技術分野「現像液」の直近(2022-01-01〜2022-06-30)の特許出願件数は 359件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-06-30)の特許出願件数 351件 に比べて +8件(2.3%) と僅かに増加しています。 本レポートは、「 現像剤 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2015年 の1,811件、最も少ない年は 2022年 の508件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計4,148件)の平均値は691件、中央値は719件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 691 件 |
標準偏差 | 350 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 508 件 | -27.12 % |
2021 年 | 697 件 | -5.94 % |
2020 年 | 741 件 | -29.43 % |
現像液の過去10年間(2014-01-01〜2024-02-29)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、現像液の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、現像液の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった現像液の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
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IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
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現像液 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「10,616件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
現像液と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の104件、次に多いのは 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 の86件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 104 件 |
富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 86 件 |
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 53 件 |
株式会社リコー | 48 件 |
シャープ株式会社 | 25 件 |
ブラザー工業株式会社 | 14 件 |
富士フイルム株式会社 | 11 件 |
コニカミノルタ株式会社 | 2 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の2,349件、次に多いのは 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 の1,667件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 2,349 件 |
富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 1,667 件 |
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 966 件 |
株式会社リコー | 872 件 |
ブラザー工業株式会社 | 587 件 |
富士フイルム株式会社 | 549 件 |
コニカミノルタ株式会社 | 462 件 |
シャープ株式会社 | 177 件 |
株式会社東芝 | 35 件 |
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
現像液と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の104件、次に多いのは 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 の86件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 104 件 |
富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 86 件 |
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 53 件 |
株式会社リコー | 48 件 |
ブラザー工業株式会社 | 14 件 |
コニカミノルタ株式会社 | 2 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の2,349件、次に多いのは 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 の1,667件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 2,349 件 |
富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 1,667 件 |
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 966 件 |
株式会社リコー | 872 件 |
ブラザー工業株式会社 | 587 件 |
コニカミノルタ株式会社 | 462 件 |
現像液 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 2,349件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計988件)の平均値は165件、中央値は156件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の368件、最も少ない年は 2022年 の98件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 165 件 |
標準偏差 | 101 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 98 件 | -38.0 % |
2021 年 | 158 件 | +2.60 % |
2020 年 | 154 件 | -38.9 % |
株式会社リコー の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 872件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計278件)の平均値は46.3件、中央値は50.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の220件、最も少ない年は 2022年 の43件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 46.3 件 |
標準偏差 | 20.5 |
変動係数 | 0.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 43 件 | -4.44 % |
2021 年 | 45 件 | -18.18 % |
2020 年 | 55 件 | -11.29 % |
富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 1,667件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計518件)の平均値は86.3件、中央値は102件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の340件、最も少ない年は 2020年 の49件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 86.3 件 |
標準偏差 | 47.8 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 84 件 | -30.6 % |
2021 年 | 121 件 | +147 % |
2020 年 | 49 件 | -62.9 % |
コニカミノルタ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 462件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計169件)の平均値は28.2件、中央値は22.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2015年 の83件、最も少ない年は 2022年 の2件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 28.2 件 |
標準偏差 | 26.2 |
変動係数 | 0.9 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 2 件 | -83.3 % |
2021 年 | 12 件 | -62.5 % |
2020 年 | 32 件 | -39.6 % |
京セラドキュメントソリューションズ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 966件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計368件)の平均値は61.3件、中央値は69.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の158件、最も少ない年は 2022年 の52件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 61.3 件 |
標準偏差 | 29.9 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 52 件 | -28.77 % |
2021 年 | 73 件 | +12.31 % |
2020 年 | 65 件 | -26.97 % |
現像液 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、現像液が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 3.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許4192197号「メタルマスク及びその製造方法」(無効審判請求日 2022-02-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許4192197 | メタルマスク及びその製造方法 | 2022-02-14 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 異議申立 された特許は 15件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7335579号「電子写真現像剤用キャリア芯材とその製造方法、並びに該キャリア芯材を備えた電子写真現像剤用キャリアと現像剤」(異議申立日 2023-12-11)、次は 特許7108565号「導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法」(異議申立日 2023-01-27)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7335579 | 電子写真現像剤用キャリア芯材とその製造方法、並びに該キャリア芯材を備えた電子写真現像剤用キャリアと現像剤 | 2023-12-11 |
2 | 特許7108565 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 | 2023-01-27 |
3 | 特許7042892 | 中空パッケージの製造方法及び感光性組成物の提供方法 | 2022-07-11 |
4 | 特許6978051 | 電子写真現像剤用フェライトキャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び現像剤 | 2022-06-06 |
5 | 特許6950147 | プロセスカートリッジ | 2022-04-13 |
6 | 特許6931707 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜の製造方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 | 2022-03-07 |
7 | 特許6929086 | キャリア芯材 | 2022-03-01 |
8 | 特許6924885 | キャリア芯材 | 2022-02-21 |
9 | 特許6904484 | フレキソ印刷版 | 2022-01-14 |
10 | 特許6884832 | 感光体カートリッジ及びプロセスカートリッジ | 2021-12-09 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 情報提供 された特許は 29件 ありました。平均情報提供数は 1.6回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2021-162809号「トナー、現像剤及び画像形成装置」(情報提供日 2024-01-12)、次は 特開2023-172918号「オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法」(情報提供日 2023-12-28)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2021-162809 | トナー、現像剤及び画像形成装置 | 2024-01-12 |
2 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023-12-28 |
3 | 特開2021-107912 | EUVリソグラフィ用途のための鎖切断レジスト組成物 | 2023-12-11 |
4 | 特開2022-183247 | 光学フィルタの製造方法 | 2023-11-01 |
5 | 特開2020-190724 | トナー、トナー収容容器、現像剤、現像装置、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | 2023-10-05 |
6 | 特開2021-026229 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2023-08-09 |
7 | 特許7415450 | 現像剤、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | 2023-05-16 |
8 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-04-21 |
9 | 特許7335579 | 電子写真現像剤用キャリア芯材とその製造方法、並びに該キャリア芯材を備えた電子写真現像剤用キャリアと現像剤 | 2023-04-03 |
10 | 特許7299069 | カラーフィルター用顔料分散組成物及びカラーフィルター用顔料分散レジスト組成物 | 2023-02-06 |
11 | 特許7257732 | キャリア芯材並びにこれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 | 2023-01-20 |
12 | 特許7357505 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2022-12-26 |
13 | 特許7392299 | 分散剤付着ポリテトラフルオロエチレン粒子、組成物、層状物、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 | 2022-09-30 |
14 | 特許7171655 | 光酸発生剤を含む反射防止コーティング組成物を使用するパターンの形成方法 | 2022-07-27 |
15 | 特開2021-097237 | 半導体製造用処理液が収容された収容容器 | 2022-07-15 |
16 | 特開2022-013302 | 感光性組成物、硬化物、硬化膜の製造方法、及び樹脂 | 2022-05-17 |
17 | 特許7116529 | キャリア芯材並びにこれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 | 2022-04-02 |
18 | 特許7116530 | キャリア芯材並びにこれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 | 2022-04-02 |
19 | 特許7169216 | カプセルトナー、2成分現像剤及び画像形成装置並びにカプセルトナーの製造方法 | 2022-02-24 |
20 | 特許7129142 | キャリア芯材 | 2022-02-15 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 163件 ありました。平均情報提供数は 1.2回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7129142号「キャリア芯材」(5回)、次に多い特許は 特許7257732号「キャリア芯材並びにこれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7129142 | キャリア芯材 | 5 回 |
2 | 特許7257732 | キャリア芯材並びにこれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 | 5 回 |
3 | 再公表2017/169833 | 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 | 4 回 |
4 | 特許7116529 | キャリア芯材並びにこれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 | 3 回 |
5 | 特許7116530 | キャリア芯材並びにこれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 | 3 回 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 30件 ありました。平均閲覧請求数は 1.2回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2021-162809号「トナー、現像剤及び画像形成装置」(閲覧請求日 2024-02-08)、次は 特開2023-172918号「オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法」(閲覧請求日 2024-02-05)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2021-162809 | トナー、現像剤及び画像形成装置 | 2024-02-08 |
2 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024-02-05 |
3 | 特開2021-107912 | EUVリソグラフィ用途のための鎖切断レジスト組成物 | 2023-12-20 |
4 | 特開2022-183247 | 光学フィルタの製造方法 | 2023-11-09 |
5 | 特開2020-190724 | トナー、トナー収容容器、現像剤、現像装置、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | 2023-10-13 |
6 | 特開2021-026229 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2023-09-12 |
7 | 特開2021-110806 | 自発光型感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、及び画像表示装置 | 2023-08-09 |
8 | 特許7415450 | 現像剤、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | 2023-05-25 |
9 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-05-23 |
10 | 特許7335579 | 電子写真現像剤用キャリア芯材とその製造方法、並びに該キャリア芯材を備えた電子写真現像剤用キャリアと現像剤 | 2023-05-08 |
11 | 特許7357505 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2023-01-06 |
12 | 特許7392299 | 分散剤付着ポリテトラフルオロエチレン粒子、組成物、層状物、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 | 2022-10-26 |
13 | 特開2021-097237 | 半導体製造用処理液が収容された収容容器 | 2022-08-10 |
14 | 特許7171655 | 光酸発生剤を含む反射防止コーティング組成物を使用するパターンの形成方法 | 2022-08-02 |
15 | 特開2022-013302 | 感光性組成物、硬化物、硬化膜の製造方法、及び樹脂 | 2022-06-08 |
16 | 特開2018-189932 | 画像形成装置 | 2022-05-12 |
17 | 特許7175592 | 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法 | 2022-03-29 |
18 | 特許7106956 | 現像剤、現像剤の製造方法および画像形成装置 | 2022-02-10 |
19 | 特許7151289 | 静電荷像現像剤 | 2021-12-15 |
20 | 特許6978051 | 電子写真現像剤用フェライトキャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び現像剤 | 2021-11-30 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 199件 ありました。平均閲覧請求数は 1.2回 です。 閲覧請求数が多い特許は 再公表2017/169833号「半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法」(3回)、次に多い特許は 特許6503644号「二成分現像剤用キャリア、二成分現像剤、画像形成方法、及び、画像形成装置」(3回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 再公表2017/169833 | 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 | 3 回 |
2 | 特許6503644 | 二成分現像剤用キャリア、二成分現像剤、画像形成方法、及び、画像形成装置 | 3 回 |
3 | 特許6755075 | トナー、二成分現像剤、及びカラー画像形成装置 | 3 回 |
4 | 特許7095956 | 印刷版用感光性樹脂版の製造方法 | 3 回 |
5 | 特許6669742 | タッチパネル用水性樹脂組成物、転写フィルム及び硬化膜積層体、並びに樹脂パターンの製造方法及びタッチパネル表示装置 | 2 回 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 2,985件 ありました。平均被引用数は 2.6回 です。 被引用数が多い特許は 特許6590534号「プロセスカートリッジ及び画像形成装置」(53回)、次に多い特許は 特許6269460号「画像形成装置」(43回)です。
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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