本レポートは、SDGs(持続可能な開発目標)の目標(ゴール)である『』に含まれる具体目標(ターゲット)の『』(以下、「回折」と略します)に関して、出願件数推移、出願企業等の情報を提供する特許分析レポートです。
技術分野「回折」の直近(2022-01-01〜2022-07-31)の特許出願件数は 728件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-07-31)の特許出願件数 948件 に比べて -220件(-23.2%) と大幅に減少しています。
出願件数が最も多い年は 2018年 の2,385件、最も少ない年は 2022年 の985件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計9,032件)の平均値は1,505件、中央値は1,686件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1,505 件 |
標準偏差 | 759 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 985 件 | -38.2 % |
2021 年 | 1,594 件 | -10.30 % |
2020 年 | 1,777 件 | -17.88 % |
回折の過去10年間(2014-01-01〜2024-03-31)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、回折の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、回折の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といった回折の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
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近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。
IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。
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回折 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「17,733件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
回折と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の32件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の26件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 32 件 |
大日本印刷株式会社 | 26 件 |
ソニーグループ株式会社 | 8 件 |
株式会社東芝 | 8 件 |
株式会社リコー | 4 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 3 件 |
株式会社ニコン | 2 件 |
株式会社日立製作所 | 1 件 |
日本電気株式会社 | 1 件 |
日本電信電話株式会社 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の482件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の292件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 482 件 |
大日本印刷株式会社 | 292 件 |
株式会社東芝 | 153 件 |
株式会社ニコン | 140 件 |
株式会社リコー | 122 件 |
日本電信電話株式会社 | 116 件 |
ソニーグループ株式会社 | 79 件 |
株式会社日立製作所 | 33 件 |
シャープ株式会社 | 32 件 |
日本電気株式会社 | 26 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 22 件 |
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
回折と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の32件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の26件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 32 件 |
大日本印刷株式会社 | 26 件 |
ソニーグループ株式会社 | 8 件 |
株式会社東芝 | 8 件 |
株式会社リコー | 4 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 3 件 |
株式会社ニコン | 2 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の482件、次に多いのは 大日本印刷株式会社 の292件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 482 件 |
大日本印刷株式会社 | 292 件 |
株式会社東芝 | 153 件 |
株式会社ニコン | 140 件 |
株式会社リコー | 122 件 |
ソニーグループ株式会社 | 79 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 22 件 |
回折 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数ランキングを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
回折 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 482件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計230件)の平均値は38.3件、中央値は33.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2015年 の78件、最も少ない年は 2022年 の27件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 38.3 件 |
標準偏差 | 22.0 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 27 件 | -27.03 % |
2021 年 | 37 件 | +27.59 % |
2020 年 | 29 件 | -52.5 % |
パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 22件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計18件)の平均値は3.0件、中央値は3.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2018年 の6件、最も少ない年は 2017年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 3.0 件 |
標準偏差 | 1.8 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 3 件 | 0 |
2021 年 | 3 件 | +50.0 % |
2020 年 | 2 件 | -50.0 % |
株式会社リコー の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 122件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計48件)の平均値は8.0件、中央値は5.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の25件、最も少ない年は 2022年 の3件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 8.0 件 |
標準偏差 | 7.4 |
変動係数 | 0.9 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 3 件 | -72.7 % |
2021 年 | 11 件 | +120 % |
2020 年 | 5 件 | 0 |
株式会社ニコン の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 140件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計39件)の平均値は6.5件、中央値は3.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.0であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2017年 の30件、最も少ない年は 2022年 の2件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 6.5 件 |
標準偏差 | 6.4 |
変動係数 | 1.0 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 2 件 | -33.3 % |
2021 年 | 3 件 | -25.00 % |
2020 年 | 4 件 | -66.7 % |
大日本印刷株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 292件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計142件)の平均値は23.7件、中央値は22.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2017年 の59件、最も少ない年は 2014年 の18件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 23.7 件 |
標準偏差 | 13.5 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 23 件 | +15.00 % |
2021 年 | 20 件 | -4.76 % |
2020 年 | 21 件 | -19.23 % |
回折 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、回折が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許5474043号「(+)−2−[1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−メチルスルホニルエチル]−4−アセチルアミノイソインドリン−1,3−ジオンを含む固形物形態、その組成物およびその使用」(無効審判請求日 2023-05-31)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許5474043 | (+)−2−[1−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−2−メチルスルホニルエチル]−4−アセチルアミノイソインドリン−1,3−ジオンを含む固形物形態、その組成物およびその使用 | 2023-05-31 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 4件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許5697067号「グラフェン前駆体として用いられる黒鉛系炭素素材」(1回)、次に多い特許は 特許6093829号「ランタン化合物を含む医薬組成物」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許5697067 | グラフェン前駆体として用いられる黒鉛系炭素素材 | 1 回 |
2 | 特許6093829 | ランタン化合物を含む医薬組成物 | 1 回 |
3 | 特許5688669 | グラフェン前駆体として用いられる黒鉛系炭素素材、これを含有するグラフェン分散液及びグラフェン複合体並びにこれを製造する方法 | 1 回 |
4 | 特許6320582 | 半導体発光素子 | 1 回 |
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 異議申立 された特許は 74件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7343065号「積層体、包装体及び包装物品」(異議申立日 2024-03-04)、次は 特許7326514号「フレーク状銀粉およびその製造方法、ならびに導電性ペースト」(異議申立日 2024-02-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7343065 | 積層体、包装体及び包装物品 | 2024-03-04 |
2 | 特許7326514 | フレーク状銀粉およびその製造方法、ならびに導電性ペースト | 2024-02-14 |
3 | 特許7335923 | 溶接方法および溶接装置 | 2024-01-26 |
4 | 特許7313105 | 構造体及び接合体 | 2024-01-22 |
5 | 特許7295324 | フッ化物イオンとリン酸イオンの選択除去性を持つ無機系凝集剤によるヨウ素成分含有水溶液の製造方法 | 2023-12-18 |
6 | 特許7288133 | 銀粉及び銀粉の製造方法ならびに導電性ペースト | 2023-12-05 |
7 | 特許7270430 | 二軸延伸多層フィルム | 2023-11-07 |
8 | 特許7274816 | 金スパッタリングターゲットとその製造方法 | 2023-10-26 |
9 | 特許7269226 | 溶接方法および溶接装置 | 2023-09-05 |
10 | 特許7272345 | リチウムイオン二次電池用正極活物質及びリチウムイオン二次電池 | 2023-08-24 |
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 情報提供 された特許は 157件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-090791号「キャリア芯材」(情報提供日 2024-03-19)、次は 特開2021-057342号「固体イオン伝導体化合物、それを含む固体電解質、それを含む電気化学セル、及びその製造方法」(情報提供日 2024-03-01)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-090791 | キャリア芯材 | 2024-03-19 |
2 | 特開2021-057342 | 固体イオン伝導体化合物、それを含む固体電解質、それを含む電気化学セル、及びその製造方法 | 2024-03-01 |
3 | 特表2023-542727 | 固体イオン伝導体化合物、それを含む固体電解質、それを含む電気化学セル、及びその製造方法 | 2024-03-01 |
4 | 特開2021-190250 | 電極材料、電極、二次電池、電池パック、及び車両 | 2024-02-28 |
5 | 特開2022-070936 | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム、積層体、および成形体、ならびにそれらの製造方法 | 2024-02-26 |
6 | 特開2022-070938 | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム、積層体、および成形体、ならびにそれらの製造方法 | 2024-02-26 |
7 | 特開2022-158883 | 機械構造部品用鋼線およびその製造方法 | 2024-02-21 |
8 | 特開2023-166957 | 化合物及びフマル酸の結晶形態、医薬組成物及びコロナウイルス誘発性疾患の治療方法 | 2024-02-20 |
9 | 特開2023-127218 | 合成マイカ粉体 | 2024-02-20 |
10 | 特許7454108 | 粒子、及びその用途 | 2024-02-16 |
11 | 再公表2020/137329 | 銀ペースト | 2024-01-31 |
12 | 特許7448388 | 成形体着色用樹脂組成物、成形体、およびマスターバッチ | 2024-01-24 |
13 | 特許7447805 | 積層インダクタの内部電極形成用銀ペースト | 2024-01-11 |
14 | 特許7447804 | 積層インダクタの内部電極形成用銀ペースト | 2024-01-11 |
15 | 特開2023-094519 | 光子源及び光子源を作製する方法 | 2023-12-26 |
16 | 特開2022-025722 | 高濃度高分散スラリー組成物及びその製造方法 | 2023-12-21 |
17 | 特表2023-542376 | 水性低固形分ベースコート組成物 | 2023-12-20 |
18 | 特表2023-512475 | 三環式PDE3/PDE4二重阻害剤化合物の医薬組成物 | 2023-11-28 |
19 | 特開2023-113602 | 積層体、証明証、および、積層体の製造方法 | 2023-11-07 |
20 | 特表2023-507959 | 耐腐食性に優れた溶融合金めっき鋼材及びその製造方法 | 2023-11-06 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 327件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 情報提供数が多い特許は 特開2017-088844号「硬化性組成物、硬化物及び積層体」(6回)、次に多い特許は 特許6777405号「導電性粒子、導電性粒子の製造方法、導電材料及び接続構造体」(5回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特開2017-088844 | 硬化性組成物、硬化物及び積層体 | 6 回 |
2 | 特許6777405 | 導電性粒子、導電性粒子の製造方法、導電材料及び接続構造体 | 5 回 |
3 | 特許7274816 | 金スパッタリングターゲットとその製造方法 | 4 回 |
4 | 特許6874373 | ポリプロピレンフィルム、金属膜積層フィルムおよびフィルムコンデンサ並びにそれらの製造方法 | 4 回 |
5 | 特許6743694 | 非水電解質二次電池 | 4 回 |
直近3年間(2021-04-01〜2024-03-31)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 274件 ありました。平均閲覧請求数は 2.1回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特許4940381号「非水電解液二次電池用負極活物質」(閲覧請求日 2024-03-22)、次は 特開2022-158883号「機械構造部品用鋼線およびその製造方法」(閲覧請求日 2024-03-21)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許4940381 | 非水電解液二次電池用負極活物質 | 2024-03-22 |
2 | 特開2022-158883 | 機械構造部品用鋼線およびその製造方法 | 2024-03-21 |
3 | 特表2021-536036 | ライトフィールドディスプレイにおける発光素子のための構造 | 2024-03-19 |
4 | 特開2022-042175 | 半導体装置の検査装置、及び、半導体装置の検査方法 | 2024-03-18 |
5 | 特開2023-011409 | 解析方法 | 2024-03-18 |
6 | 特許7458935 | 計測装置、及び、計測方法 | 2024-03-18 |
7 | 特開2023-012913 | 計測装置、及び、計測方法 | 2024-03-18 |
8 | 特開2021-057342 | 固体イオン伝導体化合物、それを含む固体電解質、それを含む電気化学セル、及びその製造方法 | 2024-03-15 |
9 | 特表2023-542727 | 固体イオン伝導体化合物、それを含む固体電解質、それを含む電気化学セル、及びその製造方法 | 2024-03-15 |
10 | 特開2021-190250 | 電極材料、電極、二次電池、電池パック、及び車両 | 2024-03-08 |
11 | 特開2022-045911 | 耐プラズマコーティング膜、該膜形成用ゾルゲル液、耐プラズマコーティング膜の形成方法及び耐プラズマコーティング膜付き基材 | 2024-02-20 |
12 | 特表2020-533412 | 2−(5−(4−(2−モルホリノエトキシ)フェニル)ピリジン−2−イル)−N−ベンジルアセトアミドの固体形態 | 2024-02-07 |
13 | 特許7448388 | 成形体着色用樹脂組成物、成形体、およびマスターバッチ | 2024-02-01 |
14 | 特許6932746 | エンザルタミドの製剤 | 2024-01-25 |
15 | 特許6404217 | エンザルタミドの製剤 | 2024-01-25 |
16 | 特開2023-094519 | 光子源及び光子源を作製する方法 | 2024-01-24 |
17 | 特開2023-083975 | 負極活物質及びその製造方法、並びにこれを用いたリチウムイオン二次電池 | 2024-01-16 |
18 | 特許4824754 | アンギオテンシン受容体遮断剤とNEP阻害剤との医薬組成物 | 2024-01-09 |
19 | 特表2023-512475 | 三環式PDE3/PDE4二重阻害剤化合物の医薬組成物 | 2024-01-09 |
20 | 特許5846647 | アピキサバン製剤 | 2024-01-05 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 578件 ありました。平均閲覧請求数は 1.7回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6142892号「経口投与用医薬組成物」(30回)、次に多い特許は 特許7343391号「成膜装置及び成膜方法」(17回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6142892 | 経口投与用医薬組成物 | 30 回 |
2 | 特許7343391 | 成膜装置及び成膜方法 | 17 回 |
3 | 特開2017-088844 | 硬化性組成物、硬化物及び積層体 | 16 回 |
4 | 再公表2015/072494 | 新規二酢酸ナトリウム結晶及び該結晶を含有する固形透析用製剤 | 11 回 |
5 | 特許6484465 | 2,2’−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)−1,1’−ビナフタレンの結晶多形体およびその製造方法 | 10 回 |
直近10年間(2014-04-01〜2024-03-31)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 4,125件 ありました。平均被引用数は 3.0回 です。 被引用数が多い特許は 特許6598269号「導波管ディスプレイ」(81回)、次に多い特許は 特許6680793号「導波路回折格子デバイス」(70回)です。
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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