HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED 特許分析・パテントマップ(米国特許)

最終更新日：2020/11/14

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED (特許分析レポート・米国)

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITEDの過去10年間(2010-01-01〜2020-11-30)の特許検索結果[特許データベース米国]を対象とした特許分析情報(パテントマップ、特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは特許データベース会社「Patent Integration」が提供する特許分析レポートサービスです。特許調査・分析業務に活用いただくことを目的として、現在ベータサービスとして提供しております。

保有特許の全体像は、特許テキストマイニング技術を用いて作成された「パテント・ランドスケープ」により俯瞰することができます。

目次
外国特許分析レポート
HIMAX TECHNOLOGIES LIMITEDの特許出願概要
- 特許出願件数推移
- パテント・ランドスケープ
検索集合 (検索式・分析対象)
同業・競合企業情報
- 同業・競合企業特許件数推移
検索集合(分析対象)
上位共願人情報
- 上位共願人特許件数推移
- 上位共願人詳細
重要特許情報
- 被引用特許
コンテンツについて
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外国特許分析レポート

「HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。クリックすることで各国の特許出願動向を簡単に確認することができます。

各国の特許出願動向
国名	出願人・権利者名

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITEDの特許出願概要 (米国)

出願人・権利者「HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED」の直近(2019-01-01〜2019-05-31)の特許出願件数は 16件です。前年同期間(2018-01-01〜2018-05-31)の特許出願件数 17件に比べて -1件(-5.9%) と弱含みに推移しています。

出願件数が最も多い年は 2011年の86件、最も少ない年は 2016年の31件です。

過去5年間の出願件数(2014〜2018年、計201件)の平均値は40.2件、中央値は37.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.17であり、年ごとの出願件数のばらつきは小さいです。

過去5年間(2014〜2018年)の出願情報
指標	値
平均値	40.2 件
標準偏差	6.9
変動係数	0.17

直近3年間(2016〜2018年)の出願件数は増加傾向です。

直近3年間の出願傾向
年	件数	前年比
2018 年	50 件	+8.70 %
2017 年	46 件	+48.4 %
2016 年	31 件	-16.22 %

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED 米国特許件数推移

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED の過去 20年間の特許出願件数推移(米国)は以下の通りです。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ ({{ld.d.db_name|country_map}})

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED が保有する過去 10年間、{{ld.d.dlcnt|number}}件の{{ld.d.db_name|country_map}}特許の全体像をパテント・ランドスケープ機能により俯瞰できます。ヒートマップはキーワードに関連するそれぞれの特許出願状況(注力領域)を表現しており、赤い領域ほど多くの特許出願がなされていることを意味します。出願年でフィルタすることにより、過去の出願傾向(注力してきた技術領域)の変遷を確認することができます。

{{titem.label}}

特徴語 (重要度)

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」は以下の通りです。重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「478件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。特許分析結果、パテントマップなどの特許情報は、特許調査業務など自由にご利用いただけます。

特許データベース

米国出願・登録特許

特許検索式

出願人・権利者：
HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED

特許分析期間

2010-01-01〜2020-11-30

対象件数

478 件

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位共願人情報 (米国)

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITEDの上位共願人との共有特許の件数推移は以下の通りです。共有特許の件数推移から、HIMAX TECHNOLOGIES LIMITEDの過去および現在の他社連携状況を確認することができます。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2018〜2020年)において、共願件数が最も多いのは NCKU RESEARCH AND DEVELOPMENT FOUNDATION の6件、次に多いのは NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY の2件です。

直近3年間(2018〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称	件数
NCKU RESEARCH AND DEVELOPMENT FOUNDATION	6 件
NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY	2 件
HIMAX IMAGING LIMITED	2 件

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2010〜2020年)において、共願件数が最も多いのは NCKU RESEARCH AND DEVELOPMENT FOUNDATION の29件、次に多いのは NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY の23件です。

対象期間(2010〜2020年)の特許共願傾向
名前・名称	件数
NCKU RESEARCH AND DEVELOPMENT FOUNDATION	29 件
NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY	23 件
HIMAX MEDIA SOLUTIONS INC	8 件

上位共願人米国特許件数推移

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED の過去20年間の上位共願人6社の米国特許の出願件数推移を示すパテントマップは以下の通りです。

上位共願人詳細 (米国)

NCKU RESEARCH AND DEVELOPMENT FOUNDATION の特許共願傾向

NCKU RESEARCH AND DEVELOPMENT FOUNDATION の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 29件です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計18件)の平均値は3.6件、中央値は3.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2014年の7件、最も少ない年は 2013年の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標	値
平均値	3.6 件
標準偏差	1.7
変動係数	0.5

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2018 年	3 件	+50.0 %
2017 年	2 件	-33.3 %
2016 年	3 件	0

NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY の特許共願傾向

NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 23件です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計6件)の平均値は1.2件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.8であり、年ごとの共願件数のばらつきは比較的大きいです。

共願件数が最も多い年は 2011年の9件、最も少ない年は 2012年の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標	値
平均値	1.2 件
標準偏差	1.0
変動係数	0.8

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2018 年	1 件	0
2017 年	1 件	-
2016 年	0 件	-100 %

HIMAX MEDIA SOLUTIONS INC の特許共願傾向

HIMAX MEDIA SOLUTIONS INC の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 8件です。

過去10年間の共願件数(2009〜2018年、計11件)の平均値は1.1件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.4であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2010年の5件、最も少ない年は 2013年の0件です。

過去10年間(2009〜2018年)の共願情報
指標	値
平均値	1.1 件
標準偏差	1.6
変動係数	1.4

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2018 年	1 件	-
2017 年	0 件	-
2016 年	0 件	-

HIMAX DISPLAY INC の特許共願傾向

HIMAX DISPLAY INC の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 4件です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計2件)の平均値は0.4件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.2であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2018年の1件、最も少ない年は 2012年の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標	値
平均値	0.4 件
標準偏差	0.5
変動係数	1.2

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2018 年	1 件	-
2017 年	0 件	-100 %
2016 年	1 件	-

HIMAX IMAGING LIMITED の特許共願傾向

HIMAX IMAGING LIMITED の分析対象期間(2010〜2020年)の共願件数は 7件です。

過去5年間の共願件数(2014〜2018年、計6件)の平均値は1.2件、中央値は1.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.3であり、年ごとの共願件数のばらつきは大きいです。

共願件数が最も多い年は 2018年の2件、最も少ない年は 2010年の0件です。

過去5年間(2014〜2018年)の共願情報
指標	値
平均値	1.2 件
標準偏差	0.4
変動係数	0.3

直近3年間の共願傾向
年	件数	前年比
2018 年	2 件	+100 %
2017 年	1 件	0
2016 年	1 件	0

重要特許情報 (米国)

HIMAX TECHNOLOGIES LIMITED の保有米国特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許は以下の通りです。

用語解説

被引用: 他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求: 特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立: 第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供: 出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求: 第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被引用特許

被引用数上位特許

直近10年間(2010-12-01〜2020-11-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上引用された特許は 191件ありました。平均被引用数は 4.3回です。被引用数が多い特許は USP8761491号「Stereo-matching processor using belief propagation」(59回)、次に多い特許は USA2012/0293489号「NONLINEAR DEPTH REMAPPING SYSTEM AND METHOD THEREOF」(44回)です。

10年間(2010-12-01〜2020-11-30) 被引用数上位特許
-	特許番号	発明の名称	回数
1	USP8761491	Stereo-matching processor using belief propagation	59 回
2	USA2012/0293489	NONLINEAR DEPTH REMAPPING SYSTEM AND METHOD THEREOF	44 回
3	USA2015/0199035	STYLUS WITHOUT ACTIVE COMPONENTS AND AN ASSOCIATED TOUCH PANEL	30 回
4	USP8636361	Learning-based visual attention prediction system and method thereof	27 回
5	USP8451151	Successive approximation analog to digital converter with capacitor mismatch calibration and method thereof	25 回

コンテンツについて

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