最終更新日:2024/03/04

パターン形成 (特許分析レポート・日本)

技術分野「パターン形成」の直近(2022-01-01〜2022-06-30)の特許出願件数は 318件 です。前年同期間(2021-01-01〜2021-06-30)の特許出願件数 409件 に比べて -91件(-22.2%) と大幅に減少しています。 本レポートは、「 パタニング 」、「 パタンニング 」、「 パタン化 」、「 パタン形成 」、「 パターニング 」、「 パターンニング 」、「 パターン化 」に関する技術用語も検索集合に含みます。

出願件数が最も多い年は 2014年 の2,002件、最も少ない年は 2022年 の492件です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計5,192件)の平均値は865件、中央値は970件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.5であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 865
標準偏差 443
変動係数 0.5

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 492 -46.8 %
2021 年 924 -8.97 %
2020 年 1,015 -18.73 %

パターン形成の過去10年間(2014-01-01〜2024-02-29)の特許検索結果[特許データベース 日本]に対する最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向、技術動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

直近5年間の平均出願件数、直近3年間の出願件数推移を確認することで、「パターン形成」の研究開発や知財活動の規模及び動向を簡易的に把握することができます。特許出願には費用がかかることを逆手に取り年間の平均出願件数から研究開発規模を推測したり、研究開発規模に対して知財取得費用が適切かといった視点でこれらの情報を確認することも有益です。なお、直近の1年については未公開の期間があるために、未公開の期間に出願されると予測される出願件数を補って動向を把握する必要があります。

本サービスは、特許検索・特許分析の「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくため、最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを無料で提供しています。

本レポートは、パターン形成の特許件数推移および、同業・競合企業との特許件数比較、パターン形成の上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったパターン形成の知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を含んでおり、 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用いただくことができます。

特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア
記事監修:佐藤 寿
【監修者】

Patent &Marketing運営 佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿 (監修者)

特許事務所における事務所実務経験と、ヤマハ発動機株式会社のグループ会社における知財部門の担当として企業知財での経験と、当該会社における企画部門での戦略立案担当としの経験を活かし、クライアント企業の『事業の勝ち』にこだわったサービスを提供しています。
また、Patent & Marketingでは特許やマーケティングリサーチに役立つリンク集などを提供しています。

記事監修:大瀬 佳之
【監修者】

パテント・インテグレーション株式会社 CEO/弁理士

大瀬 佳之 (監修者)

IoT・サービス関連の特許実務を専門とする弁理士。 企業向けオンライン学習講座のUdemyにおいて、受講者数3,044人以上、レビュー数639以上の知財分野ではトップクラスの講師。
Udemyでは受講者数1,382人以上の『初心者でもわかる特許の書き方講座』、受講者数1,801人以上の『はじめて使うChatGPT講座』を提供。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

生成AIを利用した特許読解アシスタント「サマリア」

特許文書の読解にストレスを感じている皆様へ。 弁理士が開発した「サマリア」は、特許文書読解の時間短縮と理解の深化を実現するAIアシスタントサービスです。 「サマリア」は用語解説、サマリ作成、独自分類付与、スクリーニング、発明評価など知財担当者に寄り添う様々な機能を提供します。 また、英語・中国語にも対応しています。

特許読解アシスタント「サマリア」の詳細は、以下をご覧ください。

特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア

クラウド型知財管理サービス「rootip」 (PR)

自社の煩雑な商標管理に課題意識がありませんか? 商標管理は、ビジネスの成功にとって不可欠ですが、Excelなどの従来の方法では、商標管理に時間と労力を消費するとともに、間違いなども起きやすく成長するビジネスの大きな課題です。

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クラウド型知財管理サービス「rootip」

外国特許分析レポート

「パターン形成」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「パターン形成」の各国における特許出願動向を確認できます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名

パターン形成 日本特許件数 推移

パターン形成 の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

出願件数上位である「パターン形成」の特許出願件数の推移から業界の動向を把握して、あなたの会社の研究開発で注力すべき領域や研究開発の方向性に関する洞察を得ることができます。例えば、出願件数の増加は、何らかの技術を利用した事業化が近づいたことで技術開発を強化していることを示すかもしれません。また、出願件数の減少は研究開発の優先順位の変更や、開発メンバーや知財取得費用といったリソースの制限を示すかもしれません。このようなトレンドから背景を予測し理解することで、今後の製品や技術計画・事業計画が見えてきます。
グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「12,155件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
技術分野:
パターン形成
特許分析期間
2014-01-01〜2024-02-29
対象件数
12,155

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

同業・競合企業 情報  (日本)

パターン形成と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

特許検索機能の紹介

出願人、出願日、類似特許検索などさまざな検索機能を利用することで競合分析なども短時間で行えます。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

同業や競合企業が特許に注力している分野を知ることで、自社の戦略や製品開発の方向性を把握することができます。また、競合企業の特許出願件数の増減傾向を知ることで、競合関係の変化や動向を把握することができます。例えば直近10年間の出願件数の順位と直近3年間の出願件数の順位とを比較することで、順位の上下による業界内でのポジショニングの変動を把握することができます。このような情報をもとに、知財戦略において最も重要な自社の出願戦略を見直すことができます。なお、パテントインテグレーションレポートでは、国内及び主要国の企業や注目技術分野などの出願件数上位1000件までのテーマでレポートを作成しているので、ここに挙がっていない関連する他の企業や技術分野と比較することで、より有益な示唆を得ることもできます。

直近3年間(2022〜2024年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは キヤノン株式会社 の20件、次に多いのは 富士フイルム株式会社 の11件です。

対象期間(2014〜2024年)の特許出願傾向

各企業の出願件数を比較すると、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 富士フイルム株式会社 の620件、次に多いのは キヤノン株式会社 の387件です。

同業・競合企業 日本特許件数 推移

同業11社 の 過去20年間の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

同業や競合企業の長期的な特許出願件数の推移から、長期トレンドと出願件数の山や谷を確認することができます。これにより、例えば研究開発の活発化傾向・減退化傾向、突発的な開発集中時期等を特定することができ、自社の特許出願や知財戦略に対する見直しを行うことができます。また、競合企業の製品や技術開発の傾向を知ることで、自社の新規開発や商品開発の位置づけを把握することができます。なお、このグラフにおいても直近の期間については未公開の期間が存在する可能性があるために、未公開の期間に出願されると予測される出願件数を補って動向を把握する必要があります。
グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 情報  (日本)

パターン形成と同業種の他の企業(競合他社)の特許件数および件数推移を以下に示します。

同業・競合企業との特許件数推移の比較は、各社の知財戦略を理解する上で重要な分析指標となります。同業・競合企業ごとの特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認できます。

なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせ、技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を短時間で比較できます。M&A候補先、アライアンス先の選定などより詳細な特許情報分析にご活用ください。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

どのような企業と共同出願を行っているかを確認することで、「パターン形成」とその企業の関係性を推測できます。共同出願の前提となる資本関係、共同開発関係、共同事業運営関係といった関係や、事業会社であるか研究機関であるかといった組織の属性を前提に、初期研究段階、事業化段階などの技術開発のステージを推測することもできます。また、共同出願を行っている企業が関連する分野でどのような地位を占めているか、特許出願件数の推移が好調であるかなども上位出願人であればその企業のパテントインテグレーションレポートで確認できます。新たなビジネスチャンスの探索やパートナーシップの構築など、事業戦略の検討に活用できす。

直近3年間(2022〜2024年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、直近3年間(2022〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 富士フイルム株式会社 の11件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の4件です。

直近3年間(2022〜2024年)の特許出願傾向
名前・名称 件数
富士フイルム株式会社 11
セイコーエプソン株式会社 4
株式会社東芝 2
日本電気株式会社 2
富士通株式会社 1

対象期間(2014〜2024年)の特許出願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2014〜2024年)において、出願件数が最も多いのは 富士フイルム株式会社 の620件、次に多いのは セイコーエプソン株式会社 の163件です。

上位企業 日本特許件数 推移

パターン形成 の過去20年間の 上位共願人7社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

共同出願を行っている企業グループ会社や共同で開発等を行う企業の出願件数推移を確認することで、長期トレンドと出願件数の山や谷を確認することができます。例えば、共同出願のピークは共同開発が集中的に行われた期間があることを推測でき、企業同士による継続的な共同出願は共同での事業化が行われていることを示します。このように企業間の連携や協力関係の深さ、開発進捗の状況、共通のテクノロジーや関心のある技術分野がわかります。また、グループ内の企業間の戦略変更や協力関係の変化などを把握できます。
グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位企業 詳細   (日本)

富士フイルム株式会社 の特許出願傾向

富士フイルム株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 620件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計241件)の平均値は40.2件、中央値は44.0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.7であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

出願件数が最も多い年は 2015年 の106件、最も少ない年は 2022年 の10件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 40.2
標準偏差 28.5
変動係数 0.7
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 10 -69.7 %
2021 年 33 -45.0 %
2020 年 60 -26.83 %

株式会社東芝 の特許出願傾向

株式会社東芝 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 77件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計15件)の平均値は2.5件、中央値は2.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.6であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の34件、最も少ない年は 2022年 の2件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 2.5
標準偏差 1.4
変動係数 0.6
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 2 -33.3 %
2021 年 3 +50.0 %
2020 年 2 -50.0 %

セイコーエプソン株式会社 の特許出願傾向

セイコーエプソン株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 163件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計28件)の平均値は4.7件、中央値は3.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.9であり、年ごとの出願件数のばらつきは比較的大きいです。

直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は増加傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の53件、最も少ない年は 2020年 の1件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 4.7
標準偏差 4.0
変動係数 0.9
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 4 +33.3 %
2021 年 3 +200 %
2020 年 1 -88.9 %

富士通株式会社 の特許出願傾向

富士通株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 17件 です。

過去5年間の出願件数(2018〜2023年、計4件)の平均値は0.7件、中央値は0.5件です。変動係数(標準偏差/平均値)は1.1であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

直近3年間(2020〜2023年)の出願件数は減少傾向です。 出願件数が最も多い年は 2014年 の5件、最も少ない年は 2020年 の0件です。

過去5年間(2018〜2023年)の出願情報
指標
平均値 0.7
標準偏差 0.7
変動係数 1.1
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2022 年 1 -50.0 %
2021 年 2 -
2020 年 0 -

パナソニックホールディングス株式会社 の特許出願傾向

パナソニックホールディングス株式会社 の分析対象期間(2014〜2024年)の出願件数は 4件 です。

過去10年間の出願件数(2013〜2023年、計18件)の平均値は1.6件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は2.4であり、年ごとの出願件数のばらつきはかなり大きいです。

出願件数が最も多い年は 2014年 の2件、最も少ない年は 2022年 の0件です。

過去10年間(2013〜2023年)の出願情報
指標
平均値 1.6
標準偏差 4.0
変動係数 2.4
直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2017 年 2 -
2016 年 0 -
2015 年 0 -100 %

重要特許情報   (日本)

パターン形成 の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、パターン形成が置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードできます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出できます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

記事監修:佐藤 寿

佐藤総合特許事務所 代表弁理士

佐藤 寿のコメント

「パターン形成」が保有する個々の特許出願に紐付けられた重要指標を検討することで、「パターン形成」が保有する特許の有効性や価値を把握することができます。例えば、他の多数の特許により引用された特許は、自社の技術開発への貢献度が高く、その特許の技術分野における基本特許となる可能性があります。また、そのような特許は、他社出願の権利化を牽制することで競争的に技術開発が行われている注目技術に関する特許かもしれません。
一方、無効審判請求がなされた特許は他社の事業を阻害している可能性が特に高い重要な特許であるといえます。
また、情報提供又は異議申立がなされた特許出願は、無効審判請求ほど致命的ではないものの権利化が認められない第三者がいることから、「パターン形成」の業界における注目特許であるといえます。
いずれにしてもこれらの重要特許の内容を確認することが、知財的なリスク管理の観点でも、ビジネス的に重要な技術を知る意味でも重要になります。

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。
特許読解支援アシスタント・サマリア
特許読解支援アシスタント・サマリア

被無効審判請求 特許

直近の 被無効審判請求特許 一覧

直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 無効審判請求 された特許は 1件 ありました。平均無効審判請求数は 1.0回 です。 最も最近 無効審判請求 された特許は 特許6172509号「凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、及び、凹凸状シボパターン補修方法」(無効審判請求日 2021-12-16)です。

直近の無効審判請求 (2021-03-01〜2024-02-29)
- 特許番号 発明の名称 無効審判請求日
1 特許6172509 凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、及び、凹凸状シボパターン補修方法 2021-12-16

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 異議申立 された特許は 21件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許7263153号「感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法」(異議申立日 2023-10-24)、次は 特許7320554号「エッチング方法」(異議申立日 2023-10-02)です。

直近の異議申立 (2021-03-01〜2024-02-29)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許7263153 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法 2023-10-24
2 特許7320554 エッチング方法 2023-10-02
3 特許7226336 パターン形成方法 2023-08-21
4 特許7226459 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 2023-08-18
5 特許7173967 ナノスケールパターンを有する液晶回折デバイスおよびそれを製造するための方法 2023-05-16
6 特許7168796 セラミック基板、複合基板及び回路基板並びにセラミック基板の製造方法、複合基板の製造方法、回路基板の製造方法及び複数の回路基板の製造方法 2023-04-28
7 特許7168795 セラミック基板、複合基板及び回路基板並びにセラミック基板の製造方法、複合基板の製造方法、回路基板の製造方法及び複数の回路基板の製造方法 2023-04-27
8 特許7108565 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 2023-01-27
9 特許7032126 プリント配線板用基材及びプリント配線板 2022-08-24
10 特許6974799 膜密度が向上したレジスト下層膜を形成するための組成物 2022-06-01

5件の特許を表示する  

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 情報提供 された特許は 35件 ありました。平均情報提供数は 1.3回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特開2022-092497号「光硬化性組成物及びパターン形成方法」(情報提供日 2024-02-20)、次は 特開2022-059983号「黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス」(情報提供日 2024-02-07)です。

直近の情報提供 (2021-03-01〜2024-02-29)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特開2022-092497 光硬化性組成物及びパターン形成方法 2024-02-20
2 特開2022-059983 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス 2024-02-07
3 特開2022-059982 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス 2024-02-07
4 特表2023-508199 ウェハクランプの硬いバールの製造および改修 2024-01-31
5 特表2023-553379 核形成抑制被膜及び下地金属被膜を用いた導電性堆積層のパターニング 2024-01-05
6 特開2023-172918 オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 2023-12-28
7 特開2023-104887 金属ベース回路基板、及び金属ベース回路基板の製造方法 2023-10-19
8 特開2021-026229 ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 2023-08-09
9 特表2023-511769 水溶性有機‐無機ハイブリッドマスク配合物及びその用途 2023-07-13
10 特表2022-525767 堆積マスク並びに堆積マスクを製造及び使用する方法 2023-06-14
11 特表2022-553335 自動停止研磨組成物及び方法 2023-05-12
12 特許7305946 レジストパターン形成方法 2023-04-21
13 特許7357505 ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 2022-12-26
14 特許7391762 導電性ペースト、および、セラミック配線基板の製造方法 2022-11-18
15 特開2022-048206 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、硬化物の製造方法、積層体、及び電子部品 2022-10-28
16 特開2020-131552 キャリアおよび半導体装置の製造方法 2022-10-25
17 特許7168795 セラミック基板、複合基板及び回路基板並びにセラミック基板の製造方法、複合基板の製造方法、回路基板の製造方法及び複数の回路基板の製造方法 2022-10-21
18 特許7226459 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 2022-10-11
19 特許7171845 樹脂組成物 2022-10-07
20 特許7313136 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 2022-10-04

15件の特許を表示する  

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 80件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 情報提供数が多い特許は 特許7051818号「感光性樹脂組成物」(5回)、次に多い特許は 再公表2017/169833号「半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法」(4回)です。

10年間(2014-03-01〜2024-02-29) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許7051818 感光性樹脂組成物 5
2 再公表2017/169833 半導体製造用処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 4
3 特許6824195 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 4
4 特許6721578 赤外線吸収組成物、赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、および固体撮像素子 3
5 特許6432072 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 3

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2021-03-01〜2024-02-29)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 70件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2023-166458号「太陽電池及びその製造方法」(閲覧請求日 2024-02-21)、次は 特開2023-168651号「銅-亜鉛合金電気めっき液、銅-亜鉛合金バンプの形成方法、ナノポーラス銅バンプの形成方法、銅-亜鉛合金バンプ付き基材及びナノポーラス銅バンプ付き基材」(閲覧請求日 2024-02-20)です。

直近の閲覧請求 (2021-03-01〜2024-02-29)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2023-166458 太陽電池及びその製造方法 2024-02-21
2 特開2023-168651 銅-亜鉛合金電気めっき液、銅-亜鉛合金バンプの形成方法、ナノポーラス銅バンプの形成方法、銅-亜鉛合金バンプ付き基材及びナノポーラス銅バンプ付き基材 2024-02-20
3 特開2023-172918 オニウム塩化合物、ポリマー、レジスト組成物及びパターン形成方法 2024-02-05
4 特表2023-553379 核形成抑制被膜及び下地金属被膜を用いた導電性堆積層のパターニング 2024-01-26
5 特開2022-076014 アンケージングステント 2024-01-15
6 特許5085853 積層構造における電気的な交差を提供する方法 2024-01-09
7 特許7393573 フォトマスクの製造方法 2023-11-28
8 特表2021-502331 視機能を強化するための組成物及び方法 2023-11-14
9 特開2023-104887 金属ベース回路基板、及び金属ベース回路基板の製造方法 2023-11-01
10 特開2021-026229 ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 2023-09-12
11 特表2023-511769 水溶性有機‐無機ハイブリッドマスク配合物及びその用途 2023-08-10
12 特表2020-537193 透過型メタサーフェスレンズ統合 2023-07-03
13 特許6708518 基板固定装置及びその製造方法 2023-06-29
14 特表2022-525767 堆積マスク並びに堆積マスクを製造及び使用する方法 2023-06-22
15 特許7419170 ハイブリッド符号化を使用するチップレスRFIDタグ 2023-06-16
16 特表2022-553335 自動停止研磨組成物及び方法 2023-06-08
17 特許7305946 レジストパターン形成方法 2023-05-23
18 特開2022-130502 固形腫瘍細胞及びエスケープバリアントを治療するための足場 2023-05-08
19 特表2022-507747 見込み生産のパターン化された透明導電層 2023-02-22
20 特許7313180 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法 2023-02-21

15件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 191件 ありました。平均閲覧請求数は 1.4回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6860500号「感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置」(7回)、次に多い特許は 特許6824195号「着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置」(6回)です。

10年間(2014-03-01〜2024-02-29) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6860500 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 7
2 特許6824195 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 6
3 特許6432072 メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 6
4 特許6753669 埋設回路を備えるプリント配線板の製造方法及びその製造方法で得られるプリント配線板 6
5 特許7051818 感光性樹脂組成物 6

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2014-03-01〜2024-02-29)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 3,229件 ありました。平均被引用数は 3.0回 です。 被引用数が多い特許は 特許6734933号「構造化光投影のためのホログラフィック導波管装置」(58回)、次に多い特許は 特開2016-073922号「有機溶剤の精製装置」(48回)です。

10年間(2014-03-01〜2024-02-29) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 #
1 特許6734933 構造化光投影のためのホログラフィック導波管装置 58
2 特開2016-073922 有機溶剤の精製装置 48
3 特許7047046 マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 41
4 特許6287369 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体 41
5 特許6646659 仮想および拡張現実を作成する方法およびシステム 39

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主要メディアにおける掲載実績
2023-08-07   新聞記事
日経新聞の全国紙朝刊の記事「東芝、混乱の末の非公開化 15年で売上高6割減」にて、東芝の出願件数減少に関する記事において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
2022-12-26   新聞記事
毎日新聞の全国紙朝刊の記事「日産・ルノー、出資比率下げ交渉越年へ 知財がネックとなるワケは…」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。
2022-11-09   新聞記事
読売新聞の全国紙朝刊の記事「ルノー・日産 協議難航…EV新会社 知財の扱い・資本見直し」にて、ルノー、日産の特許件数の比較内容において、弊社サービス「パテント・インテグレーション」のデータが使用されました。

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