技術分野「レジスト」の直近(2022-01-01〜2022-06-30)の特許出願件数は 386件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-06-30)の特許出願件数 384件 に比べて +2件(0.5%) と僅かに増加しています。
出願件数が最も多い年は 2014年 の1,498件、最も少ない年は 2022年 の646件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計4,840件)の平均値は807件、中央値は818件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 807 件 |
標準偏差 | 330 |
変動係数 | 0.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 646 件 | -17.18 % |
2021 年 | 780 件 | -8.77 % |
2020 年 | 855 件 | -27.60 % |
レジストの過去10年間(2014-01-01〜2024-02-29)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、レジストの特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、レジストの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったレジストの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
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IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。
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レジスト の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「10,403件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
レジストと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の300件、次に多いのは キヤノン株式会社 の17件です。
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 住友化学株式会社 の1,043件、次に多いのは キヤノン株式会社 の329件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
住友化学株式会社 | 1,043 件 |
キヤノン株式会社 | 329 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 102 件 |
三菱電機株式会社 | 101 件 |
株式会社リコー | 91 件 |
株式会社東芝 | 76 件 |
富士通株式会社 | 25 件 |
ソニーグループ株式会社 | 10 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 7 件 |
株式会社日立製作所 | 4 件 |
日本電気株式会社 | 3 件 |
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
レジストと同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の17件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の6件です。
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の329件、次に多いのは 三菱電機株式会社 の101件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 329 件 |
三菱電機株式会社 | 101 件 |
株式会社東芝 | 76 件 |
富士通株式会社 | 25 件 |
ソニーグループ株式会社 | 10 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 7 件 |
日本電気株式会社 | 3 件 |
レジスト の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 76件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計15件)の平均値は2.5件、中央値は1.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の31件、最も少ない年は 2021年 の1件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 2.5 件 |
標準偏差 | 2.2 |
変動係数 | 0.9 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 2 件 | +100 % |
2021 年 | 1 件 | 0 |
2020 年 | 1 件 | -80.0 % |
富士通株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 25件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計8件)の平均値は1.3件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.3であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の6件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1.3 件 |
標準偏差 | 1.8 |
変動係数 | 1.3 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2021 年 | 5 件 | - |
2020 年 | 0 件 | -100 % |
2019 年 | 1 件 | -50.0 % |
パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 7件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計3件)の平均値は0.5件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.5であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の2件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.5 件 |
標準偏差 | 0.8 |
変動係数 | 1.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2019 年 | 2 件 | +100 % |
2018 年 | 1 件 | 0 |
2017 年 | 1 件 | -50.0 % |
ソニーグループ株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 10件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計3件)の平均値は0.5件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.5であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の4件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.5 件 |
標準偏差 | 0.8 |
変動係数 | 1.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2021 年 | 1 件 | - |
2020 年 | 0 件 | - |
2019 年 | 0 件 | -100 % |
キヤノン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 329件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計145件)の平均値は24.2件、中央値は23.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
出願件数が最も多い年は 2016年 の53件、最も少ない年は 2022年 の16件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 24.2 件 |
標準偏差 | 14.0 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 16 件 | -15.79 % |
2021 年 | 19 件 | -32.1 % |
2020 年 | 28 件 | -30.0 % |
レジスト の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、レジストが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 3.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許4192197号「メタルマスク及びその製造方法」(無効審判請求日 2022-02-14)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許4192197 | メタルマスク及びその製造方法 | 2022-02-14 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 無効審判請求 が1回以上なされた特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 無効審判請求数が多い特許は 特許6302430号「ボール配列用マスクの製造方法」(1回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6302430 | ボール配列用マスクの製造方法 | 1 回 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 異議申立 された特許は 24件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7290034号「ドライフィルムレジスト基材用ポリエステルフィルム」(異議申立日 2023-12-05)、次は 特許7266454号「配線基板、積層型配線基板、及び配線基板の製造方法」(異議申立日 2023-10-27)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7290034 | ドライフィルムレジスト基材用ポリエステルフィルム | 2023-12-05 |
2 | 特許7266454 | 配線基板、積層型配線基板、及び配線基板の製造方法 | 2023-10-27 |
3 | 特許7320554 | エッチング方法 | 2023-10-02 |
4 | 特許7226459 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 2023-08-18 |
5 | 特許7241695 | 感光性樹脂組成物、ドライフィルムレジスト及びそれらの硬化物 | 2023-07-11 |
6 | 特許7196389 | 半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法 | 2023-06-27 |
7 | 特許7125533 | 印刷用メタルマスクの製造方法 | 2023-02-17 |
8 | 特許7125534 | 印刷用メタルマスク | 2023-01-30 |
9 | 特許7108565 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 | 2023-01-27 |
10 | 特許7091519 | 配列用マスク | 2022-12-20 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 情報提供 された特許は 49件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2023-172918号「オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法」(情報提供日 2023-12-28)、次は 特開2020-166156号「ブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜並びにカラーフィルター」(情報提供日 2023-12-19)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023-12-28 |
2 | 特開2020-166156 | ブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜並びにカラーフィルター | 2023-12-19 |
3 | 特開2021-107912 | EUVリソグラフィ用途のための鎖切断レジスト組成物 | 2023-12-11 |
4 | 特開2023-104887 | 金属ベース回路基板、及び金属ベース回路基板の製造方法 | 2023-10-19 |
5 | 特開2021-026229 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2023-08-09 |
6 | 特開2023-081813 | 精密メタルマスク及びその製造方法 | 2023-07-20 |
7 | 特許7432216 | 塗膜剥離剤及び塗膜の剥離方法 | 2023-06-14 |
8 | 特許7305671 | ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法 | 2023-05-10 |
9 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-04-21 |
10 | 特許7375548 | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム | 2023-02-28 |
11 | 特許7290034 | ドライフィルムレジスト基材用ポリエステルフィルム | 2023-02-13 |
12 | 特許7299069 | カラーフィルター用顔料分散組成物及びカラーフィルター用顔料分散レジスト組成物 | 2023-02-06 |
13 | 特許7415443 | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及び、プリント配線板の製造方法 | 2023-02-03 |
14 | 特許7241695 | 感光性樹脂組成物、ドライフィルムレジスト及びそれらの硬化物 | 2023-01-20 |
15 | 特許7357505 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2022-12-26 |
16 | 特許7278215 | セラミックス回路基板の製造方法 | 2022-12-16 |
17 | 特許7360798 | 着色組成物、及び、それを含有する着色レジスト組成物 | 2022-12-15 |
18 | 特許7354742 | ドライフィルムレジスト基材用フィルム | 2022-12-14 |
19 | 特許7226459 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 2022-10-11 |
20 | 特許7298665 | ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム | 2022-10-07 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 78件 ありました。平均情報提供数は 1.5回 です。 情報提供数が多い特許は 再公表2017/169833号「半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法」(4回)、次に多い特許は 特許7241695号「感光性樹脂組成物、ドライフィルムレジスト及びそれらの硬化物」(4回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 再公表2017/169833 | 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 | 4 回 |
2 | 特許7241695 | 感光性樹脂組成物、ドライフィルムレジスト及びそれらの硬化物 | 4 回 |
3 | 特許7278215 | セラミックス回路基板の製造方法 | 3 回 |
4 | 特許7005898 | 積層フィルム | 3 回 |
5 | 特許6432072 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 3 回 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 63件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-168651号「銅-亜鉛合金電気めっき液、銅-亜鉛合金バンプの形成方法、ナノポーラス銅バンプの形成方法、銅-亜鉛合金バンプ付き基材及びナノポーラス銅バンプ付き基材」(閲覧請求日 2024-02-20)、次は 特開2023-168652号「電解金めっき液及びその製造方法並びに該めっき液を用いためっき方法」(閲覧請求日 2024-02-20)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-168651 | 銅-亜鉛合金電気めっき液、銅-亜鉛合金バンプの形成方法、ナノポーラス銅バンプの形成方法、銅-亜鉛合金バンプ付き基材及びナノポーラス銅バンプ付き基材 | 2024-02-20 |
2 | 特開2023-168652 | 電解金めっき液及びその製造方法並びに該めっき液を用いためっき方法 | 2024-02-20 |
3 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024-02-05 |
4 | 特開2020-166156 | ブラックレジスト用感光性樹脂組成物およびこれを硬化してなる遮光膜並びにカラーフィルター | 2024-01-16 |
5 | 特開2020-183512 | 導電性組成物、導電体及び積層体 | 2024-01-11 |
6 | 特開2021-107912 | EUVリソグラフィ用途のための鎖切断レジスト組成物 | 2023-12-20 |
7 | 特許7393573 | フォトマスクの製造方法 | 2023-11-28 |
8 | 特開2023-104887 | 金属ベース回路基板、及び金属ベース回路基板の製造方法 | 2023-11-01 |
9 | 特開2021-128304 | カラーフィルタおよび表示装置 | 2023-09-14 |
10 | 特開2021-026229 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2023-09-12 |
11 | 特表2021-528697 | カラーフィルター用赤色顔料組成物 | 2023-08-24 |
12 | 特許7432216 | 塗膜剥離剤及び塗膜の剥離方法 | 2023-07-10 |
13 | 特開2018-123317 | 化合物、カラーフィルター用レジスト組成物、カラーフィルター、繊維染色物、および染色方法 | 2023-05-26 |
14 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-05-23 |
15 | 特許7305671 | ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法 | 2023-05-22 |
16 | 特許7326812 | ブラックマトリクス、カラーフィルタ、表示装置およびブラックマトリクスの製造方法 | 2023-05-01 |
17 | 特許7001805 | シフトレジスタ及びその駆動方法、ゲート駆動回路と表示装置 | 2023-03-20 |
18 | 特許7375548 | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム | 2023-03-10 |
19 | 特許7196389 | 半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法 | 2023-03-03 |
20 | 特許7415443 | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及び、プリント配線板の製造方法 | 2023-02-27 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 132件 ありました。平均閲覧請求数は 1.5回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6432072号「メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法」(6回)、次に多い特許は 特許7247585号「二軸配向熱可塑性樹脂フィルム」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6432072 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 6 回 |
2 | 特許7247585 | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム | 6 回 |
3 | 特許6753669 | 埋設回路を備えるプリント配線板の製造方法及びその製造方法で得られるプリント配線板 | 6 回 |
4 | 特許7305671 | ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法 | 4 回 |
5 | 特許7375548 | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム | 4 回 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 2,776件 ありました。平均被引用数は 3.0回 です。 被引用数が多い特許は 特許6437021号「遊技機」(56回)、次に多い特許は 特開2016-073922号「有機溶剤の精製装置」(48回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6437021 | 遊技機 | 56 回 |
2 | 特開2016-073922 | 有機溶剤の精製装置 | 48 回 |
3 | 特許6287369 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体 | 41 回 |
4 | 特許6710480 | 遊技機 | 39 回 |
5 | 特許5641462 | 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いてマスクを製造する方法 | 34 回 |
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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