最終更新日:2021/07/04

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド (特許分析レポート・日本)

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの過去10年間(2011-01-01〜2021-06-30)の特許検索結果[特許データベース 日本]を対象とした最新の特許分析情報(IPランドスケープ、パテントマップ・特許マップ)を提供しています。競合各社の特許出願動向を比較したり、重要特許を調べることができます。

本サービスは、特許検索・分析サービスを提供する「パテント・インテグレーション株式会社」が特許調査・特許分析、IPランドスケープに御活用いただくことを目的として無料で提供するレポートサービスです。 最新の特許データ(日米欧・国際公開)に基づく特許分析レポートを提供しています。

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの特許出願件数推移および、同業・競合企業との特許出願件数比較、ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの上位共願人(共同研究相手、アライアンス先)、および重要特許といったハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの知財戦略・知財経営を理解するための基礎的な情報を提供しています。 IPランドスケープ、特許調査・特許分析、知財ビジネス評価書の作成、M&A候補先の選定、事業提携先の選定など様々な知財業務で自由にご活用ください。

記事監修:弁理士 大瀬佳之
記事監修:大瀬 佳之
・弁理士(2007-)

東京大学博士課程にて理論物理学を研究後、メーカー知財部、企業研究所にて知財実務を経験。 現在は、IT x スタートアップを専門領域とする「IPTech特許業務法人」所属。

スタートアップ企業、新規事業創出における発明相談、特許出願、知財戦略および特許網構築が専門。 特許出願経験がない方にもわかりやすくフレンドリーな対応を心掛けています。 オンライン学習サービスUdemyにて「初心者向け知財講座」を運営。

はじめに

近年、「IPランドスケープ(IPL)」という考え方が注目されてきています。

IPランドスケープは、特許情報に限定されず、非特許情報(論文、ニュースリリース、株式情報、マーケット情報)などのビジネス情報を含め統合・分析し、経営戦略・事業戦略 策定に知財情報分析を通じて知財経営を実現していく一連の活動を示します。 知財情報を活用したオープン&クローズ戦略の立案、M&A候補先の選定、事業提携先の探索、知財戦略 策定なども含まれる総合的な考え方で、近年、注目されつつあります。

IPランドスケープには通常、特許調査および特許分析が含まれます。 特許調査・特許分析では、主に技術ごとの企業の市場ポジションおよび技術動向・開発動向の把握、具体的には、自社および他社がどのような知財を保有しており、何が強み・弱みであり、どのように知財活用の取り組みを行おうとしているのか、各企業の事業戦略・知財戦略を理解することが重要といえます。

本調査レポートの内容を確認し、より詳細な特許調査・特許分析に興味・関心を持たれることがあるかもしれません。 弊社は、リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えた統合特許検索・特許分析サービス「パテント・インテグレーション」を提供しており、 初心者でもウェブブラウザから短時間で企業・技術ごとの特許情報を調べたり、分析を行うことができます。 詳細な、特許調査、特許分析、IPランドスケープを行う際にはご利用を是非、御検討ください。

パテント・インテグレーションは、数万件の特許集合を視覚的に可視化するパテント・ランドスケープ機能を備えており、 経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。 是非、「パテント・インテグレーション」を御活用いただき、ワンランク上の知財活動を実現してください。

外国特許分析レポート

「ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド」について、以下の外国特許分析レポートが見つかりました。 クリックすることで「ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド」の各国における特許出願動向を確認することができます。

各国の特許出願動向
国名 出願人・権利者名
日本 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
米国 HONEYWELL INTERNATIONAL INC
欧州 HONEYWELL INTERNATIONAL INC
PCT HONEYWELL INTERNATIONAL INC

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの特許出願概要   (日本)

出願人・権利者「ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド」の直近(2019-01-01〜2019-12-31)の特許出願件数は 32件 です。前年同期間(2018-01-01〜2018-12-31)の特許出願件数 100件 に比べて -68件(-68.0%) と大幅に減少しています。

出願件数が最も多い年は 2014年 の166件、最も少ない年は 2019年 の32件です。

過去5年間の出願件数(2015〜2019年、計581件)の平均値は116件、中央値は135件です。変動係数(標準偏差/平均値)は0.4であり、年ごとの出願件数のばらつきは大きいです。

過去5年間(2015〜2019年)の出願情報
指標
平均値 116
標準偏差 47.1
変動係数 0.4

直近3年間(2017〜2019年)の出願件数は減少傾向です。

直近3年間の出願傾向
件数 前年比
2019 年 32 -68.0 %
2018 年 100 -34.2 %
2017 年 152 +12.59 %

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド 日本特許件数 推移

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド の過去 20年間 の特許出願件数推移(日本)を以下に示します。

特許件数推移は、特許分析において最も基本的な分析指標です。特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。なお、特許は出願から公開までに一年半のタイムラグがあるため、一年半より直近の状況については分析できない点に注意する必要があります。

本レポートでは、企業・技術ごとの特許件数推移のみしか確認できませんが、「パテント・インテグレーション」では、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごとに競合他社との特許出願件数を比較したり短時間で調査を行うことができます。

パテントマップ機能による件数集計

特許件数推移を確認することで、企業・技術ごとの技術開発、研究開発への注力状況を確認することができます。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

パテント・ランドスケープ   ({{ld.d.db_name|country_map}})

パテント・ランドスケープは、技術キーワードごとの特許出願の分布(出願注力領域)を視覚的に可視化したものです。ヒートマップ等高線で示される山や島は、特許出願のクラスタ(塊)を示しており、ヒートマップの赤い領域は、キーワードに関連する多数の特許出願がなされていることを示します。

パテント・ランドスケープにより、ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドにおいてどのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか直感的に理解することができます。 出願年のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、過去の出願傾向(どういった技術領域に注力してきたのか)の変遷を確認することができます。

出願人・権利者のチェックボックスにチェックしフィルタすることにより、各出願人ごとにどのような技術領域で出願が行われ、提携・アライアンスが行われているのか、視覚的に把握することができます。 特許分析、IPランドスケープのヒントとしてご利用ください。

また、このように特許データを視覚的に可視化することにより、経営戦略や事業戦略の策定に際して、自社および競合企業がどのような技術的ポジションに位置しているか、経営陣、事業責任者に対し説得力をもって示すことができます。

パテント・インテグレーション」では、パテント・ランドスケープ画面の任意の位置をクリックすることで、具体的な特許出願内容を確認することができます。 また、他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで詳細な技術分野ごと出願人ごとのポジションを短時間で確認することができます。 IPランドスケープにおいて各社の知財戦略の仮説検討のヒントにご活用ください。 リーズナブルな価格設定と初心者でも扱いやすい簡単なユーザインタフェースを備えており、ワンランク上の知財活動にご活用ください。

技術ポジションの可視化

パテント・ランドスケープにより、どのような特許出願が行われ、技術的なポジションが確立されようとしているか複雑な作業を行うことなしに分析することができます。 

特徴語 (重要度)

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド の特許出願によく使われている「単語(特徴語)」を以下に示します。 重要度が高い特徴語ほど多くの特許に使われています。

{{item.label}} ({{ld.floor(item.weight * 100 / ld.word_weight_max)}})

検索集合 (分析対象)

本特許分析レポートは、以下の特許データベースを用いて、以下の検索式・分析期間により検索された「1,173件」の特許検索集合を対象に作成されたものです。 特許分析結果、パテントマップ、パテント・ランドスケープなどの特許情報は、IPランドスケープを含め特許調査・分析・知財戦略業務に自由にご利用いただけます。

特許データベース
日本公開・公表・再公表・登録特許
特許検索式
出願人・権利者:
ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
特許分析期間
2011-01-01〜2021-06-30
対象件数
1,173

分析結果は各国特許庁発行の特許公報データに基づき算定しています。

上位共願人 情報  (日本)

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドの上位共願人との共有特許の件数推移を以下に示します。

上位共願人を確認することで、ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドがどのような会社と提携し技術開発を進めているのか、研究開発戦略・知財戦略の参考情報とすることができます。

また、出願件数推移を確認することで、過去にどのような企業と共同研究を行っていたのか、ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドのアライアンス、提携、共同研究開発の経緯を確認することができます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、具体的にどのような会社と、どのような発明を共同出願しているか短時間で調査することができます。

共同出願人の調査

パテント・インテグレーションを利用することで、短時間で共同出願人を調べることができます。 

対象期間(2011〜2021年)の特許共願傾向

上位共願人のうち、対象期間(2011〜2021年)において、共願件数が最も多いのは テーテーテヒ・コンピューターテヒニック・アクチェンゲゼルシャフト の3件、次に多いのは アース製薬株式会社 の1件です。

上位共願人 日本特許件数 推移

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド の過去20年間の 上位共願人6社 の日本特許の出願件数推移を示すパテントマップを以下に示します。

グラフ種は左上のメニューから選択できます。 データはクリップボード、CSV形式、TSV形式でファイル出力できます。 また、グラフ画像をSVG、PNG、JPG形式でファイル出力できます。 データを利用する際の利用条件は「コンテンツについて」をご確認ください。

上位共願人 詳細   (日本)

テーテーテヒ・コンピューターテヒニック・アクチェンゲゼルシャフト の特許共願傾向

テーテーテヒ・コンピューターテヒニック・アクチェンゲゼルシャフト の分析対象期間(2011〜2021年)の共願件数は 3件 です。

過去10年間の共願件数(2010〜2019年、計3件)の平均値は0.3件、中央値は0件です。変動係数(標準偏差/平均値)は3.0であり、年ごとの共願件数のばらつきはかなり大きいです。

共願件数が最も多い年は 2012年 の3件、最も少ない年は 2011年 の0件です。

過去10年間(2010〜2019年)の共願情報
指標
平均値 0.3
標準偏差 0.9
変動係数 3.0
直近3年間の共願傾向
件数 前年比
2012 年 3 -
2011 年 0 -
2010 年 0 -

重要特許情報   (日本)

ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド の日本特許のうち、第三者から無効審判請求や異議申立が提起された特許や、特許審査過程において審査官により引用された重要性が高い特許を以下に示します。

重要特許を確認することで、ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドが置かれている事業競争環境(熾烈な競争環境か、寡占市場かなど)の知見を得られます。 一般に、無効審判請求が多い企業は知財紛争の多い事業環境で事業を展開していると理解できます。

さらに詳しい情報を調査したい場合は、「パテント・インテグレーション」を利用することで、各企業の被引用、被無効審判特許を検索しダウンロードすることができます。 他のキーワードや特許分類と掛け合わせることで複数の競合企業を含めた特許集合から重要特許を短時間で抽出することができます。重要特許調査へのご活用をご検討ください。

重要特許情報の調査

被引用回数が多い特許、無効審判請求数が多い特許など、短時間で重要特許を調べることができます。 

用語解説

被引用
他の特許(日米欧)の審査過程の拒絶理由通知等に引用された特許(審査官引用)であることを示します。 被引用回数が多いほど、他の特許の拒絶理由通知において引用されたことを示し、重要性が高いと考えられます。
無効審判請求
特許を無効にするための手続きを第三者から請求されたことを示します。 第三者の事業に影響を与える可能性が高く、重要性が高いと考えられます。
異議申立
第三者が特許庁へ、特許の有効性に関して改めて審理するよう申し立てたことを示します。 無効審判同様、重要性が高いと考えられます。
情報提供
出願された特許に対して、第三者が審査に有益な情報を特許庁へ提供したことを示します。 通常、当該特許の権利化を妨げるために行うため、重要性が高いと考えられます。
閲覧請求
第三者が特許庁へ、特許の包袋(特許庁と出願人とが交わした文書一式)を閲覧を請求したことを示します。 無効審判、異議申立、情報提供に先立ち包袋を確認することが多く、重要性が高い特許であると考えられます。

被異議申立 特許

直近の 被異議申立特許 一覧

直近3年間(2018-07-01〜2021-06-30)に、第三者から 異議申立 された特許は 3件 ありました。平均異議申立数は 1.0回 です。 最も最近 異議申立 された特許は 特許6367410号「フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス」(異議申立日 2018-12-18)、次は 特許6336532号「1,1,1,2−テトラフルオロプロペンと1,1,1,2−テトラフルオロエタンの共沸混合物様組成物」(異議申立日 2018-12-06)です。

直近の異議申立 (2018-07-01〜2021-06-30)
- 特許番号 発明の名称 異議申立日
1 特許6367410 フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス 2018-12-18
2 特許6336532 1,1,1,2−テトラフルオロプロペンと1,1,1,2−テトラフルオロエタンの共沸混合物様組成物 2018-12-06
3 特許6266147 シス−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロ−2−ブテンの共沸混合物様の組成物 2018-07-20

被情報提供 特許

直近の 被情報提供特許 一覧

直近3年間(2018-07-01〜2021-06-30)に、第三者から 情報提供 された特許は 5件 ありました。平均情報提供数は 1.4回 です。 最も最近 情報提供 された特許は 特許6883103号「カルコゲナイドスパッタリングターゲット及びその製造方法」(情報提供日 2020-05-08)、次は 特開2017-197753号「フッ素化アルケン冷媒組成物」(情報提供日 2019-12-13)です。

直近の情報提供 (2018-07-01〜2021-06-30)
- 特許番号 発明の名称 情報提供日
1 特許6883103 カルコゲナイドスパッタリングターゲット及びその製造方法 2020-05-08
2 特開2017-197753 フッ素化アルケン冷媒組成物 2019-12-13
3 特表2019-525979 ゲルタイプの熱界面材料 2019-12-10
4 特表2017-534777 高強度の小径釣糸 2018-12-18
5 特開2018-131599 シス−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロ−2−ブテンの組成物及び使用 2018-09-20

被情報提供数 上位特許

直近10年間(2011-07-01〜2021-06-30)に出願された特許のうち、第三者により 情報提供 が1回以上なされた特許は 12件 ありました。平均情報提供数は 1.8回 です。 情報提供数が多い特許は 特開2014-159604号「フッ素化アルケン冷媒組成物」(4回)、次に多い特許は 特開2013-166962号「フッ素化アルケン冷媒組成物」(2回)です。

10年間(2011-07-01〜2021-06-30) 情報提供数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特開2014-159604 フッ素化アルケン冷媒組成物 4
2 特開2013-166962 フッ素化アルケン冷媒組成物 2
3 特開2017-197753 フッ素化アルケン冷媒組成物 2
4 特許6322068 オプトエレクトロニクスデバイス用の組成物、層、及びフィルム、並びにこれらの使用 2
5 特許6243337 向上した物理特性及び接着特性を有する表面処理ヤーン及び布帛並びに製造方法 2

被閲覧請求 特許

直近の 被閲覧請求特許 一覧

直近3年間(2018-07-01〜2021-06-30)に、第三者から 閲覧請求 された特許は 17件 ありました。平均閲覧請求数は 3.2回 です。 最も最近 閲覧請求 された特許は 特開2018-100084号「失速状態を検出するための装置および方法」(閲覧請求日 2021-05-11)、次は 特表2019-525979号「ゲルタイプの熱界面材料」(閲覧請求日 2021-01-12)です。

直近の閲覧請求 (2018-07-01〜2021-06-30)
- 特許番号 発明の名称 閲覧請求日
1 特開2018-100084 失速状態を検出するための装置および方法 2021-05-11
2 特表2019-525979 ゲルタイプの熱界面材料 2021-01-12
3 特表2019-513592 高浮力複合材料 2020-10-28
4 特開2017-197753 フッ素化アルケン冷媒組成物 2020-10-16
5 特開2019-116639 フッ素置換オレフィンを含有する組成物 2020-10-16
6 特開2018-188659 フッ素置換オレフィンを含有する組成物 2020-10-16
7 特許6883103 カルコゲナイドスパッタリングターゲット及びその製造方法 2020-07-13
8 特許6478336 フッ素置換オレフィンを含有する組成物 2019-02-14
9 特開2017-115151 1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン及び1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む混合物 2018-12-26
10 特許6594923 フッ素置換オレフィンを含有する組成物 2018-11-20
11 特開2017-128733 フッ素置換オレフィンを含有する組成物 2018-09-18
12 特許6557602 瀝青組成物及びその製造方法 2018-08-28
13 特表2013-543510 フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス 2018-08-27
14 特許6367410 フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス 2018-08-27
15 特許6203912 フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス 2018-08-27
16 特許6336532 1,1,1,2−テトラフルオロプロペンと1,1,1,2−テトラフルオロエタンの共沸混合物様組成物 2018-08-15
17 特許6266147 シス−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロ−2−ブテンの共沸混合物様の組成物 2018-08-08

12件の特許を表示する  

被閲覧請求数 上位特許

直近10年間(2011-07-01〜2021-06-30)に出願された特許のうち、第三者により 閲覧請求 が1回以上なされた特許は 50件 ありました。平均閲覧請求数は 2.6回 です。 閲覧請求数が多い特許は 特許6367410号「フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス」(20回)、次に多い特許は 特開2014-159604号「フッ素化アルケン冷媒組成物」(12回)です。

10年間(2011-07-01〜2021-06-30) 閲覧請求数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特許6367410 フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス 20
2 特開2014-159604 フッ素化アルケン冷媒組成物 12
3 特許6203912 フッ素化オレフィンを製造するための統合プロセス 12
4 特開2016-104886 フッ素化アルケン冷媒組成物 6
5 特許6322068 オプトエレクトロニクスデバイス用の組成物、層、及びフィルム、並びにこれらの使用 4

被引用 特許

被引用数 上位特許

直近10年間(2011-07-01〜2021-06-30)に出願された特許のうち、他の特許の審査過程において1回以上 引用 された特許は 224件 ありました。平均被引用数は 2.4回 です。 被引用数が多い特許は 特開2014-040231号「自主的な空間飛行計画および仮想空間抑制システム」(36回)、次に多い特許は 特許6017157号「データネットワークのための多用途送信元ポートの実施」(16回)です。

10年間(2011-07-01〜2021-06-30) 被引用数上位特許
- 特許番号 発明の名称 回数
1 特開2014-040231 自主的な空間飛行計画および仮想空間抑制システム 36
2 特許6017157 データネットワークのための多用途送信元ポートの実施 16
3 特許6310176 フッ素置換されたオレフィンを含む起泡剤及び組成物、並びに起泡方法 14
4 特許5974004 トランス−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを製造するための連続低温プロセス 10
5 特許6049707 ハロゲン化オレフィン発泡剤を含むポリウレタンフォームプレミックス及びそれから製造されるフォーム 9

コンテンツについて

データ、文書、図表類に関する権利は全て「統合特許検索・分析サービス パテント・インテグレーション」に帰属します。 社内資料、社外報告資料等(有償・無償問わず)に掲載する際は出典「パテント・インテグレーション レポート, URL: https://patent-i.com/」を明記の上、ご利用くださいますようお願いいたします。

特許データは最新の特許庁発行の特許データに基づき集計・解析・分析を行っています。 掲載・分析結果については十分気をつけておりますが、データの正否については保証しておりません。 ご理解の上、ご利用をお願いいたします。

その他、本サービスについてお気づきの点がございましたら、「お問い合わせ」よりお気軽にお知らせください。