本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「ラムリサーチコーポレーション」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
出願人・権利者「ラムリサーチコーポレーション」の直近(2023-01-01〜2023-02-28)の特許出願件数は 0件 です。前年同期間(2022-01-01〜2022-02-28)の特許出願件数 14件 に比べて -14件(-100.0%) と大幅に減少しています。
出願件数が最も多い年は 2021年 の196件、最も少ない年は 2014年 の48件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計765件)の平均値は128件、中央値は152件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 128 件 |
標準偏差 | 65.0 |
変動係数 | 0.5 |
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 93 件 | -52.6 % |
2021 年 | 196 件 | +13.95 % |
2020 年 | 172 件 | +12.42 % |
ラムリサーチコーポレーションの過去10年間(2014-01-01〜2024-10-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。
本レポートは、ラムリサーチコーポレーションの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、ラムリサーチコーポレーションの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったラムリサーチコーポレーションの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。
近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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特許文書の読解にストレスを感じている皆様へ。 弁理士が開発した「サマリア」は、特許文書読解の時間短縮と理解の深化を実現するAIアシスタントサービスです。 「サマリア」は用語解説、サマリ作成、独自分類付与、スクリーニング、発明評価など知財担当者に寄り添う様々な機能を提供します。 また、英語・中国語にも対応しています。
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「ラムリサーチコーポレーション」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「ラムリサーチコーポレーション」の各国における特許出願動向を確認できます。
国名 | 出願人・権利者名 |
---|---|
日本 | ラムリサーチコーポレーション |
米国 | LAM RESEARCH CORPORATION |
PCT | LAM RESEARCH CORPORATION |
ラムリサーチコーポレーション の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。
パテント・ランドスケープにより、ラムリサーチコーポレーションにおいてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解できます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認できます。
出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握できます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。
また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。
「パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認できます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認できます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ラムリサーチコーポレーション の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「1,086件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
ラムリサーチコーポレーションと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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同業0社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
ラムリサーチコーポレーションの上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。
上位共願人を確認することで、ラムリサーチコーポレーションがどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考にできます。
また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、ラムリサーチコーポレーションのアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査できます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、共願件数が最も多いのは インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション の2件、次に多いのは エムケーエスインストゥルメンツインコーポレイテッド の1件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 2 件 |
エムケーエスインストゥルメンツインコーポレイテッド | 1 件 |
エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 1 件 |
ラムリサーチコーポレーション の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
ラムリサーチコーポレーション の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
ラムリサーチコーポレーション の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、ラムリサーチコーポレーションが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 1件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7356446号「封止表面を有する静電チャック」(異議申立日 2024-04-02)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7356446 | 封止表面を有する静電チャック | 2024-04-02 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 4件 ありました。平均情報提供数は 1.0回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特表2022-536677号「プラズマ処理チャンバ構成部品のためのシーラント被膜」(情報提供日 2024-04-05)、次は 特表2023-516490号「基板処理システム用のスタッドアレイ付き接合層を含む基板支持台」(情報提供日 2024-03-21)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特表2022-536677 | プラズマ処理チャンバ構成部品のためのシーラント被膜 | 2024-04-05 |
2 | 特表2023-516490 | 基板処理システム用のスタッドアレイ付き接合層を含む基板支持台 | 2024-03-21 |
3 | 特表2023-502137 | プラズマチャンバの低温焼結コーティング | 2024-02-26 |
4 | 特許7534292 | He孔着火/アーク放電を防止する特徴を有する高出力静電チャック | 2023-02-27 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 5件 ありました。平均情報提供数は 1.0回 です。 情報提供数が多い特許は 特表2022-536677号「プラズマ処理チャンバ構成部品のためのシーラント被膜」(1回)、次に多い特許は 特許7534292号「He孔着火/アーク放電を防止する特徴を有する高出力静電チャック」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特表2022-536677 | プラズマ処理チャンバ構成部品のためのシーラント被膜 | 1 回 |
2 | 特許7534292 | He孔着火/アーク放電を防止する特徴を有する高出力静電チャック | 1 回 |
3 | 特表2023-502137 | プラズマチャンバの低温焼結コーティング | 1 回 |
4 | 特開2015-135963 | 改善されたウェハ・ハンドリングのための微細構造体 | 1 回 |
5 | 特表2023-516490 | 基板処理システム用のスタッドアレイ付き接合層を含む基板支持台 | 1 回 |
直近3年間(2021-11-01〜2024-10-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 9件 ありました。平均閲覧請求数は 1.0回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2018-145524号「電気メッキのための幅広リップシール」(閲覧請求日 2023-06-27)、次は 特許7536451号「トランス結合容量性同調切り替えを用いたトランス結合プラズマパルス化のためのシステムおよび方法」(閲覧請求日 2023-03-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2018-145524 | 電気メッキのための幅広リップシール | 2023-06-27 |
2 | 特許7536451 | トランス結合容量性同調切り替えを用いたトランス結合プラズマパルス化のためのシステムおよび方法 | 2023-03-14 |
3 | 特許7394520 | 最適化された低エネルギ/高生産性の蒸着システム | 2022-12-13 |
4 | 特開2019-157274 | パルスレーザー堆積方法 | 2022-08-16 |
5 | 特開2022-046440 | PLD用窒化スカンジウムアルミニウムターゲットの製造方法 | 2022-08-16 |
6 | 特許7506461 | 基板における粒子低減用のパルスレーザ蒸着及び基板表面を有する基板用の装置 | 2022-08-16 |
7 | 特開2021-191894 | レーザー堆積中の基板の応力制御方法 | 2022-08-16 |
8 | 特開2021-130871 | プラズマプルーム用のフィルタ | 2022-08-16 |
9 | 特許7254437 | シリコン部品を調整するための方法 | 2022-06-28 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 14件 ありました。平均閲覧請求数は 1.0回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特開2017-025326号「洗浄水溶液」(1回)、次に多い特許は 特許7394520号「最適化された低エネルギ/高生産性の蒸着システム」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特開2017-025326 | 洗浄水溶液 | 1 回 |
2 | 特許7394520 | 最適化された低エネルギ/高生産性の蒸着システム | 1 回 |
3 | 特開2019-157274 | パルスレーザー堆積方法 | 1 回 |
4 | 特開2022-046440 | PLD用窒化スカンジウムアルミニウムターゲットの製造方法 | 1 回 |
5 | 特許7092456 | 連続CVDプロセスによる低フッ素タングステンの堆積 | 1 回 |
直近10年間(2014-11-01〜2024-10-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 240件 ありました。平均被引用数は 4.5回 です。 被引用数が多い特許は 特許6912179号「正面開口式リングポッド」(31回)、次に多い特許は 特許6935985号「原子スケールのALD(原子層堆積)プロセスとALE(原子層エッチング)プロセスとの統合」(25回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6912179 | 正面開口式リングポッド | 31 回 |
2 | 特許6935985 | 原子スケールのALD(原子層堆積)プロセスとALE(原子層エッチング)プロセスとの統合 | 25 回 |
3 | 特許6783521 | 半導体ウエハ処理中におけるエッジ処理制御のための可動式エッジ連結リング | 25 回 |
4 | 特許6852974 | エッジに限局されたイオン軌道制御及びプラズマ動作を通じた、最端エッジにおけるシース及びウエハのプロフィール調整 | 24 回 |
5 | 特開2017-063186 | タングステンおよび他の金属の原子層エッチング | 23 回 |
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