技術分野「パターン形成」の直近(2022-01-01〜2022-06-30)の特許出願件数は 318件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-06-30)の特許出願件数 409件 に比べて -91件(-22.2%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 パタニング 」、「 パタンニング 」、「 パタン化 」、「 パタン形成 」、「 パターニング 」、「 パターンニング 」、「 パターン化 」に関する技術用語も検索集合に含みます。
出願件数が最も多い年は 2014年 の2,002件、最も少ない年は 2022年 の492件です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計5,192件)の平均値は865件、中央値は970件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 865 件 |
標準偏差 | 443 |
変動係数 | 0.5 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 492 件 | -46.8 % |
2021 年 | 924 件 | -8.97 % |
2020 年 | 1,015 件 | -18.73 % |
パターン形成の過去10年間(2014-01-01〜2024-02-29)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。
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本レポートは、パターン形成の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、パターン形成の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったパターン形成の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。
パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士
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パターン形成 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。
特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「12,155件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。
パターン形成と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の20件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の11件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
キヤノン株式会社 | 20 件 |
富士フイルム株式会社 | 11 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 4 件 |
エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 3 件 |
株式会社東芝 | 2 件 |
日本電気株式会社 | 2 件 |
富士通株式会社 | 1 件 |
株式会社日立製作所 | 1 件 |
各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 富士フイルム株式会社 の620件、次に多いのは キヤノン株式会社 の387件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
富士フイルム株式会社 | 620 件 |
キヤノン株式会社 | 387 件 |
エーエスエムエルネザーランズビーブイ | 342 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 163 件 |
株式会社東芝 | 77 件 |
シャープ株式会社 | 69 件 |
株式会社日立製作所 | 19 件 |
富士通株式会社 | 17 件 |
ソニーグループ株式会社 | 15 件 |
日本電気株式会社 | 13 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 4 件 |
同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
パターン形成と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。
同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。
なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 富士フイルム株式会社 の11件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の4件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
富士フイルム株式会社 | 11 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 4 件 |
株式会社東芝 | 2 件 |
日本電気株式会社 | 2 件 |
富士通株式会社 | 1 件 |
上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 富士フイルム株式会社 の620件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の163件です。
名前・名称 | 件数 |
---|---|
富士フイルム株式会社 | 620 件 |
セイコーエプソン株式会社 | 163 件 |
株式会社東芝 | 77 件 |
富士通株式会社 | 17 件 |
ソニーグループ株式会社 | 15 件 |
日本電気株式会社 | 13 件 |
パナソニックホールディングス株式会社 | 4 件 |
パターン形成 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
富士フイルム株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 620件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計241件)の平均値は40.2件、中央値は44.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
出願件数が最も多い年は 2015年 の106件、最も少ない年は 2022年 の10件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 40.2 件 |
標準偏差 | 28.5 |
変動係数 | 0.7 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 10 件 | -69.7 % |
2021 年 | 33 件 | -45.0 % |
2020 年 | 60 件 | -26.83 % |
株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 77件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計15件)の平均値は2.5件、中央値は2.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の34件、最も少ない年は 2022年 の2件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 2.5 件 |
標準偏差 | 1.4 |
変動係数 | 0.6 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 2 件 | -33.3 % |
2021 年 | 3 件 | +50.0 % |
2020 年 | 2 件 | -50.0 % |
セイコーエプソン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 163件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計28件)の平均値は4.7件、中央値は3.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は増加傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の53件、最も少ない年は 2020年 の1件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 4.7 件 |
標準偏差 | 4.0 |
変動係数 | 0.9 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 4 件 | +33.3 % |
2021 年 | 3 件 | +200 % |
2020 年 | 1 件 | -88.9 % |
富士通株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 17件 です。
過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計4件)の平均値は0.7件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の5件、最も少ない年は 2020年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 0.7 件 |
標準偏差 | 0.7 |
変動係数 | 1.1 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2022 年 | 1 件 | -50.0 % |
2021 年 | 2 件 | - |
2020 年 | 0 件 | - |
パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 4件 です。
過去10年間の出願件数(2013〜2023年、計18件)の平均値は1.6件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は2.4であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。
出願件数が最も多い年は 2014年 の2件、最も少ない年は 2022年 の0件です。
指標 | 値 |
---|---|
平均値 | 1.6 件 |
標準偏差 | 4.0 |
変動係数 | 2.4 |
年 | 件数 | 前年比 |
---|---|---|
2017 年 | 2 件 | - |
2016 年 | 0 件 | - |
2015 年 | 0 件 | -100 % |
パターン形成 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。
重要特許を確認することで、パターン形成が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。
さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。
佐藤総合特許事務所 代表弁理士
佐藤 寿のコメント
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6172509号「凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、及び、凹凸状シボパターン補修方法」(無効審判請求日 2021-12-16)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 無効審判請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特許6172509 | 凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、及び、凹凸状シボパターン補修方法 | 2021-12-16 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 異議申立 された特許は 21件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7263153号「感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法」(異議申立日 2023-10-24)、次は 特許7320554号「エッチング方法」(異議申立日 2023-10-02)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 異議申立日 |
---|---|---|---|
1 | 特許7263153 | 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法 | 2023-10-24 |
2 | 特許7320554 | エッチング方法 | 2023-10-02 |
3 | 特許7226336 | パターン形成方法 | 2023-08-21 |
4 | 特許7226459 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 2023-08-18 |
5 | 特許7173967 | ナノスケールパターンを有する液晶回折デバイスおよびそれを製造するための方法 | 2023-05-16 |
6 | 特許7168796 | セラミック基板、複合基板及び回路基板並びにセラミック基板の製造方法、複合基板の製造方法、回路基板の製造方法及び複数の回路基板の製造方法 | 2023-04-28 |
7 | 特許7168795 | セラミック基板、複合基板及び回路基板並びにセラミック基板の製造方法、複合基板の製造方法、回路基板の製造方法及び複数の回路基板の製造方法 | 2023-04-27 |
8 | 特許7108565 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 | 2023-01-27 |
9 | 特許7032126 | プリント配線板用基材及びプリント配線板 | 2022-08-24 |
10 | 特許6974799 | 膜密度が向上したレジスト下層膜を形成するための組成物 | 2022-06-01 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 情報提供 された特許は 35件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-092497号「光硬化性組成物及びパターン形成方法」(情報提供日 2024-02-20)、次は 特開2022-059983号「黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス」(情報提供日 2024-02-07)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 情報提供日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2022-092497 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 | 2024-02-20 |
2 | 特開2022-059983 | 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス | 2024-02-07 |
3 | 特開2022-059982 | 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス | 2024-02-07 |
4 | 特表2023-508199 | ウェハクランプの硬いバールの製造および改修 | 2024-01-31 |
5 | 特表2023-553379 | 核形成抑制被膜及び下地金属被膜を用いた導電性堆積層のパターニング | 2024-01-05 |
6 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023-12-28 |
7 | 特開2023-104887 | 金属ベース回路基板、及び金属ベース回路基板の製造方法 | 2023-10-19 |
8 | 特開2021-026229 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2023-08-09 |
9 | 特表2023-511769 | 水溶性有機‐無機ハイブリッドマスク配合物及びその用途 | 2023-07-13 |
10 | 特表2022-525767 | 堆積マスク並びに堆積マスクを製造及び使用する方法 | 2023-06-14 |
11 | 特表2022-553335 | 自動停止研磨組成物及び方法 | 2023-05-12 |
12 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-04-21 |
13 | 特許7357505 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2022-12-26 |
14 | 特許7391762 | 導電性ペースト、および、セラミック配線基板の製造方法 | 2022-11-18 |
15 | 特開2022-048206 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品 | 2022-10-28 |
16 | 特開2020-131552 | キャリアおよび半導体装置の製造方法 | 2022-10-25 |
17 | 特許7168795 | セラミック基板、複合基板及び回路基板並びにセラミック基板の製造方法、複合基板の製造方法、回路基板の製造方法及び複数の回路基板の製造方法 | 2022-10-21 |
18 | 特許7226459 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 2022-10-11 |
19 | 特許7171845 | 樹脂組成物 | 2022-10-07 |
20 | 特許7313136 | 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 | 2022-10-04 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 80件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7051818号「感光性樹脂組成物」(5回)、次に多い特許は 再公表2017/169833号「半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法」(4回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許7051818 | 感光性樹脂組成物 | 5 回 |
2 | 再公表2017/169833 | 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 | 4 回 |
3 | 特許6824195 | 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 | 4 回 |
4 | 特許6721578 | 赤外線吸収組成物、赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、および固体撮像素子 | 3 回 |
5 | 特許6432072 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 3 回 |
直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 70件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-166458号「太陽電池及びその製造方法」(閲覧請求日 2024-02-21)、次は 特開2023-168651号「銅-亜鉛合金電気めっき液、銅-亜鉛合金バンプの形成方法、ナノポーラス銅バンプの形成方法、銅-亜鉛合金バンプ付き基材及びナノポーラス銅バンプ付き基材」(閲覧請求日 2024-02-20)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | 閲覧請求日 |
---|---|---|---|
1 | 特開2023-166458 | 太陽電池及びその製造方法 | 2024-02-21 |
2 | 特開2023-168651 | 銅-亜鉛合金電気めっき液、銅-亜鉛合金バンプの形成方法、ナノポーラス銅バンプの形成方法、銅-亜鉛合金バンプ付き基材及びナノポーラス銅バンプ付き基材 | 2024-02-20 |
3 | 特開2023-172918 | オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024-02-05 |
4 | 特表2023-553379 | 核形成抑制被膜及び下地金属被膜を用いた導電性堆積層のパターニング | 2024-01-26 |
5 | 特開2022-076014 | アンケージングステント | 2024-01-15 |
6 | 特許5085853 | 積層構造における電気的な交差を提供する方法 | 2024-01-09 |
7 | 特許7393573 | フォトマスクの製造方法 | 2023-11-28 |
8 | 特表2021-502331 | 視機能を強化するための組成物及び方法 | 2023-11-14 |
9 | 特開2023-104887 | 金属ベース回路基板、及び金属ベース回路基板の製造方法 | 2023-11-01 |
10 | 特開2021-026229 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2023-09-12 |
11 | 特表2023-511769 | 水溶性有機‐無機ハイブリッドマスク配合物及びその用途 | 2023-08-10 |
12 | 特表2020-537193 | 透過型メタサーフェスレンズ統合 | 2023-07-03 |
13 | 特許6708518 | 基板固定装置及びその製造方法 | 2023-06-29 |
14 | 特表2022-525767 | 堆積マスク並びに堆積マスクを製造及び使用する方法 | 2023-06-22 |
15 | 特許7419170 | ハイブリッド符号化を使用するチップレスRFIDタグ | 2023-06-16 |
16 | 特表2022-553335 | 自動停止研磨組成物及び方法 | 2023-06-08 |
17 | 特許7305946 | レジストパターン形成方法 | 2023-05-23 |
18 | 特開2022-130502 | 固形腫瘍細胞及びエスケープバリアントを治療するための足場 | 2023-05-08 |
19 | 特表2022-507747 | 見込み生産のパターン化された透明導電層 | 2023-02-22 |
20 | 特許7313180 | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法 | 2023-02-21 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 191件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6860500号「感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置」(7回)、次に多い特許は 特許6824195号「着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置」(6回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6860500 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 | 7 回 |
2 | 特許6824195 | 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 | 6 回 |
3 | 特許6432072 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | 6 回 |
4 | 特許6753669 | 埋設回路を備えるプリント配線板の製造方法及びその製造方法で得られるプリント配線板 | 6 回 |
5 | 特許7051818 | 感光性樹脂組成物 | 6 回 |
直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,229件 ありました。平均被引用数は 3.0回 です。 被引用数が多い特許は 特許6734933号「構造化光投影のためのホログラフィック導波管装置」(58回)、次に多い特許は 特開2016-073922号「有機溶剤の精製装置」(48回)です。
- | 特許番号 | 発明の名称 | # |
---|---|---|---|
1 | 特許6734933 | 構造化光投影のためのホログラフィック導波管装置 | 58 回 |
2 | 特開2016-073922 | 有機溶剤の精製装置 | 48 回 |
3 | 特許7047046 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 | 41 回 |
4 | 特許6287369 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体 | 41 回 |
5 | 特許6646659 | 仮想および拡張現実を作成する方法およびシステム | 39 回 |
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佐藤総合特許事務所 代表弁理士
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