は 特許7167906号「波長変換素子、波長変換素子の製造方法、光源装置及びプロジェクター」(異議申立日 2023-03-16)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7286999 | 圧電素子、液体吐出ヘッド、およびプリンター | 2023-12-04 |
2 | 特許7167906 | 波長変換素子、波長変換素子の製造方法、光源装置及びプロジェクター | 2023-03-16 |
3 | 特許7094491 | 記録方法 | 2022-12-26 |
4 | 特許6992415 | ロボットシステムの制御装置及びロボットシステム | 2022-07-11 |
5 | 特許6981483 | インクジェットインク組成物及びインクジェット記録方法 | 2022-06-14 |
6 | 特許6977752 | インクジェットインク組成物及びインクジェット記録方法、インクセット | 2022-06-07 |
7 | 特許6970355 | インクジェットインク組成物及びインクジェット記録方法 | 2022-05-23 |
8 | 特許6897727 | 非水系インクジェットインク組成物 | 2021-12-27 |
直近3年間(2021-12-01〜2024-11-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 29件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2023-153185号「放射線硬化型インクジェット組成物及び記録方法」(情報提供日 2024-11-14)、次は 特開2022-154413号「磁性ビーズおよび磁性ビーズの製造方法」(情報提供日 2024-09-30)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-153185 | 放射線硬化型インクジェット組成物及び記録方法 | 2024-11-14 |
2 | 特開2022-154413 | 磁性ビーズおよび磁性ビーズの製造方法 | 2024-09-30 |
3 | 特開2022-128872 | 皮膚洗浄用液体噴射装置 | 2024-08-02 |
4 | 特開2021-183297 | シート状フィルター、マスクおよびシート製造装置 | 2024-03-11 |
5 | 特許7547718 | 記録方法及び記録装置 | 2023-11-15 |
6 | 特開2023-085265 | 低粒子含有量をもつ調合物 | 2023-10-31 |
7 | 特開2022-011406 | 圧電素子、液体吐出ヘッド、およびプリンター | 2023-10-13 |
8 | 特許7463795 | 放射線硬化型インクジェット組成物及びインクジェット方法 | 2023-09-08 |
9 | 特許7435121 | 放射線硬化型インクジェット組成物及びインクジェット方法 | 2023-05-24 |
10 | 特開2021-042322 | 放射線硬化型インクジェット組成物及びインクジェット方法 | 2023-04-28 |
11 | 特許7288576 | 印刷装置 | 2023-04-17 |
12 | 特許7451874 | 記録方法、及び記録装置 | 2023-04-12 |
13 | 特許7252509 | インクジェット方法及び記録装置 | 2023-02-22 |
14 | 特許7413748 | インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置 | 2023-01-27 |
15 | 特許7328616 | インクセット、記録方法、及び記録装置 | 2023-01-27 |
16 | 特許7375372 | インクジェット記録方法、インクジェット記録装置、インクセット | 2023-01-27 |
17 | 特開2022-096109 | 歯車装置およびロボット | 2022-11-02 |
18 | 特許7268520 | 磁性粉末、磁性粉末の製造方法、圧粉磁心およびコイル部品 | 2022-10-28 |
19 | 特許7263898 | 液体吐出ヘッドおよびプリンター | 2022-10-24 |
20 | 特許7427915 | インクジェット記録方法及びインクセット | 2022-10-21 |
直近10年間(2014-12-01〜2024-11-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 98件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許6590302号「紫外線硬化型インクジェット組成物及び収容体」(6回)、次に多い特許は 特許6525037号「インクジェット記録方法、インクジェット記録装置」(4回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6590302 | 紫外線硬化型インクジェット組成物及び収容体 | 6 回 |
2 | 特許6525037 | インクジェット記録方法、インクジェット記録装置 | 4 回 |
3 | 特許7252509 | インクジェット方法及び記録装置 | 3 回 |
4 | 特開2016-104572 | 印刷方法 | 3 回 |
5 | 特許6458816 | 記録方法 | 3 回 |
直近3年間(2021-12-01〜2024-11-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 73件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-153185号「放射線硬化型インクジェット組成物及び記録方法」(閲覧請求日 2024-11-19)、次は 特開2022-154413号「磁性ビーズおよび磁性ビーズの製造方法」(閲覧請求日 2024-11-01)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-153185 | 放射線硬化型インクジェット組成物及び記録方法 | 2024-11-19 |
2 | 特開2022-154413 | 磁性ビーズおよび磁性ビーズの製造方法 | 2024-11-01 |
3 | 特開2022-128872 | 皮膚洗浄用液体噴射装置 | 2024-08-07 |
4 | 特許6354502 | 光源装置およびプロジェクター | 2024-04-30 |
5 | 特許6693342 | 表示システム、及び表示システムの制御方法 | 2024-04-30 |
6 | 特許5949975 | 投射光学系 | 2024-04-30 |
7 | 特許5939324 | 投射光学系 | 2024-04-30 |
8 | 特許5930101 | 投射光学系及びプロジェクター | 2024-04-30 |
9 | 特許6658712 | プロジェクター | 2024-04-30 |
10 | 特許6693367 | プロジェクションシステムシステム、及びプロジェクションシステムの制御方法 | 2024-04-30 |
11 | 特許5930085 | 投射光学系 | 2024-04-30 |
12 | 特許5930088 | 投射光学系 | 2024-04-30 |
13 | 特許5950000 | 投射光学系及びプロジェクター | 2024-04-30 |
14 | 特許6813118 | 照明装置及びプロジェクター | 2024-04-30 |
15 | 特開2021-183297 | シート状フィルター、マスクおよびシート製造装置 | 2024-04-03 |
16 | 特許4207858 | 半導体装置、表示装置及び電子機器 | 2024-02-08 |
17 | 特許4389780 | 液晶装置の製造方法、液晶装置、及び電子機器 | 2024-02-08 |
18 | 特許5176843 | 電気光学装置、電子機器および投射型表示装置 | 2024-02-08 |
19 | 特許6885440 | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 | 2024-02-06 |
20 | 特許6737319 | プロジェクターおよびプロジェクターの制御方法 | 2024-02-06 |
直近10年間(2014-12-01〜2024-11-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 131件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6590302号「紫外線硬化型インクジェット組成物及び収容体」(7回)、次に多い特許は 特許6458816号「記録方法」(4回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6590302 | 紫外線硬化型インクジェット組成物及び収容体 | 7 回 |
2 | 特許6458816 | 記録方法 | 4 回 |
3 | 特開2019-064087 | 記録方法、及び記録装置 | 4 回 |
4 | 特許6525037 | インクジェット記録方法、インクジェット記録装置 | 4 回 |
5 | 特許6701617 | インクジェットインク組成物及びインクジェット記録方法 | 3 回 |
直近10年間(2014-12-01〜2024-11-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 6,838件 ありました。平均被引用数は 2.7回 です。 被引用数が多い特許は 特許6597034号「磁場計測方法及び磁場計測装置」(49回)、次に多い特許は 特開2018-004462号「磁場計測装置、磁場計測装置の調整方法、および磁場計測装置の製造方法」(46回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6597034 | 磁場計測方法及び磁場計測装置 | 49 回 |
2 | 特開2018-004462 | 磁場計測装置、磁場計測装置の調整方法、および磁場計測装置の製造方法 | 46 回 |
3 | 特許6583058 | パフォーマンスモニタリング装置、パフォーマンスモニタリング方法、及びパフォーマンスモニタリングプログラム | 30 回 |
4 | 特許6696236 | 表示装置および導光装置 | 27 回 |
5 | 特開2017-083978 | ウェアラブル端末装置及び画像処理方法 | 26 回 |
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